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layer substrateの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 39496件
The thermosensitive recording body comprises a thermal recording layer containing a colorless or light-colored basic leuco dye and a developer as main components on a substrate, in which the thermal recording layer includes amorphous silica having an average particle diameter of 4-10 μm, amorphous silica having an average particle diameter of 1-4 μm, and calcium carbonate having an average particle diameter of at least 3 μm.例文帳に追加
支持体上に無色又は淡色の塩基性ロイコ染料及び顕色剤を主成分として含有する感熱記録層を設けた感熱記録体において、該感熱記録層が、平均粒子径が4〜10μmの非晶質シリカ、平均粒子径が1〜4μmの非晶質シリカ、及び平均粒子径3μm以上の炭酸カルシウムを含有することを特徴とする感熱記録体である。 - 特許庁
The molecule element is formed by forming an organic monomolecular layer 2 by chemical bonding on a surface of a semiconductor substrate 1 which is made of at least one kind of element selected from a group of Si, Ge, and C and has a diamond type structure, and fixing at least one kind of at least one photochromic molecule 3 which reversibly vary in electric conductivity by light irradiation to the organic monomolecular layer 2 by chemical bonding.例文帳に追加
Si、GeおよびCからなる群より選ばれた少なくとも一種の元素からなり、ダイアモンド型構造を有する半導体基板1の表面に有機単分子層2を化学結合により形成し、この有機単分子層2に、光照射によって電気伝導度が可逆的に変化する少なくとも一種の少なくとも一つのフォトクロミック分子3を化学結合により固定することで分子素子を形成する。 - 特許庁
In the manufacture of the fereoelectric element comprising a lower electrode, a lead- base ferrolectric layer formed on the lower electrode, and an upper electrode formed on the lead-base ferroelectric layer, at least the upper electrode, of either the upper and lower electrodes, is formed through depositing CaRuO3 into a thickness of 50 nm or smaller by organic metal compound CVD method at a substrate temperature 65°C or lower.例文帳に追加
下部電極と下部電極上の鉛基強誘電体層と鉛基強誘電体層上の上部電極を有する強誘電体素子の製造方法において下部電極および上部電極のうち少なくとも上部電極を、有機金属化合物化学的気相堆積法を用い、基板温度を650℃以下の条件下でCaRuO_3 を堆積して形成し、かつ膜厚を50nm以下とする製造方法。 - 特許庁
The method for manufacturing the semiconductor device includes the steps of forming a first insulating film 25 on the upper side of a silicon substrate 10, forming an impurity layer 22 to the first insulating film 25 by implanting impurity ion in the predetermined depth of the first insulating film 25, and thereafter reforming the impurity layer 22 to a barrier insulating film 23 by annealing the first insulating film.例文帳に追加
シリコン基板10の上方に第1絶縁膜25を形成する工程と、第1絶縁膜25の所定の深さに不純物をイオン注入することにより、第1絶縁膜25に不純物層22を形成する工程と、不純物層22を形成した後、第1絶縁膜をアニールすることにより、不純物層22をバリア絶縁膜23に改質する工程とを有する半導体装置の製造方法による。 - 特許庁
In the direct drawing type original film for lithography having an image receiving layer on a water-resistant substrate, the image receiving layer contains at least needle-like fillers and an integral resin which is constituted of a composite of a resin containing the bond of metal atoms with the oxygen atoms as the intermediary and an organic polymer containing a group capable of forming a hydrogen bond with this resin.例文帳に追加
耐水性支持体上に画像受理層を有する直描型平版印刷用原版において、画像受理層中に、針状フィラー、及び金属原子が酸素原子を介して繋がった結合含有の樹脂と該樹脂と水素結合を形成し得る基を含有する有機ポリマーとの複合体からなる結着樹脂を少なくとも含有することを特徴とする直描型平版印刷用原版。 - 特許庁
A heat fusible layer containing an ink repellent binder and hydrophobic particles and forming a hydrophobic surface by the fusion of at least one of the above components under heat and an acid crosslinkable layer containing a compound which generates an acid under light or heat and a compound which is crosslinked by the generated acid and having its alkali solubility lowered by crosslinking are successively disposed on a substrate.例文帳に追加
支持体上に、インキ反発性バインダー及び疎水性粒子を含有し、熱により前記インキ反発性バインダー及び疎水性粒子の少なくとも一方が融着し疎水性表面を形成する熱融着層と、光又は熱により酸を発生する化合物、及び発生した酸により架橋する化合物を含有し、架橋によりアルカリ可溶性が低下する酸架橋層とを、順次設ける。 - 特許庁
An acid crosslinkable layer containing a compound which generates an acid under light or heat and a compound which is crosslinked by the generated acid and having its alkali solubility lowered by crosslinking and a heat fusible layer containing an ink repellent binder and hydrophobic particles and forming a hydrophobic surface by the fusion of at least one of the above components under heat are successively disposed on a substrate.例文帳に追加
支持体上に、光又は熱により酸を発生する化合物、及び発生した酸により架橋する化合物を含有し、架橋によりアルカリ可溶性が低下する酸架橋層と、インキ反発性バインダー及び疎水性粒子を含有し、熱により前記インキ反発性バインダー及び疎水性粒子の少なくとも一方が融着し疎水性表面を形成する熱融着層とを、順次設ける。 - 特許庁
The light transmission resin layer 2 is formed of a cured resin, such as a light curing resin or an electron beam curing resin which is provided with parting property with respect to the separating substrate layer 1.例文帳に追加
ポリエチレンテレフタレート等からなる剥離用基材層1上に設けた光透過性の樹脂層2と、可逆性感熱記録層3と、被転写物に対する接着面に接着層5とを備えた転写シートであって、光透過性の樹脂層2を、剥離用基材層1に対して離型性のある光硬化性樹脂または電子線硬化樹脂のような樹脂硬化物で形成した可逆性感熱記録材の転写シートAとする。 - 特許庁
In the inkjet recording material having at least one ink accepting layer on a substrate, the ink accepting layer contains inorganic particulates having an average primary particle diameter of 50 nm or less and an average secondary particle diameter of 500 nm or less and a hydrophilic binder and besides contains at least either a water-soluble aluminum compound or a water-soluble zirconium compound and 3-5C alkane diol.例文帳に追加
支持体上に、少なくとも1層のインク受容層を有するインクジェット記録材料において、該インク受容層が平均一次粒子径が50nm以下かつ平均二次粒子径が500nm以下の無機微粒子と親水性バインダーを含有し、かつ水溶性アルミニウム化合物または水溶性ジルコニウム化合物の少なくとも一方と炭素数3〜5のアルカンジオールを含有することを特徴とするインクジェット記録材料。 - 特許庁
For the printing method for using the lithographic printing plate material capable of developing on the printer having an image forming layer on a substrate, at least a part of the image forming layer can be removed by dampening water or the dampening water and ink and the dampening water is used by circulation while it is filtered by using a filter during printing.例文帳に追加
基材上に画像形成層を有する印刷機上現像が可能な平版印刷版材料を用いた印刷方法において、該画像形成層の少なくとも一部は湿し水若しくは湿し水とインクで除去可能であり、且つ、印刷中に湿し水をフィルタを用いて濾過しながら循環して使用することを特徴とする印刷機上現像が可能な平版印刷版材料を用いた印刷方法。 - 特許庁
The optical switch has a cavity by forming a defective layer 14 consisting of the materials having the electro-optic effects, transparent electrodes 13 arranged on both sides of the defective layer 14, dielectric multilayer films 12 arranged so as to sandwich the transparent electrode 13 on a substrate 11 and makes incident light of P wave on the transparent electrode 13 incident at a predetermined slanting incident angle.例文帳に追加
電気光学(electro−optic effect)を有する材料でなる欠陥層14と、欠陥層14の両側に配置された透明電極13と、透明電極13を挟持するように配置された誘電体多層膜12と、を基板11上に形成したキャビティーを有し、透明電極13に対してP波の入射光を所定の斜入射角で入射する。 - 特許庁
The antireflection laminate has a low refractive index layer on a transparent substrate, wherein the low refractive index layer is a cured product of a coating agent containing a monomer (a) having an acryloyl or methacryloyl group and an epoxy or amino group, an acryl or methacryl modified and amino or epoxy modified dimethylsilicone oil (b) and hollow silica fine particles (c).例文帳に追加
透明基材上に低屈折率層を有する反射防止積層体であって、前記低屈折率層が、アクリロイル基若しくはメタクリロイル基、及び、エポキシ基若しくはアミノ基を、有するモノマー(a)、アクリル変性若しくはメタアクリル変性、及び、アミノ変性若しくはエポキシ変性の、ジメチルシリコーンオイル(b)、並びに中空シリカ微粒子(c)を含有する、コーティング剤の、硬化物であることを特徴とする反射防止積層体。 - 特許庁
To realize a method of manufacturing a semiconductor device, where a layer which is liable to adhere uniformly to the surface of a high permittivity oxide film, and an NSG film of a TEOS material can be uniformly grown in a manufacturing method, where a lower electrode layer, a high permittivity oxide film, and an NSG film of TEOS material material are successively formed on a semiconductor substrate.例文帳に追加
半導体基板上に下部電極層、高誘電率酸化膜、TEOS原料を用いたNSG膜を順次形成する工程を含む半導体素子の製造方法において、高誘電率酸化膜表面に均一に吸着しやすい層を形成することができ、そのためTEOS原料を用いたNSG膜を均一に成長させることが可能となる半導体素子の製造方法を提供する。 - 特許庁
By pressing this circular arc with a fine pattern 3 formed for the circumstance of the mask substrate 2 to a photosensitive resin layer to which this fine pattern 3 is transferred by exposure, the interval between the fine pattern 3 and photosensitive resin layer can be controlled to be shorter than the wavelength of exposure light so that the fine pattern 3 can be transferred satisfactorily by exposure.例文帳に追加
マスク基体2の外周面の微細パターン3が形成された円弧形状部分をこの微細パターン3を露光転写しようとする感光性樹脂層に押し当てることにより、微細パターン3と感光性樹脂層との間隔を露光光の波長以下に抑えることができ、露光光として近接場光を用いた露光転写を行うことができ、微細パターン3の露光転写を良好に行うことができる。 - 特許庁
The method for manufacturing the semiconductor device having a structure with a crystalline semiconductor layer with a catalitic element added, a gate insulating film, and a gate electrode laminated on an insulating substrate in this order includes a light irradiating process for irradiating the light that passes through the crystalline semiconductor layer and is absorbed by the gate electrode to the gate electrode.例文帳に追加
絶縁基板上に、触媒元素が添加された結晶性半導体層、ゲート絶縁膜及びゲート電極がこの順に積層された構造を有する半導体装置の製造方法であって、上記製造方法は、結晶性半導体層を透過し、かつゲート電極に吸収される光をゲート電極に対して照射する光照射工程を含む半導体装置の製造方法である。 - 特許庁
In an MIS(Metal Insulator Semiconductor) type semiconductor device by the manufacturing method of forming a mixed layer composed of Si and one or more kinds of metal elements, oxidizing the mixed layer, and forming a gate insulation film; a high capacity MIS transistor element with suppressed low dielectric constant SiO_2 formation is manufactured between an Si single crystal substrate and the gate insulation film.例文帳に追加
本発明は、MIS(Metal Insulator Semiconductor)型半導体装置において、Siと一種以上の金属元素からなる混合層を形成し、前記混合層を酸化処理しゲート絶縁膜を形成する製造方法により、Si単結晶基板とゲート絶縁膜間に低誘電率なSiO_2形成を抑制した高容量なMISトランジスタ素子を作製することができるものである。 - 特許庁
The liquid crystal display is provided with gate electrode wiring 2 formed on a transparent insulating substrate 1, a gate insulating film 3 covering the gate electrode wiring 2, a semiconductor layer 10 formed on the gate insulating film 3, a source electrode 6b, source wiring 6a and a drain electrode 7 which are formed on the semiconductor layer 10 and a pixel electrode 9 connected to the drain electrode 7.例文帳に追加
本発明に係る液晶表示装置は、透明絶縁基板1上に形成されたゲート電極・配線2と、ゲート電極・配線2を覆うゲート絶縁膜3と、ゲート絶縁膜3上に形成された半導体層10と、半導体層10上に形成されたソース電極6b、ソース配線6a及びドレイン電極7と、ドレイン電極7に接続された画素電極9とを備えたものである。 - 特許庁
In the method of manufacturing the while light emitting organic electroluminescent element which has an anode, a cathode, and a light emitting layer including at least one layer of phosphorescent light emitting dopant between the anode and cathode formed on a substrate, a direct current having current density 5-50 times that during drive is applied for one second or longer to ten minutes or shorter to actualize aging.例文帳に追加
基板上に少なくとも陽極、陰極、及び該陽極と陰極間に少なくとも1層のリン光発光ドーパントを含む発光層を有する白色発光有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法において、駆動時の5〜50倍の電流密度の直流電流を1秒以上10分以下印加することでエージングすることを特徴とする白色発光有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。 - 特許庁
An inlay lens 109 having a convex lens shape only downward is formed without increasing a distance between an on-chip micro lens 112 and a silicon substrate as a lens formation region, by realizing high refractive index in a metallic ion implantation region alone in a first flattening layer 108 by injecting metallic ion into the first flattening layer 108 of an existing interlaminar film without using an inlay lens material.例文帳に追加
層内レンズ材料を用いずに、既存層間膜の第1平坦化層108中に金属イオンを注入することによって、第1平坦化層108中の金属イオン注入領域のみ高屈折率化してレンズ形成領域として、オンチップマイクロレンズ112とシリコン基板間の距離を増加させることなく、下にのみ凸形状のレンズ形状を持つ層内レンズ109を形成する。 - 特許庁
The method of manufacturing a silicon carbide semiconductor device includes a deteriorated layer removal step, wherein the deteriorated layer formed by annealing for activating impurities ion-implanted to the silicon carbide substrate is removed by executing, in order, a first etching step of anisotropic plasma etching using an inert gas and a second etching step of isotropic plasma etching using an inert gas.例文帳に追加
炭化珪素基板にイオン注入された不純物を活性化するためのアニールを行う際に形成された変質層を、不活性ガスを用いた異方性プラズマエッチングによる第1エッチング工程と、不活性ガスを用いた等方性プラズマエッチングによる第2エッチング工程とをこの順序で実施することにより除去する変質層除去工程を含むことを特徴とする炭化珪素半導体装置の製造方法。 - 特許庁
In the method of manufacturing the wiring board, the oxidized film on the outermost surface of the tantalum nitride layer provided on the substrate is etched and, at the same time, the azole compound is stuck to the surface of the tantalum nitride layer by treating the oxidized film with a mixed aqueous solution of an acidic etchant and the azole compound.例文帳に追加
アゾール化合物と酸性溶液とを混合したエッチング剤兼防錆剤、基体上に窒化タンタル層、不可避的窒化タンタル酸化物層及びアゾール化合物からなる防錆層を順次有する配線用基板、及び基体上の窒化タンタル最表面の酸化膜を酸性エッチング液とアゾール化合物の混合水溶液で処理して、酸化膜のエッチングと同時にアゾール化合物を表面に付着させる配線用基板の製造方法。 - 特許庁
The optical laminate provided with at least a hard coat layer on a light transmission substrate comprises a first resin and a second resin, wherein the first resin has a refractive index and a hardening speed respectively different from those of the second resin, and the uppermost surface of the hard coat layer has the rugged shape formed by a hardened material of the first resin and the second resin.例文帳に追加
本発明は、光透過性基材の上に、ハードコート層を少なくとも有してなる光学積層体であって、第1の樹脂と第2の樹脂とを含んでなり、第1の樹脂と第2の樹脂とは、屈折率と硬化速度がそれぞれ相違するものであり、前記ハードコート層の最表面が、第1の樹脂と第2の樹脂との硬化物により凹凸形状を有してなる、光学積層体を提案する。 - 特許庁
In the thermal recording material wherein a thermal coloring layer comprising a normally colorless or light-colored coloring compound and a developing compound capable of developing the color of the coloring compound in heating is provided on a substrate, the thermal coloring layer comprises a compound shown by formula (1) or the like and 3,5-di(α-methylbenzyl)zinc salicylate, as the developing compound.例文帳に追加
通常無色ないし淡色の発色性化合物、該発色性化合物を熱時発色させうる顕色性化合物を含有する感熱発色層を支持体上に設けた感熱記録材料において、該感熱発色層が顕色性化合物として下記式(1)等で示される化合物のいずれかと、3,5−ジ(α−メチルベンジル)サリチル酸亜鉛を含有することを特徴とする感熱記録材料。 - 特許庁
When a photosensitive insulating resin is used as the surface protective layer of a circuit wiring pattern on the substrate, or when the photosensitive insulating resin is used as an insulation layer between circuit wiring conductor layers; multivalent metal substitutes for Na ions adsorbed to the photosensitive insulating resin by subjecting to a treatment process containing the Na ions performed after a thermosetting process of the photosensitive insulating resin.例文帳に追加
回路基板に於ける回路配線パタ−ンの表面保護層として感光性絶縁樹脂を用いる場合、又は回路配線導体層間の絶縁層として感光性絶縁樹脂を用いる場合、その感光性絶縁樹脂の熱硬化処理工程以後に行われるNaイオンを含む処理工程を経由することにより感光性絶縁樹脂に吸着されるNaイオンを多価金属に置換する。 - 特許庁
The hard coat film or sheet is characterized by preparing two tier hard coat lamination of first and second hard coat layers in sequence on at least one surface side of a transparent plastic film or sheet substrate; wherein the first hard coat layer is a cured resin film comprising a blend of a radical polymerization resin and a cationic polymerization resin, and the second hard coat layer is a cured resin film comprising solely the radical polymerization resin.例文帳に追加
透明プラスチックフィルムもしくはシート基材の少なくとも一方の面に、第1のハードコート層としてラジカル重合型樹脂とカチオン重合型樹脂のブレンドから成る硬化樹脂層を設けた後、さらに、その上に第2のハードコート層としてラジカル重合型樹脂のみで構成される硬化樹脂の薄膜からなる2層構成のハードコート層を設けることを特徴とするハードコートフィルムもしくはシートである。 - 特許庁
The manufacturing method has a voltage application process for sequentially stacking the transparent electrode 3, an insulation layer 3, the organic layer 5 and the back electrode 6 on the glass substrate 2, and thereafter separating a part where at least the back electrode 6 is in contact with the transparent electrode 3 from the transparent electrode 3 by applying a reverse bias voltage between both electrodes 3 and 6 in a nitrogen environment having a predetermined oxygen concentration.例文帳に追加
ガラス基板2上に透明電極3,絶縁層3,有機層5及び背面電極6を順次積層した後、所定の酸素濃度を有する窒素雰囲気中にて、両電極3,6間に所定の逆バイアス電圧を印加することで、少なくとも背面電極6が透明電極3に接触している部分を透明電極3から剥離させる電圧印加工程を有している。 - 特許庁
A dicing adhesive sheet is constituted by sequentially bonding a first adhesive layer having the property of allowing adhesive strength to be hardly changed by ultraviolet irradiation, a transparent base sheet having high light resistance relative to ultraviolet or visible laser light, a second adhesive layer having the property of allowing adhesive strength to be extremely deteriorated by the ultraviolet irradiation, and a peeling sheet to one surface side of a hard substrate having light transparency.例文帳に追加
透光性を有する堅固な基板上の一方の面側に順次、紫外線照射で接着強度がほとんど変化しない特性を有する第一粘着層、紫外線あるいは可視光のレーザ光に対して高い耐光性を有する透明基材シート、紫外線照射で接着強度が著しく低下する特性を有する第二粘着層、および剥離シートを接合してダイシング用粘着シートを構成した。 - 特許庁
A luminescence section 16 constituted of a transparent electrode formed with a transparent electrode material such as ITO, a luminescent layer laminated on the transparent electrode and made of an EL material and a back electrode laminated on the luminescent layer to face the transparent electrode and a sealing body 20 covering and sealing the luminescence section 16 from the outside are provided on the surface of a transparent substrate 12 made of glass or a resin.例文帳に追加
ガラスや樹脂等の透明な基板12の表面にITO等の透明な電極材料により形成された透明電極と、この透明電極に積層され、EL材料からなる発光層と、この発光層に積層され、透明電極に対向して形成された背面電極から成る発光部16を有し、発光部16を覆い外界から密封する封止体20とを備える。 - 特許庁
To provide a production method wherein a manufacturing process is simplified more greatly compared with a conventional physical magnetic layer processing type by eliminating a magnetic layer removal step and a contamination risk is small, and a useful discrete track type magnetic recording medium having high head floating characteristics, regarding a magnetic recording medium having a magnetically separated magnetic recording pattern in at least one surface of a nonmagnetic substrate.例文帳に追加
非磁性基板の少なくとも一方の表面に、磁気的に分離した磁気記録パターンを有する磁気記録媒体において、従来の物理的な磁気層加工型と比較しその磁性層除去工程を排除することにより格段に製造工程を簡略化し、かつ汚染リスクがすくない製造方法と、ヘッド浮上特性に優れた有用なディスクリートトラック型磁気記録媒体を提供する。 - 特許庁
To provide a photosensitive resin composition which, when a photosensitive resin composition layer comprising a photosensitive resin composition is formed on a substrate, forms a photosensitive resin composition layer which has low tackiness and excellent workability, is alkali-developable with high resolution, can form a cured film having small warpage and excellent flexibility after curing, and can impart flame retardancy, and to provide a photosensitive element using the composition.例文帳に追加
基板上に感光性樹脂組成物からなる感光性樹脂組成物層を形成した際に、感光性樹脂組成物層のタック性が小さく作業性に優れ、また高解像度でアルカリ現像可能であり、また硬化後に、反りが小さく可撓性に優れた硬化膜を形成でき、また難燃性を付与することも可能な感光性樹脂組成物及びそれを用いた感光性エレメントを提供する。 - 特許庁
The radiation image detector where the voltage application electrode 1 applied with the voltage, the semiconductor layer 2 irradiated with radiation to generate electric charges, and a substrate 7 provided with electrodes 8 and 9 for detecting an electric signal corresponding to a dose of radiation are stacked is provided with a charge injection inhibition layer 15 on upper surfaces of the electrodes 8 and 9 provided at positions opposed to ends of the voltage application electrode 1.例文帳に追加
電圧が印加される電圧印加電極1と、放射線の照射を受けて電荷を発生する半導体層2と、放射線量に応じた電気信号を検出するための電極8,9が設けられた基板7とが積層された放射線画像検出器において、電圧印加電極1の端部に対向する位置に設けられた電極8,9の上面に電荷注入阻止層15を設ける。 - 特許庁
In the hard coat film having a hard coat layer on a film substrate a hard coat film forming material contains at least one kind of a polyfunctional acrylate and a cationic polymerizable compound, wherein the ratio by mass of the content of a radical polymerizable compound and the content of the cationic polymerizable compound in the hard coat layer forming material is expressed by (radical polymerizable compound):(cation polymerizable compound)=(85:15)-(98:2).例文帳に追加
フィルム基材上にハードコート層を有するハードコートフィルムにおいて、ハードコート層形成材料が多官能アクリレートとカチオン重合性化合物を少なくとも1種含有し、該ハードコート層形成材料のラジカル重合性化合物とカチオン重合性化合物の含有質量比率が、ラジカル重合性化合物:カチオン重合性化合物=85:15〜98:2であることを特徴とするハードコートフィルム。 - 特許庁
The defect detector comprises: XY coordinate transformation means 112 as coordinate transformation means for exciting an epitaxial growth substrate 17 where a compound semiconductor layer is grown epitaxially on a single crystal substrate by applying exciting light from above and then mapping the light emission intensity of photoluminescence over the whole epitaxial growth substrate; and defect detection means 113 for sequentially detecting defective pixels by using the difference between multiple pixels divided into coordinates by the coordinate transformation means 112 and multiple pixels adjacent thereto.例文帳に追加
単結晶基板上に化合物半導体層をエピタキシャル成長させたエピタキシャル成長基板17の上方より励起光を照射して励起した後に、フォトルミネッセンスによる発光強度のマッピングをエピタキシャル成長基板全体に渡って行う座標変換手段としてのXY座標変換手段112と、座標変換手段112により座標に分割された複数のピクセルのそれぞれとこれに隣接する複数ピクセルとの差を用いて、欠陥検出すべきピクセルが欠陥ピクセルかどうかを順次検出する欠陥検出手段113とを有している。 - 特許庁
In the method of manufacturing the patterned media having a substrate, the porous layer existing on the substrate and having a plurality of pores nearly vertical to the surface of the substrate and the magnetic material filled in the pores, the magnetic material is filled in the pores by pouring a supercritical fluid or a subcritical fluid in the pores using the supercritical fluid or the subcritical fluid containing magnetic material containing particles.例文帳に追加
基板と、前記基板上にあり、前記基板面に対して略垂直な複数の細孔を有する多孔質層と、前記細孔内に充填された磁性体と、を有するパターンドメディアを製造する方法であって、前記磁性体を前記細孔内に充填する際に、磁性体含有粒子を含む超臨界流体または亜臨界流体を用い、前記超臨界流体または亜臨界流体を前記細孔内に流入させることで前記磁性体を前記細孔内に充填することを特徴とするパターンドメディア製造方法。 - 特許庁
The method of fabricating the ceramic substrate includes: preparing a firing theta; forming a ceramic laminate comprising an internal confinement layer on the firing theta; forming a temperature-compensation ceramic layer on at least one of a top surface of the ceramic laminate and a bottom surface of the ceramic laminate contacting the firing theta, the temperature-compensation ceramic layer having a different initial firing shrinkage temperature than the ceramic laminate has; and firing the ceramic laminate.例文帳に追加
本発明の一実施例によると、本発明は焼成セッターを設けるステップと、前記焼成セッター上に内部拘束層が備えられたセラミック積層体を形成するステップと、前記セラミック積層体の上部面及び前記焼成セッターと接する前記セラミック積層体の下部面のうち少なくとも1つに前記セラミック積層体とは異なる焼成収縮開始温度を有する温度補償用セラミック層を提供するステップと、前記セラミック積層体を焼成するステップと、を含むセラミック基板の製造方法及びこれを用いて製作したセラミック基板を提供する。 - 特許庁
In the substrate for the magnetic recording medium with the soft magnetic layer, the value of coercive force to a direction of a concentric circle within a substrate plane obtained by measurement of VSM magnetization is smaller than 30 oersted, and a ratio of the saturation magnetization and residual magnetization ranges from 50:1 to 5:1.例文帳に追加
直径90mm以下の基板と、該基板上に設けられ、CoとNiとFeからなる一群から選ばれる二以上を含む合金を含有する軟磁性膜メッキ層とを含んでなる磁気記録媒体用基板であって、VSM磁化測定により得られる基板平面内の同心円方向に対する保磁力の値が30エルステッド未満であり、かつその飽和磁化と残留磁化の比率が50:1から5:1である軟磁性層付き磁気記録媒体用基板を提供する。 - 特許庁
The magnetic recording medium includes a nonmagnetic substrate, an underlayer formed on the substrate and at least one magnetic recording layer formed on the underlayer.例文帳に追加
非磁性支持体と、該非磁性支持体の上方に形成される下地層と、該下地層の上方に形成された磁気記録層を少なくとも1層含む磁気記録媒体であって、前記磁気記録層には、Co(α)Cr(β)Pt(γ)B(δ)Cu(ε)の組成で示されるコバルト、クロム、白金、硼素及び銅を含む合金で形成された合金磁気記録層を少なくとも1層含み、前記合金磁気記録層の層厚tと残留磁束密度Brとの積t・Brが2.0〜7.0nTmである。 - 特許庁
To provide a stainless steel sheet suitable for members requiring a minute surface such as a HDD member and a semiconductor layer forming substrate including a thin film silicon type solar battery substrate, and having reduced surface flaws to exhibit excellent detergency in a cleaning step performed in a clean environment as being the naked surface of the stainless steel sheet even without performing surface treatment such as electroless Ni plating by a means suitable for mass production.例文帳に追加
HDD部材や、薄膜シリコン型太陽電池基板をはじめとする半導体層形成基板などの、精緻な表面が要求される部材に適したステンレス鋼板であって、無電解Niめっき等の表面処理を施さなくても、ステンレス鋼板の裸の表面のままで、クリーン環境下で行われる洗浄工程で優れた洗浄性を呈する表面キズが少ないステンレス鋼板を大量生産に適した手法にて提供する。 - 特許庁
The copper foil for the printed wiring board is set to be used while stuck on a surface of the insulating substrate 4, and a flattening copper plating layer 2 which gives a kurtosis Rku of ≤4 and a skewness Rsk of ≤0 to a roughness curve, defined by JIS B0601-2001, of a surface set to be stuck on the insulating substrate 4 is provided on an original foil 1.例文帳に追加
絶縁性基板4の表面に対して張り合わされて用いられるように設定されたプリント配線板用銅箔であって、前記絶縁性基板4に対して張り合わされるように設定された面のJIS B0601−2001で定義される粗さ曲線のクルトシスRkuを4以下にすると共にJIS B0601−2001で定義される粗さ曲線のスキューネスRskを0以下にする平坦化銅めっき層2を、原箔1上に設ける。 - 特許庁
To structure a coolant chamber accurately without generating inconvenient deformation on a substrate even through an assembling process in conjunction with heat treatment of a power conversion circuit part without depending on a shape and arrangement of a heat radiation projection in order to improve cooling performance in manufacturing a power semiconductor module in which a power conversion circuit is formed on a metal-insulating layer bonded substrate and a liquid-cooling type cooling device is structured on a metal base side.例文帳に追加
金属−絶縁層接合基板上に電力変換回路が構成され金属ベース側に液冷式冷却装置が構成されるパワー半導体モジュールを製造するにあたり、放熱突起の形状や配置に依存することなく、電力変換回路部の熱処理を伴う組立工程を経ても当該基板に不都合な変形を生じさせることなく精度よく冷却液室を構成し、もって冷却性能の向上を図る。 - 特許庁
The optoelectronic device including an element substrate including data lines and a plurality of pixel electrodes connected to the data lines through switching elements respectively and an electrooptical material layer held by the element substrate is characterized in that a portion of an electrode is used in common to constitute switching elements corresponding to two electrodes which are adjacent along data lines or adjacent obliquely along the data lines.例文帳に追加
データ線及び当該データ線に対してそれぞれスイッチング素子を介して接続された複数の画素電極を含む素子基板と、当該素子基板に保持された電気光学材料層と、を含む電気光学装置において、画素電極のうち、データ線に沿って隣接するか、又は、データ線に沿って斜め方向に隣接する、二つの画素電極に対応したスイッチング素子を構成する電極の一部を共有させることを特徴とする。 - 特許庁
In a heat-sensitive pressure-sensitive adhesive laminating material having a heat-sensitive pressure-sensitive adhesive layer containing a thermoplastic resin, a solid plasticizer and a tackifier formed on at least one side of a transparent substrate, the light transmission with a wavelength of 400 nm is not less than 60% in 4 months after the heat-sensitive pressure-sensitive adhesive laminating substrate has been heated to develop tackiness.例文帳に追加
感熱性粘着剤積層基材は、透明基材の少なくとも一方の面に熱可塑性樹脂、固体可塑剤及び粘着付与剤を含有する感熱性粘着剤層が形成されている感熱性粘着剤積層基材であって、該感熱性粘着剤積層基材を加熱して粘着性を発現させた後、4ヶ月経過時点における波長400nmの光線透過率が60%以上であることを特徴とする。 - 特許庁
In the method for producing a substrate for a printing plate by which a coating liquid containing porous inorganic particles is prepared, coated on the substrate and dried to form a hydrophilic layer, preparation of the coating liquid includes a process for crushing the inorganic particles by mechanical dispersion, and a process for preparing the coating liquid by adding a colloidal silica to the crashed subjects thus obtained.例文帳に追加
多孔質無機粒子を含有する塗布液を調製し、基材上に塗布、乾燥して親水性層を形成する印刷版用支持体の製造方法において、該塗布液の調製が、該多孔質無機粒子を機械的分散により破砕する工程を有し、次いで、該破砕する工程により得られた粉砕物にコロイダルシリカを加えて塗布液を調製する工程を有することを特徴とする印刷版用支持体の製造方法。 - 特許庁
The capacitive element comprises the bottom electrode 6 formed to supply voltage to a transistor formed in a semiconductor substrate 11, the top electrode 10 formed on the opposite side of the semiconductor substrate 11 from the bottom electrode 6, the capacitive insulation film 9 formed between the top electrode 10 and the bottom electrode 6, and an interface reinforcing layer 7a formed to improve the interfacial characteristics of the capacitive insulation film 9.例文帳に追加
容量素子は、半導体基板11に形成されたトランジスタへ電圧を供給するために形成された下部電極6と、下部電極6に対して半導体基板11の反対側に形成された上部電極10と、上部電極10と下部電極6との間に形成された容量絶縁膜9と、容量絶縁膜9の界面特性を改善するために形成された界面強化層7aとを具備する。 - 特許庁
The method of manufacturing the liquid crystal alignment layer having the plurality of the pores formed to vertically or substantially vertically to the substrate has a process for forming a structural thin film dispersed in a member containing silicone, germanium or silicon and germanium obtained by forming eutectic with aluminum by a columnar substance containing aluminum on a substrate, and a process for forming the plurality of pores by removing the columnar substance.例文帳に追加
基板に対して垂直又はほぼ垂直に形成した複数の細孔を有する液晶配向膜の製造方法であって、基板上に、アルミニウムを含有する柱状物質が、前記アルミニウムと共晶を形成し得るシリコン、ゲルマニウムあるいはシリコンとゲルマニウムを含有する部材中に分散している構造体薄膜を形成する工程と、前記柱状物質を除去して複数の細孔を形成する工程を有する。 - 特許庁
To efficiently and inexpensively form a good conductive pattern having excellent adhesiveness to a transparent substrate by using ultraviolet curing resin paste at the time of manufacturing an electromagnetic wave shielding light transmitting window material, by forming the conductive pattern by forming a plated layer formed by electroless plating on a resin pattern formed by printing resin paste containing an electroless plating catalyst on the transparent substrate in a pattern and curing the paste.例文帳に追加
透明基板上に無電解めっき触媒を含む樹脂ペーストをパターン印刷し、これを硬化させて形成された樹脂パターン上に、無電解めっきによりめっき層を形成して導電性パターンを形成することにより電磁波シールド性光透過窓材を製造するに当たり、紫外線硬化型樹脂ペーストを用いて、透明基材への密着性に優れた良好な導電性パターンを精度良く、効率的かつ低コストに形成する。 - 特許庁
To provide a method for mounting a semiconductor element on a wiring substrate through a protrusion electrode for an external connection not containing lead (Pb), and for mitigating stress acting on a wiring layer laminated through an interlayer insulating film composed of a Low-K material in the semiconductor element from the wiring substrate during such mounting, thereby an occurrence of an interlayer detachment may be suppressed.例文帳に追加
鉛(Pb)を含有しない外部接続用突起電極を介して半導体素子を配線基板に実装する方法であって、当該実装の際に、配線基板から、当該半導体素子に於けるLow−K材料から構成される層間絶縁膜を介して積層されている配線層に作用する応力を緩和して、層間剥離の発生を抑制することができる半導体素子の実装方法を提供することを目的とする。 - 特許庁
The three-dimensional nonvolatile semiconductor memory comprises: a memory cell array 2 with multiple memory cells stacked on a semiconductor substrate and multiple first conductive layers connected with the multiple memory cells; a dummy laminate structure 13 with multiple second conductive layers stacked on the semiconductor substrate and surrounds the memory cell array 2; and a metal layer 23A arranged on the memory cell array 2 and the dummy laminate structure 13.例文帳に追加
実施形態に係わる三次元不揮発性半導体メモリは、半導体基板上に積み重ねられる複数のメモリセル及び複数のメモリセルに接続される複数の第1導電層を備えるメモリセルアレイ2と、半導体基板上に積み重ねられる複数の第2導電層を備え、メモリセルアレイ2を取り囲むダミー積層構造13と、メモリセルアレイ2上及びダミー積層構造13上に配置される金属層23Aとを備える。 - 特許庁
This semiconductor device has a semiconductor chip 1, having a chip electrode 10, wiring 5 connected to the semiconductor chip 10, a soldering bump 12 connected to the wiring 5 and a substrate 2 formed on the semiconductor chip 1, and a resin layer 21 is provided on the substrate 2.例文帳に追加
チップ電極10を有してなる半導体チップ1と、チップ電極10に接続される配線5と、配線5に接続される半田バンプ12と、半導体チップ1上に形成された基板2とを有してなり、基板2上に樹脂層21が設けられてなることにより、基板2の反り・変形を防止することができるうえ、基板2の反り・変形に起因するプリント板14と半田バンプ12との接続部における破断の発生を防止することができる。 - 特許庁
The auxiliary material for incineration is made to form a layer containing titanium oxide on the surface of a substrate by exposing the substrate of the auxiliary material or its originating material to a reactive gas of a plasma state generated by discharging across opposing electrodes under the atmospheric pressure or in the vicinity of the atmospheric pressure, in the auxiliary material for incineration along with waste when the waste is incinerated.例文帳に追加
廃棄物を焼却処理する際に、廃棄物と一緒に焼却される焼却処理補助材において、大気圧または大気圧近傍の圧力下に、対向する電極間にて反応性ガスを放電させてプラズマ状態とし、前記補助材の基材またはその原材料をプラズマ状態の反応性ガスに晒すことにより、基材の表面に酸化チタンを含む層を形成させたことを特徴とする焼却処理補助材。 - 特許庁
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