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layer substrateの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 39496



例文

In a semiconductor element, a conductive film 21 is installed on an opaque conductive substrate 20, and a semiconductor layer 22 including one or above elements selected from the elements of a group IIIA in a periodic table and more than one element selected from the elements of a group VA is disposed on the conductive film.例文帳に追加

不透明導電性基板20上に、導電膜21を有し、該導電膜上に、周期率表におけるIIIA族元素から選択される1以上の元素、及びVA族元素から選択される1以上の元素を含有する半導体層22を有することを特徴とする半導体素子である。 - 特許庁

In the organic LED panel having barrier ribs made of photosensitive resin, other than an insulating layer, a ultraviolet light is irradiated to the substrate after the barrier ribs are formed and it can prevent the disconnection at the negative electrode more securely and a high display quality and a high yield of the organic LED panel can be obtained.例文帳に追加

また、絶縁膜とは別に、感光性樹脂からなる隔壁を設けた有機LEDパネルにおいても、隔壁を形成した後に基板に紫外光を照射することにより、陰極5における断線をより確実に防止でき、表示品位および歩留まりの高い有機LEDパネルが得られる。 - 特許庁

To provide a method for plating a printed circuit board, which prevents nickel of a substrate layer from diffusing into the surface in an assembly step, by filling cavities of a pad for bonding of the printed circuit board with reduction plating, which are formed during plating, and which improves the reliability of an electroless plating step.例文帳に追加

プリント回路基板のボンディング用パッドのメッキ時に発生する空隙を還元メッキによって塞ぐことにより、アセンブリ工程時に下地ニッケルが表面に拡散することを防止して無電解メッキ工程の信頼性を向上させることが可能なプリント回路基板のメッキ方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a piezoelectric resonance device which has high sealing reliability and high mass-productivity and its manufacturing method while suppressing an influence of an alloy layer with infavorable solderability generated on an abutting surface when a piezoelectric element is temporarily fixed by using ultrasonic thermocompression bonding, in the case the element is connected to a base substrate and sealed by soldering.例文帳に追加

本発明は、圧電素子をベース基板にハンダにて接続及び封止する場合に、超音波熱圧着を用いて仮止めを行う際に当接面に発生するハンダ接合性の悪い合金層の影響を抑えて、封止信頼性が高く量産性の高い圧電共振装置とその製造方法を提供する。 - 特許庁

例文

To provide a method of manufacturing a semiconductor device which can execute high-quality heat treatment of a semiconductor substrate having a large area in a low temperature process by enabling to suppress adhesion of particles on a semiconductor layer, to improve stability of flame and uniformity of heat, and to promote cooling of a nozzle head.例文帳に追加

パーティクルの半導体層への付着を抑制することができ、火炎の安定性向上と均熱化促進を図ることができ、さらに、ノズルヘッドの冷却を促進することができ、低温プロセスで大面積の半導体基板の熱処理を品質良く行うことが可能な半導体装置の製造方法等を提供する。 - 特許庁


例文

The alkaline battery is provided with a spiral shape electrode group in which a nickel positive electrode 11 in which a positive electrode active material having mainly nickel hydroxide is filled into a sintered substrate 11c having a porous sintered nickel layer 11b formed on a core 11a and a negative electrode 12 are wound in spiral shape through a separator 13.例文帳に追加

本発明のアルカリ蓄電池は、芯体11aに多孔性焼結ニッケル層11bが形成された焼結基板11cに水酸化ニッケルを主体とする正極活物質が充填されたニッケル正極11と負極12とがセパレータ13を介して渦巻状に巻回された渦巻状電極群を備えている。 - 特許庁

To provide a polyimide metal laminate which has a polyimide resin layer excellent in modulus of elasticity at high temperatures, transparency, and dimensional stability, does not cause problems such as sinking, wiring dislocation, peeling, and plating permeation, and is used widely in a TAB tape processing line and suitable for a substrate for COF.例文帳に追加

高温での弾性率、透明性、寸法安定性に優れたポリイミド樹脂層を持つポリイミド金属積層体を提供すること、沈み込みや、配線ずれ、剥離、メッキの染み込みなどの問題を発生しない、TABテープ加工ラインで広く使用されている、COF用基材として適するポリイミド金属積層体を提供すること。 - 特許庁

In this adhesive sheet for fixing flexible printed wiring board, the adhesive agent layer composed of an acrylic copolymer containing a monomeric main component comprising a (meth)acrylate having a 4-14C alkyl group and a functional group in the molecule and an aluminum-based crosslinking agent is formed on at least one surface of a substrate.例文帳に追加

フレキシブルプリント配線板固定用接着シートは、アルキル基の炭素数が4〜14の(メタ)アクリル酸アルキルエステルを単量体主成分とし且つ分子内に官能基を含有しているアクリル系コポリマーと、アルミニウム系架橋剤とからなる粘着剤層が、基材の少なくとも片面に形成されている。 - 特許庁

To provide a manufacturing method preferable for manufacturing a semiconductor device including, particularly, a PN column layer capable of embedding a trench where there occur no void and mating face even with a large aspect ratio trench, in a manufacturing method of a semiconductor device manufactured by forming a trench in a semiconductor substrate and then embedding the trench.例文帳に追加

半導体基板にトレンチを形成した後、当該トレンチを埋め込んで製造する半導体装置の製造方法であって、大きなアスペクト比のトレンチであってもボイドや合わせ面が発生しないトレンチの埋め込みが可能で、特にPNコラム層を有する半導体装置の製造に好適な製造方法を提供する。 - 特許庁

例文

Thereafter, a lower electrode 141 and upper electrodes 142 are respectively formed on the rear surface of the substrate 11 and on the surface of the N-type AlGaN semiconductor layer 123.例文帳に追加

次いで、13族元素窒化物発光ダイオード層12表面から、青色蛍光体層部131、緑色蛍光体層部132及び赤色蛍光体層部133を各々この順でエピタキシャル成長させて積層し、3層からなる酸化亜鉛結晶蛍光体層13を形成し、下部電極141及び上部電極142を形成して得る。 - 特許庁

例文

The substrate of a semiconductor integrated circuit is spin coated with diamond colloid solution produced by dispersing fine diamond particles of nanometer size into water or an organic solution and then dried to form an insulation layer of low permittivity porous structure diamond film where the fine diamond particles are dispersed uniformly through air gaps of nanometer size (nano pores).例文帳に追加

半導体集積回路などの基板に、ナノメートルサイズのダイヤモンド微粒子を水あるいは有機溶液に分散したダイヤモンドコロイド溶液をスピンコートなどにより塗布し乾燥させることにより、ダイヤモンド微粒子がナノメートルサイズの空隙(ナノポア)をもって均一に分散された低誘電率のポーラス構造ダイヤモンド膜を形成する。 - 特許庁

When a reticle 10 formed of silicon is mounted on the reticle stage 11 by pressing the ground terminals 53 against a surface of the reticle 10, the reticle 10 is electrostatically stuck with the electrostatic chuck 13, tips of the pin-shaped ground terminals 53 break through an oxide layer 10c of the reticle 10 and reach a silicon retaining substrate 10a.例文帳に追加

シリコン製のレチクル10をレチクルステージ11に載置する際に、アース端子53をレチクル10の表面に押し当てると、レチクル10は静電チャック13に静電吸着されるとともに、ピン状アース端子53の先端がレチクル10の酸化層10cを突き破ってシリコン支持基板10aに達する。 - 特許庁

A light shielding layer 13 is formed on the solid protection film 9 in order to cover at least one part of the circuit of the nondisplay area, in the electroluminescent display formed with the solid protection film 9 on a two-dimensional light emitting element array arranged two-dimensionally with a plurality of elements on a substrate 1.例文帳に追加

基板1の上に複数の素子が2次元に配置された2次元発光素子アレイの上に固体保護膜9が形成された電場発光表示装置において、少なくとも非表示領域の回路の一部を覆うように、前記固体保護膜9上に遮光層13が形成されていることを特徴とする。 - 特許庁

By heating the solder adhesive, the solder grains are melted and flocculated so as to join the terminal part 4a and an electrode 3 by solder 5, the resin is made to flow out to the circumference of the electronic component 4, and the electronic component 4 and the substrate 2 are made to adhere by a resin layer 6.例文帳に追加

前記半田接着剤を加熱することにより、半田粒子が溶融し凝集して前記端子部4aと電極3間は半田5により接合され、前記電子部品4の周囲に前記樹脂が流れ出し、前記電子部品4の周囲と前記基板2間は樹脂層6によって接着される。 - 特許庁

To provide a method for producing an inorganic board, capable of producing the inorganic board containing mineral fibers, an inorganic powdery material and a binder as indispensable components and having an embossed uneven pattern having a good close adhesion with a decorative layer in a good productivity, and a highly designed inorganic decorative board by using the inorganic board as a substrate.例文帳に追加

鉱物質繊維と無機質粉状体と結合剤とを必須成分として含む、化粧層との密着性が良いエンボス凹凸模様を有する無機質板を、生産性良く製造することができる無機質板の製造方法と、この無機質板を基板とする高意匠の無機質化粧板を提供する。 - 特許庁

The substrate for the display device has a gas barrier layer containing inorganic particles containing ultrafine particles whose weight average particle diameter (D_50) is 10 to 200 nm and whose aspect ratio is below 20 and an organic material, and a plastic film, and a value of retardation (Re) at a wavelength of 632.8 nm is 15 nm or less.例文帳に追加

重量平均粒径(D_50)が10〜200nm、アスペクト比が20未満の超微粒子を含有する無機粒子及び有機素材を含むガスバリヤ層と、プラスチックフィルムとを有し、波長632.8nmにおけるレターデーション(Re)の値が、15nm以下であることを特徴とする表示装置用基板である。 - 特許庁

The surface of a substrate 2 on which an LED chip 6 is mounted is resin-sealed by the sealing resin section 3 to which the phosphor that converts light emission in wavelength from the chip 6 is added, and a surface resin layer 4 of a desired appearance color further different from the section 3 is formed on the surface of the section 3.例文帳に追加

LLEDチップ6が搭載された基板2の表面が、LEDチップ6からの発光を波長変換する蛍光体が添加された封止樹脂部3により樹脂封止され、その封止樹脂部3の表面上に更に封止樹脂部3とは異なる所望の外観色の表面樹脂層4を設ける。 - 特許庁

In this method of forming the film having the composition containing Si, C, and N and used as the etching stopper layer, the film having the composition containing Si, C, and N is formed on a substrate disposed in a reaction chamber having a heated heating body by causing the vapor of an amino silicon component to exist in the reaction chamber.例文帳に追加

例えば、エッチングストッパ層として用いられるSiとCとNとを含む組成の膜を設ける方法であって、加熱された加熱体を有する反応室内にアミノシリコン化合物の蒸気を存在させることにより、反応室内に配置された基体上にSiとCとNとを含む組成の膜を設ける膜形成方法。 - 特許庁

The electrooptical device comprises pixel electrodes (9a), TFTs (30) connected thereto, upper shade layers (73, 6a) covering the upsides of at least channel regions of the TFTs, and a lower shade layer (11a) covering the downsides of at least the channel regions of the TFTs on a TFT array substrate (10).例文帳に追加

電気光学装置は、TFTアレイ基板(10)上に、画素電極(9a)と、これに接続されたTFT(30)と、このTFTの少なくともチャネル領域を上側から覆う上側遮光層(73、6a)と、このTFTの少なくともチャネル領域を下側から覆う下側遮光層(11a)とを備える。 - 特許庁

For example, in a disk such as BD (blue laser disk), which performs optical reading from a cover layer side, a chip-on optical disk arranging a IC memory chip which constitute the small memory device a with communication function, and an antenna coil is provided on or in a substrate opposite to an optical reading surface.例文帳に追加

例えばBD(青色レーザディスク)のように、カバー層側から光学的読み取りを行うディスクにおいて、光学的読み取り面とは反対側の基板上あるいは基板中に通信機能付き小型メモリ装置を構成するICメモリチップとアンテナコイルを配置したチップオン光ディスクを提供するものである。 - 特許庁

To provide a mask substrate for charged particle beam exposure where a silicon oxide film is applicable to mask manufacturing in thickness and a silicon film layer has a thickness appropriate to a mask membrane, and which is a film that is of low stress, without defect, and excellent in uniformity, and its manufacturing method.例文帳に追加

荷電粒子線露光用マスク基板としてのSOI基板において、シリコン酸化膜をマスク製造に適した厚さとし、シリコン薄膜層をマスクメンブレンに適した厚さで、かつ低応力で欠陥の無い均一性に優れた薄膜とする荷電粒子線露光用マスク基板とその製造方法を提供する。 - 特許庁

The aluminum nitride substrate 10 for carrying the light emitting element includes an aluminum nitride base material 11, the wiring 12 provided on the surface of the aluminum nitride base material 11 to carry the light emitting element, and a white reflective layer 15 provided on the surface of the aluminum nitride base material 11 while having aluminum nitride as a main component.例文帳に追加

本発明に係る発光素子搭載用窒化アルミニウム基板10は、窒化アルミニウム基材11と、窒化アルミニウム基材11の表面に設けられ、発光素子が搭載される配線12と、窒化アルミニウム基材11の表面に設けられ、酸化アルミニウムを主成分とする白色の反射層15と、を備える。 - 特許庁

The nonvolatile semiconductor memory device 1 is configured by using: a charge storing layer 7 laminated on a semiconductor substrate 2 via a first insulation film 6; a second insulation film 13; a third insulation film 14; a fourth insulation film 15; a fifth insulation film 16; a sixth insulation film 17; and a control gate electrode 9.例文帳に追加

不揮発性半導体記憶装置1を、半導体基板2上に第1の絶縁膜6を介して積層して設けた電荷蓄積層7、第2の絶縁膜13、第3の絶縁膜14、第4の絶縁膜15、第5の絶縁膜16、第6の絶縁膜17、および制御ゲート電極9を用いて構成する。 - 特許庁

To control the thickness in a substrate and improve the planarity of a surface in which a junction terminal of a semiconductor chip exists by making an area ratio, in which a conductor exists in each minute region, uniform, when a region, in which a junction terminal of a semiconductor chip exists, is divided into minute regions in each wiring layer.例文帳に追加

各配線層において、半導体チップの接合端子が存在する領域で、この領域を微小領域に分割した際に、各微小領域での導体が存在する面積率を揃えることで、基板の厚みを制御し、半導体チップの接合端子が存在する表面の平坦性を高めることを目的とする。 - 特許庁

In the processing method, a photosensitive planographic printing plate obtained by disposing a photosensitive layer on an aluminum substrate with 0.1-8 mg/m2 coating weight of Si atoms is exposed, developed with a developing solution containing nonreducing sugar and a base (other than silicates) and desensitized in two or more processing baths.例文帳に追加

Si原子付着量が0.1〜8mg/m^2であるアルミニウム支持体上に感光層を設けてなる感光性平版印刷版を、露光し、非還元糖及び塩基(但し珪酸塩を除く)を含む現像液で現像後、不感脂化処理を2浴以上の処理浴で行うことを特徴とする感光性平版印刷版の処理方法。 - 特許庁

The optical element 10 wherein a pair of substrates 21 and 22 comprising the substrate 22 comprising a uniaxial crystal are formed and a liquid crystal layer 20 is interposed between the pair of substrates 21 and 22 is characterized in that the uniaxial crystal has an optical axis in a direction other than the normal direction of the substrates.例文帳に追加

一軸結晶からなる基板22を含んでなる一対の基板21、22を形成し、一対の基板21、22の間に液晶層20を挟持してなり、一軸結晶は、基板法線方向以外の方向に光学軸を有するものであることを特徴とする光学素子10などにより課題を解決した。 - 特許庁

An organic EL element 40 is provided with a 1st electrode 62 placed on the side of a supporting substrate 100, a 2nd electrode 66 placed opposed to the 1st electrode 62, and an organic light emitting layer 64 formed of an organic compound having a light emitting capability placed between the 1st electrode 52 and the 2nd electrode 66.例文帳に追加

有機EL素子40は、支持基板100側に配置された第1電極62と、第1電極62に対向配置された第2電極66と、第1電極62と第2電極66との間に配置され発光能を有する有機化合物によって形成された有機発光層64と、を備えている。 - 特許庁

To provide an inkjet recording paper which is optimized in curling properties at printing and is excellent in smear resistance of a recording paper at margin-less printing and continuous supply properties, in the inkjet recording paper provided with a porous ink absorbing layer on a support coating both the surfaces of a paper substrate with a polyolefin resin.例文帳に追加

本発明の目的は、紙基体の両面をポリオレフィン樹脂で被覆した支持体上に、多孔質インク吸収層を設けたインクジェット記録用紙において、プリント時のカール特性を最適化すると共に、縁なし全面印刷時の記録用紙の汚れ耐性及び連続給送適性に優れたインクジェット記録用紙を提供する。 - 特許庁

To provide a resist substrate and contact exposure method that improve conditions of extension in exposure time and decrease in resolution, while preventing resist deposition on a photomask after exposure, and also perform good exposure even on the occurrence of surge on a surface of a resist layer and deposition of contamination, or mixing of air bubbles.例文帳に追加

密着露光方法において、露光後のフォトマスクへのレジスト付着を防止しつつ、露光時間の延長や解像力低下を改善し、且つレジスト層表面のうねりや異物の付着、気泡の混入が生じた場合においても良好な露光を行うことができるレジスト基板及び密着露光方法を提供する。 - 特許庁

The pixel has a reflection portion 36 which reflects light incident from the side of a color substrate 12 by a reflective layer 44 and a transmission portion 37 which transmits light from behind a thin-film transistor 14, and is provided with the alignment control projection 40c which controls alignment of liquid crystal molecules 48 in the reflection portion.例文帳に追加

画素は、カラーフィルタ基板12側から入射する光を反射層44で反射する反射部36と、薄膜トランジスタ基板14の背面から光を透過する透過部37とを有し、反射部36内に液晶分子48の配向を規制する配向規制突起40cが設けられた構成とする。 - 特許庁

A copper solution containing CuSO_45H_2O as a copper source, potassium sodium tartrate 4H_2O or trisodium citrate as a complexing agent, glyoxylate, glyoxylic acid or sodium phosphate as a reducing agent, a sulfur organic compound as a stabilizing agent, and a pH adjusting agent, is used to from the copper interconnection layer on the substrate.例文帳に追加

銅源としてのCuSO_45H_2O、錯化剤としての酒石酸カリウムナトリウム4H_2Oまたはクエン酸三ナトリウム、還元剤としてのグリオキシル酸塩、グリオキシル酸またはリン酸ナトリウム、安定剤としての有機硫黄化合物、およびpH調節剤を含む銅溶液を使用し、基板上に銅相互接続層を形成する。 - 特許庁

A multilayer membrane 3 laminated on a glass substrate surface 21 of a half mirror 1 is a nine-layer structure where the material quality, refractive index and optical thickness of each of multilayer membranes are suitably set and the light transmission/reflection characteristics due to (s) and (p) polarized components thereof are equal for both the wavelengths of 650 and 780 nm.例文帳に追加

ハーフミラー1のガラス基板表面21に積層された多層薄膜3は、各多層薄膜の材質、屈折率および光学的膜厚を適切に設定した9層構造であり、そのs、p偏光成分に対する光透過・反射特性は、650、780nm波長のいずれについても同一である。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin laminate having high sensitivity and little decrease in sensitivity (sensitivity change) by a hold time, and to provide a method for forming a resist pattern including steps of forming a photosensitive resin layer on a substrate using the above photosensitive resin laminate, exposing and developing.例文帳に追加

本発明は高感度でホールドタイムによる感度低下(感度変化)の少ない感光性樹脂積層体を提供すること、ならびに、この感光性樹脂積層体を用いて、基板上に感光性樹脂層を形成し、露光し、現像する工程を含むレジストパタ-ンの形成方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

A wafer level package process has steps of: providing a lower cover wafer 210 and an upper cover wafer 230; providing a semiconductor wafer including a plurality of MEMS devices on a substrate layer; joining the semiconductor wafer to a first surface of the lower cover wafer; and joining a second surface of the upper cover wafer to the semiconductor wafer.例文帳に追加

下カバーウェハ210および上カバーウェハ230を提供するステップと、基板層上に複数のMEMS装置を含む半導体ウェハを提供するステップと、半導体ウェハを下カバーウェハの第1表面に接合するステップと、上カバーウェハの第2表面を半導体ウェハに接合するステップと、を有する。 - 特許庁

A photosensitive printing element with a substrate and a photopolymerizable layer containing a photopolymerizable composition containing at least one elastomer binder, at least one monomer, an initiator having sensitivity to active radiation and at least one photo-bleachable compound having sensitivity to active radiation is disclosed.例文帳に追加

支持体、および少なくとも1種のエラストマーバインダと、少なくとも1種のモノマーと、活性輻射線に感受性を有する開始剤と、活性輻射線に感受性を有する少なくとも1種の光退色性化合物とを含有する光重合性組成物を含む光重合性層を有する感光性印刷エレメントを開示する。 - 特許庁

In an optical filter with a filter layer containing a dye and a polymer binder on a transparent substrate, a non-associated dye having its absorption maximum in the wavelength range of 560-620 nm and ≤100 nm half-width of the absorption maximum is used and a UV absorber having high light resistance is further added.例文帳に追加

透明支持体上に染料およびポリマーバインダーを含むフィルター層を有する光学フィルターにおいて、560乃至620nmの波長領域に吸収極大を有し、吸収極大の半値幅が100nm以下の非会合状態の染料を用いて、さらに耐光性が高い紫外線吸収剤を添加する。 - 特許庁

This semiconductor device comprises an elastic insulative stress buffer resin layer 14, which coats the semiconductor substrate 11 and has openings 14a exposing electrode pads 12, and a conductive adhesive 16 which is formed in the openings 14a to connect the electrode pads 12 and the metal bumps 25.例文帳に追加

この半導体装置は、半導体基板11を覆い電極パッド12を露出する開口部14aを備えた弾性を有する絶縁性応力緩衝樹脂層14と、開口部14a内に形成され電極パッド12と金属バンプ25とを接続する導電性接着剤16とを備えている。 - 特許庁

In the substrate 1, a 2nd optical waveguide is formed so that it is connected in series with the 1st optical waveguide, and then a DC electrode 14 for operation point control and ground electrodes 15-1 and 15-2 are formed without forming any buffer layer to constitute the operation point control part 20.例文帳に追加

そして、基板1内に第1の光導波路2と直列に接続されるように第2の光導波路12を形成し、バッファ層を形成することなく動作点制御用DC電極14並びに接地電極15−1及び15−2を形成することによって、動作点制御部30を構成する。 - 特許庁

A gain coupling DFB laser including a mechanism to periodically modulate a gain in the resonator direction, namely diffraction grating G1, and an optical modulator including a mechanism to apply an inverse bias field to a waveguide layer 23A including the diffraction grating G2, namely electrode 28 are integrated face to face on the same substrate 21.例文帳に追加

共振器方向に周期的な利得の変調機構即ち回折格子G1を有する利得結合DFBレーザ及び回折格子G2を含む導波層23Aに逆バイアス電界を印加する機構即ち電極28を有する光変調器を同一基板21上で衝き合わせ集積化してなることを特徴とする。 - 特許庁

To provide a plasma etching method and a plug formation method, with which deposition of a foreign matter to a copper or a failure in shape caused by production of copper sulfide, in plasma etching using sulfur hexafluoride as plasma generation gas on a substrate with copper and silicon present on its front layer.例文帳に追加

表層部に銅とシリコンが存在する基板を対象として、六フッ化硫黄をプラズマ発生用ガスとして用いたプラズマエッチングにおいて、硫化銅の生成に起因して生じる銅部分への異物付着や形状不良を防止することができるプラズマエッチング方法およびプラグ形成方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

A semiconductor device, which is provided with an integrated injection logic (IIL1) formed on a semiconductor substrate 11 and has the PNP bipolar transistor construction, has a layer at least of insulating films 17 formed on the base region 20 of the PNP bipolar transistor structure being made of a silicon film 16.例文帳に追加

半導体基板11に形成されたものでPNPバイポーラトランジスタ構造を有してなるインテグレーテッド・インジェクション・ロジック(IIL1)を備えた半導体装置において、PNPバイポーラトランジスタ構造のベース領域20上に形成された絶縁膜17のうちの少なくとも1層は窒化シリコン膜16からなるものである。 - 特許庁

In the heat-sensitive recording material provided with a heat- sensitive color developing layer comprising an ordinarily colorless or light- colored color developing compound and a developing compound coloring the color developing compound by heating as main ingredients on a substrate, the heat-sensitive recording material is characterized by containing a polystyrene sulfonate.例文帳に追加

支持体上に通常無色ないし淡色の発色性化合物、該発色性化合物を熱時発色させうる顕色性化合物を主要成分として含有する感熱発色層を設けた感熱記録材料において、ポリスチレンスルホン酸塩を含有することを特徴とする感熱記録材料。 - 特許庁

When a silicon crystal layer is grown on a silicon exposed surface on a silicon substrate 17 where an insulating film is formed in a reactive chamber 12, such a low-temperature and low water partial-pressure condition as growth temperature is 600°C while a water partial pressure within the reactive chamber 12 is 2×10-8 pa or less, is provided.例文帳に追加

本発明では、反応チャンバー12内で、絶縁膜44が成膜されたシリコン基板17上のシリコン露出面45にシリコン結晶層を成長させる際に、成長温度を600℃とし、反応チャンバー12内の水分圧力を2×10^-8Pa以下とした、低温・低水分圧条件にしている。 - 特許庁

In the method for manufacturing the transparent conductive film, by using a magnetron sputtering in which a gas having carbon dioxide 50 vol% or less added in hydrogen or argon is used as a carrier gas, a carbon film of which the refractive index is controlled to 1.35-1.85 is formed on a transparent conductive oxide layer having zinc oxide as a main component on the transparent substrate.例文帳に追加

水素またはアルゴンに二酸化炭素を50体積%以下添加したガスをキャリアガスとして使用するマグネトロンスパッタにより、透明基板上に酸化亜鉛を主成分とする透明導電酸化物層の表面に屈折率を1.35〜1.85に制御したカーボン膜を形成することが可能となる。 - 特許庁

A lower film 24 of the antireflection film 16 is commonly used as a stopper film during patterning, and a distance t1 between an edge of the light-shielding film 17 defined by interleaving a plurality of films 23, 24 of the lower layer of the antireflection film 16 and the semiconductor substrate 2 is set to be smaller than a film thickness t2 of the gate insulating film 13.例文帳に追加

そして、反射防止膜16のうちの下層の膜24がパターニングの際のストッパー膜を兼ねており、反射防止膜16のうちの下層の複数膜23,24を挟んで規定される遮光膜17の端部と半導体基板2との間の間隔t1が、ゲート絶縁膜13の膜厚t2より小さく設定される。 - 特許庁

As to a thermal recording material provided with a thermal color developing layer which contains a colorless or light colored coloring compound and a color developing compound which makes it develop color developed upon heating as main components on a substrate, the thermal material is characterized by containing p-methyl phenol as a color developing compound and a compound represented by the following formula (1).例文帳に追加

支持体上に通常無色ないし淡色の発色性化合物、該発色性化合物を熱時発色させうる顕色性化合物を主要成分として含有する感熱発色層を設けた感熱記録材料において、顕色性化合物としてp−メンチルフェノールと下記式(1) - 特許庁

The inkjet recording medium including an ink receiving layer on a substrate, wherein the MD/CD, which is a ratio of the fiber orientation in the MD direction to that in the CD direction, is ≥1.65, and the elongation in water in the CD direction 600 seconds after start of dipping in water is ≤1.75%.例文帳に追加

支持体上にインク受容層を有するインクジェット記録媒体であって、CD方向に対するMD方向の繊維配向比であるMD/CDが1.65以上であり、浸水開始から600秒後におけるCD方向の水中伸度が1.75%以下であることを特徴とするインクジェット記録媒体。 - 特許庁

The electro-optic apparatus is equipped with a pixel electrode (9a) and a TFT (30) connected to the electrode on a TFT array substrate (10), an upper light shielding layers (300, 6a) covering the upper side of at least the channel region of the TFT, and a lower light shielding layer (11a) covering the lower side of the channel region.例文帳に追加

電気光学装置は、TFTアレイ基板(10)上に、画素電極(9a)と、これに接続されたTFT(30)と、このTFTの少なくともチャネル領域を上側から覆う上側遮光層(300、6a)と、このTFTの少なくともチャネル領域を下側から覆う下側遮光層(11a)とを備える。 - 特許庁

The ceramic circuit board comprises a plurality of metallization layers 2, formed on a ceramic substrate 1 where a metal circuit board 3 of aluminum is fixed to a part of the metallization layer 2 and the relation S≥9×10-5i2 is satisfied between the cross-sectional area S (mm2) of the metal circuit board 3 and a flowing current i (A).例文帳に追加

セラミック基板1に複数のメタライズ配線層2を形成して成るセラミック回路基板であって、前記メタライズ配線層2の一部にアルミニウムから成る金属回路板3が取着されており、かつ該金属回路板3の断面積をS(mm^2)、流れる電流をi(A)とした時、S≧9×10^-5i^2を満足する。 - 特許庁

例文

In this inkjet recording material for the pigment ink, at least one ink receiving layer mainly containing inorganic particulates is provided on a substrate, and applied by using a coating liquid containing an aqueous medium dispersion composition of wet ground silica, which is obtained in the state of being dispersed at a pH of 7-13.例文帳に追加

支持体上に無機微粒子を主体に含有する少なくとも1層のインク受容層を設けた顔料インク用インクジェット記録材料において、該インク受容層が、pHが7〜13で分散して得られた湿式粉砕シリカの水性媒体分散液組成物を含有する塗布液を用いて塗設されたこと - 特許庁




  
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