「layer substrate」に関連した英語例文の一覧と使い方(774ページ目) - Weblio英語例文検索

The diffusion agent composition used for forming an impurity diffusion layer into a semiconductor substrate contains: an impurity diffusion composition (A); a silicon compound (B); and a solvent (C) containing a solvent (C1) having a boiling point of 100°C or less, a solvent (C2) having a boiling point of 120-180°C and a solvent (C3) having a boiling point of 240-300°C.例文帳に追加

拡散剤組成物は、半導体基板への不純物拡散剤層の形成に用いられる拡散剤組成物であって、不純物拡散成分（Ａ）と、ケイ素化合物（Ｂ）と、沸点が１００℃以下である溶剤（Ｃ１）、沸点が１２０〜１８０℃である溶剤（Ｃ２）、および沸点が２４０〜３００℃である溶剤（Ｃ３）を含む溶剤（Ｃ）と、を含有する。 - 特許庁

The method for depositing thin films of metal oxides on a substrate in a reaction vessel of an atomic layer vapor deposition apparatus using plasma includes a step of supplying raw metal compounds into the reaction vessel, a step of supplying gaseous oxygen into the reaction vessel, and a step of generating oxygen plasma in the reaction vessel during the predetermined time.例文帳に追加

プラズマを用いる原子層蒸着装置の反応器内において基板上に金属酸化物膜を形成する方法であって、反応器内に金属原料化合物を供給する段階と、反応器内に酸素ガスを供給する段階と、反応器内に所定時間中に酸素プラズマを生じさせる段階と、を含む金属酸化物膜の形成方法。 - 特許庁

The purpose can be attained by forming a conductive surface nitride layer of hexagonal GaN system crystal using a GaP substrate so that thermal stability can be attained even at a temperature (1000°C or above) required for epitaxial growth of GaN and hexagonal GaN required for high efficiency element can be fabricated.例文帳に追加

ＧａＮを気相成長させるのに必要な温度（１０００℃以上）でも熱的安定性が獲得でき、また、高効率素子を作製するために六方晶のＧａＮが成長できるようにＧａＰ基板を用いて表面が六方晶ＧａＮ系結晶でなり、導電性を有する表面窒化層を形成することにより上記課題が解決できる。 - 特許庁

In the photoelectric conversion element having a structure wherein an electrolyte layer 7 made from electrolyte is filled up between a porous photoelectrode 3 and a counter electrode 6 formed on a transparent substrate 1, an ionic liquid having a functional group of electron pair receptiveness and an organic solvent having a functional group of electron pair supply nature are used as a solvent of the electrolyte.例文帳に追加

透明基板１上に形成された多孔質光電極３と対極６との間に電解液からなる電解質層７が充填された構造を有する光電変換素子において、電解液の溶媒として、電子対受容性の官能基を有するイオン液体と電子対供与性の官能基を有する有機溶媒とを含むものを用いる。 - 特許庁

There are provided a touch screen which includes: a first transparent electrode formed in a transparent substrate; a second transparent electrode formed in a transparent film; and a transparent adhesive layer positioned between the first transparent electrode and the second transparent electrode, and formed of a transparent adhesive containing conductive balls, and a method for continuously manufacturing the touch screen.例文帳に追加

透明基板に形成された第１透明電極、透明フィルムに形成された第２透明電極、および前記第１透明電極と第２透明電極との間に位置する、導電性ボールの含まれる透明接着剤で形成された透明接着層を含んでなるタッチスクリーン、およびその連続式製造方法を提供する。 - 特許庁

In the method of producing a multilayer coating film which has a step for multilayering a plurality of the aqueous coating liquids beforehand and transferring the multilayered aqueous coating liquid to a substrate, the following water-containing organic solvent is inserted between two kinds of aqueous coating liquids to be layered as an intermediate layer, thereby forming a multilayer.例文帳に追加

複数の水系塗工液をあらかじめ多層化し、多層化した水系塗工液を基材上に転移させる工程を有する多層塗工膜の製造方法において、積層しようとする２種の水系塗工液間に、下記の含水有機溶剤を中間層として挿入することにより、多層化することを特徴とする、多層塗工膜の製造方法。 - 特許庁

The optical image intensity distribution formed on a resist disposed on the side of a lower layer of a diffraction pattern by performing whole image exposure from the side of an upper surface of the diffraction pattern formed by lines L and spaces S on a substrate at a predetermined pattern pitch is calculated by using a multi-mode waveguide path analytic model or fractional Fourier transform for the diffraction pattern.例文帳に追加

ラインＬとスペースＳによって所定のパターンピッチで基板上に形成された回折パターンの上面側から全面露光を行なうことによって回折パターンの下層側に配置されたレジストに形成される光学像強度分布を、回折パターンに対してマルチモード導波路解析モデル又はフラクショナルフーリエ変換を用いることにより算出する。 - 特許庁

To provide a liquid crystal display device nearly free from occurrence of distortion of a substrate of a liquid crystal panel in the vicinity of a boundary between adjacent display regions without increasing the number of manufacturing steps of a columnar spacer and capable of obtaining desired optical characteristics, in the liquid crystal display device wherein a plurality of display regions having liquid crystal layer thicknesses different from each other are independently disposed.例文帳に追加

液晶層厚が異なる複数の表示領域が独立して配置された液晶表示装置において、柱状スペーサの製造工程数を増やすことなく、隣接する表示領域の境界近傍で、液晶パネルの基板の歪みの発生が少なく、所望の光学特性が得られる液晶表示装置を提供する。 - 特許庁

A phosphor having the lowest E/L ratio of the luminance (L) to the luminous efficiency (E) of each phosphor for obtaining a target chromaticity of white by using a plurality of phosphors which emit different colors on the light-emitting substrate is selected, and the light reflectance of the portion of the metal back layer formed on the phosphor is set to be higher than the portion formed on the other phosphors.例文帳に追加

発光基板上の異なる色を発光する複数の蛍光体から目的とする白白の色度を得る際の輝度（Ｌ）と、各蛍光体の発光効率（Ｅ）の比（Ｅ／Ｌ比）が最も低い蛍光体を選択して、その上に設けられたメタルバック層の部分の光反射率をその他の蛍光体上に設けられた部分より高くする。 - 特許庁

In the multi-exposure method for at least one substrate which is covered with a light sensitive layer, a first exposure is carried out in a first projection system (17) corresponding to an exposure parameter of a first group, and a second exposure is carried out in a second projection system (18) spatially separated from the first projection system (17) using an exposure parameter of a second group.例文帳に追加

感光層により被覆される少なくとも１個の基板の多重露光方法において、第１の露光は、第１組の露光パラメータにしたがって第１の投影系（１７）において行なわれ、第２の露光は、第２組の露光パラメータを用いて、前記第１の投影系（１７）から空間的に分離される第２の投影系（１８）において行なわれる。 - 特許庁

In addition, a third insulator film 11 that is thinner and stable is formed as a result of thermal oxidation of a surface of the light receiving portion 5, a p-type impurity ion is injected in a surface portion of the light receiving portion 5 of an n-type semiconductor substrate 1 through this third insulator film 11 that is thin and stable, and a high-concentration surface p+ layer is formed.例文帳に追加

さらに、受光部５の表面を熱酸化して膜厚が薄く安定した第３の絶縁膜１１を成膜し、この膜厚が薄く安定した第３の絶縁膜１１を通してｎ型半導体基板１の受光部５の表面部にｐ型不純物イオンの注入が為されて高濃度表面ｐ＋層を形成する。 - 特許庁

By employing a fluoride (one of CaF_2, BaF_2 and MgF_2) as a buffer layer on a diamond single-crystal substrate or an epitaxial thin film, an excellent ferroelectric PZT thin film having remnant polarization charge (68 μC/cm^2) twice as much as that of a conventional one while keeping a coercive electric field at the same value (33 kV/cm) is provided.例文帳に追加

ダイヤモンド単結晶基板またはエピタキシャル薄膜上にフッ化物（ＣａＦ_２、ＢａＦ_２、ＭｇＦ_２の内一つ）を緩衝層として用いることにより、抗電界を同じ大きさ（３３ｋＶ／ｃｍ）に保ちながら、従来の２倍の残留分極電荷（６８μＣ／ｃｍ^２）を持つ優れた強誘電性のＰＺＴ薄膜を提供する。 - 特許庁

A tempered glass substrate having a compression stress layer on the surface thereof, has a glass composition comprising, by mass%, 40 to 71% SiO_2, 3 to 21% Al_2O_3, 0 to 3.5% Li_2O, 10 to 20% Na_2O, and 0 to 15% K_2O and has 15 to 200 MPa inner tensile stress.例文帳に追加

本発明の強化ガラス基板は、表面に圧縮応力層を有する強化ガラス基板であって、ガラス組成として、質量％でＳｉＯ_２ ４０〜７１％、Ａｌ_２Ｏ_３ ３〜２１％、Ｌｉ_２Ｏ ０〜３．５％、Ｎａ_２Ｏ １０〜２０％、Ｋ_２Ｏ ０〜１５％を含有すると共に、内部の引っ張り応力が１５〜２００ＭＰａであることを特徴とする。 - 特許庁

When resticking a floor material in the adhesion method for a floor structure where the floor material is stuck on a substrate material by an adhesive, the old floor material is peeled in the boundary surface between the rear cushion of an old floor material and an old adhesive for fixing the old floor material (interface breakage), after which a new adhesive is applied on the remaining adhesive layer, and the new floor material is stuck.例文帳に追加

下地材に接着剤によって床材を貼り付ける床構造体の接着工法において、床材を貼り直す作業をする際に、床材の裏面クッションと、床材を固定する接着剤との界面で、床材を剥離（界面破壊）させた後、残存する接着剤層の上に、新たな接着剤を塗布し、新しい床材を貼り付ける。 - 特許庁

To provide a weatherstrip material which excels in smoothness, wear resistance, heat resistance, weatherability, and a still more uniform matte effect, in which a skin treatment layer of an outstanding performance in which outstanding adhesion and outstanding flexibility to a substrate sheet consisting of a polymeric elastomer material, and an antistatic effect or the like are also given can be formed, and further, which is useful also from a viewpoint of greenhouse reduction.例文帳に追加

滑性、耐磨耗性、耐熱性、耐候性、さらには均一な艶消し効果に優れ、高分子弾性体材料からなる基材シートに対する優れた接着性や可とう性、帯電防止効果も付与された優れた性能の表皮処理層の形成が可能であり、さらに、温暖化ガス削減の観点からも有用なウェザーストリップ用材料の提供。 - 特許庁

The substrate for mounting light emitting element whose pillar-shaped metal body side face is padless, has two or more pillar-shaped metal bodies 14a-14c, two or more electrodes 10a-10b placed at the rear side under a conduction state with the pillar-shaped metal bodies 14a-14c, and an insulating layer 16 exposing top surfaces of the pillar-shaped metal bodies 14a-14c.例文帳に追加

２以上の柱状金属体１４ａ〜１４ｃと、柱状金属体１４ａ〜１４ｃと導通しつつその裏面側に設けられた２以上の電極１０ａ〜１０ｂと、その柱状金属体１４ａ〜１４ｃの上面を露出させる絶縁層１６とを備える、柱状金属体側面がパッドレスである発光素子搭載用基板。 - 特許庁

To provide an undercoat agent excellent in adhesiveness with an inorganic thin film layer and a plastic substrate, preventing an inorganic thin film from causing whitening, interference fringes or crack even at high temperature or under high temperature molding conditions, to provide a plastic film with an inorganic thin film using the undercoat agent, and to provide a decoration film for in-mold forming and a decoration film for insert molding, using the plastic film as a member.例文帳に追加

無機薄膜層及びプラスチック基材との密着性に優れ、高温下や、高温成形加工下にあっても無機薄膜に白化現象、干渉縞、クラックを生じさせないアンダーコート剤及びそれを用いた、無機薄膜付プラスチックフイルム及びこのフイルムを部材としたインモールド成型用加飾フィルムやインサート成形用加飾フィルムを提供する。 - 特許庁

The film for electrostatic coating is formed by providing an electrostatic prevention layer between the resin films, and resin molding formed integrally with the film for electrostatic coating is obtained by applying vacuum molding or air pressure molding to the film for electrostatic coating in injection molding molds, and then performing injection-molding of resin serving as a substrate.例文帳に追加

樹脂フィルムの間に静電防止層を設けてなることを特徴とする静電塗装用フィルム、及び当該静電塗装用フィルムに、射出成形金型内で真空成形又は圧空成形を施し、その後、基材となる樹脂を射出成形することにより得られる静電塗装用フィルムが一体成形された樹脂成形品。 - 特許庁

After applying conductive particulate dispersion liquid in which conductive particulates 6 are dispersed in a dispersion solvent, insulator particulate dispersion liquid in which insulator particulates 5 each having an average particle diameter larger than that of the conductive particulate 6 are dispersed is applied onto an electrode substrate 2 to form the electron accelerating layer 4 of this electron emitting element 1.例文帳に追加

電子放出素子１の電子加速層４を、電極基板２上に、導電微粒子６が分散溶媒に分散された導電微粒子分散液を塗布した後、平均粒径が導電微粒子６のそれより大きい絶縁体微粒子５が分散溶媒に分散された絶縁体微粒子分散液を塗布することで、形成する。 - 特許庁

The substrate of a semiconductor integrated circuit is spin coated with diamond colloid solution produced by dispersing fine diamond particles of nanometer size into water or an organic solution and then dried to form an insulation layer of low permittivity porous structure diamond film where fine diamond particles are dispersed uniformly through air gaps of nanometer size (nano pores).例文帳に追加

半導体集積回路などの基板に、ナノメートルサイズのダイヤモンド微粒子を水あるいは有機溶液に分散したダイヤモンドコロイド溶液をスピンコートなどにより塗布し乾燥させることにより、ダイヤモンド微粒子がナノメートルサイズの空隙（ナノポア）をもって均一に分散された低誘電率のポーラス構造ダイヤモンド膜の絶縁層を形成する。 - 特許庁

In the method for manufacturing a liquid crystal layer by applying a polymerizable liquid crystal compound on a vertical alignment film formed on the substrate to align the liquid crystal compound into a homeotropic state, a long-chain alkyl type dendrimer derivatives are used as the forming agent of the vertical alignment film.例文帳に追加

基板上に形成した垂直配向膜上に重合性液晶化合物を塗工することにより前記液晶化合物をホメオトロピック配向させた液晶層を製造する方法において、垂直配向膜の形成剤として長鎖アルキル型デンドリマー誘導体を用いることを特徴とするホメオトロピック配向液晶層の製造方法。 - 特許庁

After the resin pattern 3 is formed by printing the ultraviolet curing resin paste containing the electroless plating catalyst on the surface of the transparent substrate 1 and curing the paste by projecting ultraviolet rays upon the formed printed pattern 2, the conductive pattern 5 is formed by forming the plated layer 4 on the resin pattern 3 by electroless plating.例文帳に追加

無電解めっき触媒を含む紫外線硬化性樹脂ペーストを透明基材１の表面に印刷し、形成された印刷パターン２に紫外線を照射して硬化させることにより、樹脂パターン３を形成し、その後無電解めっき処理して、樹脂パターン３上にめっき層４を形成して導電性パターン５を形成する。 - 特許庁

The flat panel display comprises a plurality of connection terminals installed on an array substrate, at least two integrated circuit chips connected to the connection terminals respectively by conductive anisotropic films and at least one interface layer installed in the region between the at least two integrated circuit chips.例文帳に追加

フラットディスプレイパネルであって、アレイ基板上に設置される複数の連接端子と、それぞれ異方性導電膜により前記連接端子と連接される少なくとも二つの集積回路チップと、前記の少なくとも二つの集積回路チップの間の領域に設置される少なくとも一つの界面層と、からなるフラットディスプレイパネル及びその組み立て方法を採用する。 - 特許庁

The patterning substrate comprises a base and a cell culturing and patterning layer that is formed on the base and essentially comprises a photocatalyst and a cell-adhesive material adhesive to cells and subject to decomposition or modification by the action of the photocatalyst accompanying energy irradiation.例文帳に追加

上記目的を達成するために、本発明は、基材と、前記基材上に形成され、少なくとも光触媒および、細胞と接着性を有しかつエネルギー照射に伴う光触媒の作用により分解または変性される細胞接着材料を含有する細胞培養パターニング用層とを有することを特徴とするパターニング用基板を提供する。 - 特許庁

The method includes the step of providing a substrate which has at least one layer of a porous dielectric material containing a contaminant, the contaminant including at least one entrapped liquid, having a surface tension, wherein the porous dielectric material including the at least one contaminant has a first dielectric constant.例文帳に追加

この方法は基材を提供することを含み、該基材は多孔性誘電材料の少なくとも一の層を含み、該誘電材料は混入物質を含み、該混入物質は表面張力を有する少なくとも一の取り込まれた液体を含み、ここでその少なくとも一の混入物質を含む多孔性誘電材料は第一の誘電率を有する。 - 特許庁

The memory element comprises a first electrode arranged on a substrate, composite fine particles arranged on the first electrode with a layer containing an organic compound having a memory function being formed on the surface of the fine particles, and a second electrode arranged through the composite fine particles.例文帳に追加

前記の課題を解決するためになされた本発明のメモリ素子では、基板に配置された第１の電極と、該第１の電極上に配置された、メモリ機能を有する有機化合物を含む層が微粒子の表面に形成された複合微粒子と、該複合微粒子を介して配置された第２の電極から構成されることを特徴とする。 - 特許庁

The method for manufacturing an electrophotographic photoreceptor 101 having a photoconductive layer comprising at least an amorphous material on a substrate includes a step of polishing the surface of the electrophotographic photoreceptor 101 with magnetic powder 103 by rotating a magnet roller 102 sticking the magnetic powder 103 onto the outer peripheral surface by magnetic force.例文帳に追加

基体上に少なくとも非晶質材料で構成された光導電層を有する電子写真感光体１０１の製造方法は、磁性粉体１０３が外周面上に磁力で付着しているマグネットローラー１０２を回転させ、磁性粉体１０３によって電子写真感光体１０１の表面を研磨する工程を有する。 - 特許庁

To provide a halftone phase shift mask having a single layer film or multilayered film containing metals and silicon as the main structural elements on a glass substrate in such a manner that the latitude for the optical constants used for designing the film is large, that minute defects are hardly caused in the film after the film is formed and that the film has resistance against laser light.例文帳に追加

ガラス基板上に金属およびシリコンを主たる構成元素として含む単層膜若しくは多層膜を設けたハーフトーン型位相シフトマスクにおいて、膜設計に用いる光学定数の自由度が大きく成膜後に膜に微小欠陥が発生しにくくレーザー光に対する耐性のあるハーフトーン型位相シフトマスクを提供する。 - 特許庁

In the optical information medium, at least one surface of the surface on the side of the supporting substrate 20 and the surface on the film side is formed of a hard coating layer 8 containing a cured product of the hard coating agent composition.例文帳に追加

支持基体20上に、少なくとも記録層４又は反射層を含む、１層又は複数層から構成される膜体を有する光情報媒体であって、支持基体20側表面及び前記膜体側表面のうちの少なくとも一方の表面が、前記ハードコート剤組成物の硬化物を含むハードコート層８によって形成されている光情報媒体。 - 特許庁

A second insulating film 104, a third insulating film 105 which is the inorganic film having an Si-H coupling and the low dielectric constant, and a fourth insulating film 106 are successively laminated on a laminate 100 having a first insulating film 102 formed on a semiconductor substrate 101 and lower-layer wiring 103 formed on the insulating film 102.例文帳に追加

半導体基板１０１上に形成された第１絶縁膜１０２及び第１絶縁膜１０２上に形成された下層配線１０３を有する積層体１００上に順次第２絶縁膜１０４、Ｓｉ−Ｈ結合を有する無機低誘電率膜である第３絶縁膜１０５及び第４絶縁膜１０６を積層する。 - 特許庁

To provide a manufacturing device of an uneven film, which can improve a processing speed by producing no offset to a film substrate or no unpainted portion due to bubbles on a resin layer in manufacturing the uneven film, and further, improve the processing speed without upsizing an equipment such as a recovery apparatus of a resin liquid.例文帳に追加

凹凸フィルムの製造に当たって、フィルム基材への裏移りを生じさせることなく、また樹脂層に泡かみを生じることなく加工速度を向上させることができ、更に樹脂液の回収装置等の設備の大型化を伴うことなく加工速度を向上させることの可能な凹凸フィルムの製造装置を提供する。 - 特許庁

This liquid crystal display device has pixel electrodes formed on opposite surfaces of an electrode substrate 4 and the other electrode substrates disposed opposite each other across a liquid crystal layer, and is configured to have a transparent electrode section formed of a transparent electrode film and a reflection electrode section formed of a reflection electrode film, which are electrically connected, on one pixel region of one pixel electrode.例文帳に追加

液晶層を介在して対向配置された電極基板４ともう一方の電極基板との対向面には、それぞれ画素電極が形成されており、一方の画素電極における１画素領域に、電気的に接続された、透明電極膜からなる透明電極部と、反射電極膜からなる反射電極部とが設けられている。 - 特許庁

The display device 10 comprises, on a first substrate 12, a semiconductor film constituting a thin film transistor 23, a pixel electrode 27, a terminal part 34 and a TEG 28 provided in a wiring non-forming area, and a manufacturing process management mark part 29 provided on the semiconductor film constituting the TEG 28 through at least one insulating layer.例文帳に追加

表示装置１０は、第１基板１２において、薄膜トランジスタ２３、画素電極２７、端子部３４及び配線の非形成領域に設けられたＴＥＧ２８を構成する半導体膜と、ＴＥＧ２８を構成する半導体膜上に少なくとも１層の絶縁層を介して設けられた製造工程管理用マーク部２９と、を備える。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition which has high radiation sensitivity and sufficiently high resolution, excels in adhesion to a substrate, a base or an upper layer, suppresses generation of a sublimate during baking in a film forming process, ensures a large development margin, and can be suitably used for forming an interlayer insulation film or microlenses.例文帳に追加

高い感放射線感度を有し、解像度が十分に高く、基板もしくは下地または上層との密着性に優れ、膜形成工程の焼成時における昇華物の発生が抑制され、且つ現像マージンが大きく、層間絶縁膜またはマイクロレンズの形成に好適に使用できる感放射線樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

The semiconductor laser element manufacturing method has a first step in which a striped ridge structure 8, 9 is formed to the upper part of a laminated structure, including an active layer 5 formed on a substrate 1, and a second step for forming a Schottky barrier SB on the upper face of the laminated structure, other than the ridge structure 8, 9 by utilizing ion bombardment.例文帳に追加

本発明に係る半導体レーザ素子の製造方法は、基板１上に形成された活性層５を含む積層構造の上部に、ストライプ状のリッジ構造８、９を形成する第１工程と、イオン衝撃を利用してリッジ構造８、９以外の積層構造の上面にショットキーバリアＳＢを形成する第２工程とを有する。 - 特許庁

On the first active region 10a of a semiconductor substrate 10, a first transistor of the first conductive type is formed including: a first gate insulation film 13a containing a high-dielectric material and a first metal; and a first gate electrode 30a having a lower layer conductive film 15a, a first conductive film 18a and a first silicone film 19a.例文帳に追加

半導体基板１０の第１の活性領域１０ａ上には、高誘電体材料と第１の金属とを含有する第１のゲート絶縁膜１３ａと、下層導電膜１５ａと第１の導電膜１８ａと第１のシリコン膜１９ａとを有する第１のゲート電極３０ａとを備えた第１導電型の第１のトランジスタが形成されている。 - 特許庁

To provide an adhesive sheet taking a plastic or paper as a substrate, easily peeling off from bonded materials at directly after the pasting with the various bonded materials but showing a strong bonding property after passing a suitable time through, and an emulsion type adhesive used preferably for forming the adhesive layer of such the adhesive sheet.例文帳に追加

本発明は、プラスチックや紙などを基材とする粘着シートにおいて、各種被着体に貼り合わせ直後においては被着体から容易に剥離でき、適度な時間経過後においては強力な接着性を示す粘着シートおよび該粘着シートの粘着剤層の形成に好ましく用いられ得るエマルジョン型粘着剤を提供することを目的とする。 - 特許庁

A III-nitride semiconductor light emitting device includes: a plurality of III-nitride semiconductor layers including an active layer 40 for generating light by recombination of electrons and holes; and a substrate 10 used to grow the plurality of III-nitride semiconductor layers and including a protrusion 90 with two opposite sides 91 rounded.例文帳に追加

電子と正孔の再結合により光を生成する活性層４０を備える複数個のIII族窒化物半導体層と、複数個のIII族窒化物半導体層の成長に利用される基板１０として、対向する２つの辺９１が丸められている突起９０を有する基板１０とを備えるIII族窒化物半導体発光素子を提供する。 - 特許庁

The semiconductor chip with the coating film obtained by applying the sealing resin composition on the surface provided with the solder bump of a semiconductor wafer provided with the solder bump by a spin coating method to make a B-stage, and cutting the semiconductor wafer into individual pieces, is flip chip-mounted on the substrate through the solder bump, thereby the sealing resin layer is formed by the applied film.例文帳に追加

当該封止樹脂層は、半田バンプを備えた半導体ウェハーの該半田バンプを備えた表面上にスピンコート法により塗布しＢ−ステージ化し、当該半導体ウェハーを個片化することにより得られる塗布膜付き半導体チップを、半田バンプを介して基板にフリップチップ実装することにより該塗布膜から形成される。 - 特許庁

The liquid crystal display is equipped with: a liquid crystal panel produced by laminating first and second substrates each having a display region and a non-display area, with a liquid crystal interposed therebetween; and a thermally conductive layer (163) formed on one substrate (242) of the first and second substrates so as to prevent the liquid crystal from being cooled.例文帳に追加

本発明の液晶表示装置は表示領域と非表示領域を有する第１及び第２基板が液晶を間に置いて合着された液晶パネルと、第１及び第２基板の中のいずれか一つの基板（２４２）の上に形成されて前記液晶の冷却を防ぐための熱伝導層（１６３）を具備することを特徴とする。 - 特許庁

Between layers of the second TFT90 and the transparent substrate 2, a dielectric multilayer film 30 for constituting a light resonance device 3 is formed, and between the layers of dielectric multilayer film 30 and the pixel electrode 4, the interlayer-insulating film 5 at an area flatly superposed on the light emitting layer 65, a gate-insulating film 92, and the insulation-protecting film 20 are removed.例文帳に追加

第２のＴＦＴ９０と透明基板２との層間に、光共振器３を構成する誘電体多層膜３０が形成され、誘電体多層膜３０と画素電極４との層間では、発光層６５と平面的に重なる領域の層間絶縁膜５、ゲート絶縁膜９２および絶縁保護膜２０が除去されている。 - 特許庁

To provide a photosensitive image forming material which is used for a method for forming an image by eliminating an unexposed part on a printing machine, after a photosensitive layer formed on a substrate is exposed to light in an imaging manner, which is excellent in printing resistance, and which is excellent in image reproducibility by virtue of the absence of a stain on a non-image part.例文帳に追加

支持体上に形成された感光層を画像様に露光した後、印刷機上にて未露光部を除去することによって画像形成する方法に用いられる感光性画像形成材料であって、耐刷力に優れ、しかも非画像部の汚れがなく画像再現性に優れた感光性画像形成材料を提供する。 - 特許庁

The semiconductor substrate which has the initial thickness (first thickness) has only the element formation portion made thin to a second thickness and after a metal layer is formed on its backside, the initial peripheral part which still has the initial thickness (first thickness) of the semiconductor device is ground from the backside to a third thickness to form a peripheral portion which has a small step with the element formation portion.例文帳に追加

初期の厚み（第１の厚み）を有する半導体基板の、素子形成部のみを第２の厚みまで薄化し、その裏面に金属層を形成した後、初期の半導体基板の厚み（第１の厚み）を残した初期周辺部を裏面側から第３の厚みになるまで研削し、素子形成部との段差が少ない周辺部を形成する。 - 特許庁

To provide a pattern forming method for elaborately shaping a resist pattern after developed, removing a residue of the resist, forming a permanent pattern such as a wiring pattern with high definition and high efficiency, and achieving high resolution and high adhesiveness between a substrate and a photosensitive layer without causing chipping, peeling or swelling in a crosslinked portion (cured film) of the resist.例文帳に追加

現像後のレジストパターンの整形を精巧に行って、かつレジストの残渣を除去し、配線パターン等の永久パターンを高精細に、かつ、効率よく形成可能とし、しかも、レジストの架橋部（硬化膜）に欠けや剥離、膨潤などを生じることなく、高い解像度と基体と感光層との密着性とを高度に両立したパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of forming interlayer connection structure by which a metallic layer having a uniform thickness and an interlayer connection material having a uniform height can be formed easily and inexpensively on a core substrate, double-sided wiring board for lamination, etc., with high connection reliability, and to provide an interlayer connection structure and a multilayered wiring board formed by the method.例文帳に追加

コア基板や積層用両面配線基板などに対し、簡易かつ低コストに、厚みが均一な金属層と高さの均一な層間接続体とを形成することができ、しかも接続の信頼性が高い層間接続構造の形成方法、及び当該方法で形成された層間接続構造及び多層配線基板を提供する。 - 特許庁