「layer substrate」に関連した英語例文の一覧と使い方(773ページ目) - Weblio英語例文検索

The method relates to forming an electrode member 51 of a thin layer used to constitute an electrode of a film electrode junction body for fuel cell, and forms an electrode member by supplying conductive particles 62 and resin-dispersed liquid 63 onto a substrate 61 via systems 111 and 112 independent of each other.例文帳に追加

燃料電池用膜電極接合体の電極を構成するために用いられる薄層の電極用部材５１を形成する方法であって、別個独立した系統１１１と１１２を介してそれぞれが供給される導電性粒子６２と樹脂分散液６３とを基材６１上に供給することによって、電極用部材を形成する。 - 特許庁

To provide a high density LTCC package structure for encapsulating electronic components which can solve the alignment problem by using a kovar ring created by forming a silver layer on the upper surfaces of side walls of a ceramic substrate by a printing method and also can reduce the size of a package structure, and a high density LTCC material therefor.例文帳に追加

印刷方式により、セラミック基体の側壁の上表面に銀層を形成させることにより、コバールリングを用いて発生する位置合わせの問題を解決することができる上、パッケージ構造を小型化することができる電子部品を封止するために用いる高密度ＬＴＣＣパッケージ構造及びその高密度ＬＴＣＣ材料を提供する。 - 特許庁

A urethane resin composition comprising such a polyisocyanate compound and a polythiol compound is suitable for producing a thick hybrid lens having large asphericality, and by using the optical resin composition prepared by further adding the polyol compound or the long chain dithiol compound, a hybrid lens in which a resin layer unsticks infrequently from a glass substrate can be provided.例文帳に追加

多価イソシアネート化合物と、多価チオール化合物とを含むウレタン系樹脂組成物は、肉厚で非球面量の大きなハイブリッドレンズを製造するのに適しており、さらに、ポリオール化合物または長鎖ジチオール化合物が付加された光学用樹脂組成物を用いることにより、樹脂層とガラス基材との剥離の少ないハイブリッドレンズを提供できる。 - 特許庁

In the uppermost layer of a substrate including multilayer interconnection, i.e. a plurality of layers that are laminated via interlayer insulating films respectively and wirings formed in the respective layers, with a metal member formed in a region other than the region in which wirings are arranged, the metal member is electrically connected to a node, to which a prescribed electric potential is applied.例文帳に追加

本発明では、基板上の多層配線、即ち、それぞれが層間絶縁膜を介して積層された複数の層と、それぞれの層内に形成された配線とを有する多層配線の最上位の層内において、配線が配置された領域以外の領域に、定電位が与えられるノードに電気的に接続するメタル部材が形成される。 - 特許庁

A polyethylene resin coating layer 3 is disposed so as to sequentially coat an inside part beyond the notch ditch 15 of a bent streak 14 at the circumferential end of the hollow substrate 1 and a rising streak 26 beyond the notch groove 27 of a projected streak 25 at the circumferential end of the attached body 2, thereby coating the exposed surface of the circular support A through extrusion molding.例文帳に追加

中空基体１の周方向端部の折曲条１４のノッチ溝１５を超えた内側部分，付設体２の同じく周方向端部の突条２５のノッチ溝２７を超えた起立条２６をそれぞれ一連に被覆するようにポリエチレン樹脂の被覆層３を配置して円形支柱Ａの露出表面を押出成形によって被覆する。 - 特許庁

A step of forming a device (TFT layer 12) on a substrate 11 includes a step (S11) of forming a thin film, a step (S12) of forming a photoresist film on the thin film, a step (S13) of exposing the photoresist film using an exposure mask M1, and a step (S15) of etching the exposed photoresist film.例文帳に追加

基板１１上にデバイス（ＴＦＴ層１２）を形成する工程は、薄膜を形成する工程（工程Ｓ１１）と、薄膜上にフォトレジスト膜を形成する工程（工程Ｓ１２）と、露光マスクＭ１を用いてフォトレジスト膜に対して露光を行う露光工程（工程Ｓ１３）と、露光がなされたフォトレジスト膜をエッチングする工程（工程Ｓ１５）とを含んでいる。 - 特許庁

In the luminance-uniformiazing sheet 1, a white diffusion layer 12 containing at least one kind of an ultraviolet absorbent from among cyanoacrylate base, oxalic acid anilide base, malonic ester base is formed in a pattern adjusted so as to equalize and emit an incident light having nonuniformized luminance distribution, on at least one surface of a translucent substrate 11.例文帳に追加

透光性基材１１の少なくとも片面に、不均一な輝度分布を有する入射光を均斉化して出射できるよう調整されたパターン状に、シアノアクリレート系、蓚酸アニリド系、マロン酸エステル系の内、少なくとも１種の紫外線吸収剤を含む白色拡散層１２が形成されていることを特徴とする輝度均斉化シート１である。 - 特許庁

To obtain an acrylic sol composition incinerable without generating hydrogen chloride gas and dioxins, having excellent storage stability, hardenable at a relatively low temperature and having excellent adhesivity of the coating film to a substrate, adhesive property to a top-coating layer, colorability of the coating film, cold-resistance of the coating film and coating film strengths.例文帳に追加

焼却時に塩化水素ガスやダイオキシンを発生することがなく、貯蔵安定性に優れ、かつ比較的低温においても硬化させることができ、また、塗膜の基材に対する接着性や、上塗り塗料に対する付着性、塗膜の着色性、塗膜の耐寒性、及び塗膜強度に優れたアクリルゾル組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a film formation method and a wear-resistant member capable of obtaining hardness excellent in wear resistance and sufficient adhesiveness by forming, as an intermediate layer, the film of nitride or carbonitride of Ti which is a metal different from vanadium-based metals between a substrate and a vanadium carbide (VC) film coated on an outermost surface.例文帳に追加

基材と最表面層に被膜される炭化バナジウム（ＶＣ）膜との間に中間層としてバナジウム系金属とは異なる異種金属であるＴｉの窒化物膜又は炭窒化物膜を形成することにより、耐摩耗性に優れた硬度及び十分な密着性を得ることができる成膜方法及び耐摩耗性部材を提供する。 - 特許庁

A heat sensitive layer, comprising at least one kind of micro-capsule including a thermoplastic micro-grain polymer having a functional group permitting mutual function between a hydrophilic surface or a micro-capsule including a compound having a functional group permitting the mutual function between the hydrophilic surface in a molecule, is provided on a substrate having the hydrophilic surface.例文帳に追加

親水性表面を有する支持体上に、分子内に、該親水性表面と相互作用しうる官能基を有する熱可塑性微粒子ポリマー或いは、分子内に、該親水性表面と相互作用しうる官能基を有する化合物を内包するマイクロカプセルの少なくとも１種を含む感熱層を設けることを特徴とする。 - 特許庁

The TEG chip has metal wiring including at least one metal layer buried in an insulating film 13 formed on a semiconductor substrate 1, at least two pad electrode for electric characteristic evaluation formed on an upper surface of the insulating film 13, and at least one pad electrode 3 for bonding evaluation formed on the insulating film surface.例文帳に追加

半導体基板１上に形成された絶縁膜１３に埋め込まれた少なくとも一層の金属層からなる金属配線と、絶縁膜１３表面に形成された少なくとも２つの電気特評価用パッド電極２と、絶縁膜表面上に形成された少なくとも１つのボンディング評価用パッド電極３とを具備している。 - 特許庁

The mask blank comprises a thin film formed on a substrate for forming a mask pattern, and a resist film formed above the thin film, and is characterized in that the patterned resist film is prevented from collapsing upon developing the resist film for patterning by inserting a deposition layer joined with the thin film and the resist film.例文帳に追加

基板上に成膜されたマスクパターンを形成するための薄膜と、この薄膜の上方に成膜されたレジスト膜を備えるマスクブランクであって、 前記薄膜と前記レジスト膜とに接合した付着層を介挿することにより、前記レジスト膜をパターン形成する際の現像に際し、パターン形成されたレジスト膜の倒れを防止することを特徴とする。 - 特許庁

The front substrate of the image display device comprises a metal back layer which is overlaid on the phosphor screen and composed of a plurality of divided electrodes 30, a common electrode 41 for supplying voltage to the divided electrode 30, and a connection resistance 43 which connects the divided electrode 30 to the common electrode 41.例文帳に追加

画像表示装置を構成する前面基板は、蛍光面に重ねて設けられているとともに分割された複数の分割電極３０によって構成されたメタルバック層、分割電極３０に電圧を供給するための共通電極４１と、分割電極３０と共通電極４１とを接続する接続抵抗４３と、を有している。 - 特許庁

An optical printer head comprising a substrate 1 with a large number of light emitting elements 2a mounted, stored in a housing 3 with a lens 6 mounted such that the lens 6 is disposed above the light emitting elements 2a, wherein an optical catalyst layer 8 to be activated by a light beam emitted by the light emitting elements 2a, is provided on the outer surface of the lens 6.例文帳に追加

レンズ６が取着されているハウジング３の内部に、多数の発光素子２ａを搭載した基板１を、前記レンズ６が前記発光素子２ａ上に位置するようにして収納させてなる光プリンタヘッドにおいて、前記レンズ６の外表面に、発光素子２ａの発する光により活性化する光触媒層８を被着させる。 - 特許庁

After a cavity 11 with a desired product shape engraved on a mold substrate is subjected to carving processing, spherical particles are sprayed on the surface of the cavity 11 to grind the angular vertexes of the unevenness of the surface of the cavity formed by the carving processing to form a satin finish surface, and a plating layer 12 is formed on the surface of the satin finish surface.例文帳に追加

金型基材に所望の製品形状を象ったキャビティ１１の彫り込み加工をした後、キャビティ１１の表面に球状粒子を吹き付けて彫り込み加工によって生じたキャビティ１１の表面の凹凸の角張った頂点部を研削した梨地仕上げ面を形成し、該梨地仕上げ面の表面にメッキ層１２を形成した。 - 特許庁

In a resin injection molding apparatus for a resin molded article with a fine concavo-convex pattern on one side, a mold apparatus for molding a substrate for an optical disc characterized in that a multiple layer type stamper having plural heat insulating layers separated each other on a mold for forming an injected matter in contact with the fine concave-convex pattern face described above is installed, as a main construction.例文帳に追加

片面が微細な凹凸パターンを持つ樹脂射出品の樹脂射出成形装置において、前記微細な凹凸パターン面に接して射出品を形成する金型に互いに、隔離した複数層の断熱層を含む多層式スタンパを設置したことを特徴とする光ディスク用基板を成形する金型装置を主たる構成にする。 - 特許庁

Alternatively, in the lens protection transfer sheet, the substrate sheet has an approximately U-shaped cross section, the bottom part of the central crest part is lower than the apex parts of both side walls, the lower surface of the central crest part is in a shape corresponding to the outline of the lens, and the hard coat layer is formed at least on the lower surface of the central crest part.例文帳に追加

また、基体シートが断面大略Ｕ字状を呈し、中央の谷部の底部が両側壁の頂部より低く、かつ中央の谷部の下面はレンズ外形状に相応する形状を呈するレンズ保護転写シートであって、少なくとも中央の谷部の下面にハードコート層が形成されたことを特徴とするレンズ保護転写シートである。 - 特許庁

In a laminated film for metal surface coating 100A to manufacture screen board by coating on the metal surface, a substrate resin layer 10, a stratum 20 whereupon the embossing can be given, an adhesive polymer composition stratum 30 which consists of denaturation polyester-based elastomer, a stratum 40 which consists of ethylene-vinyl alcohol copolymer resin, and a stratum 50 which consists of adhesive fluororesin are stacked in this order.例文帳に追加

金属表面に被覆してスクリーンボードとするための金属被覆用積層フィルムにおいて、基材樹脂層、エンボス付与可能層、変性ポリエステル系エラストマーからなる接着性重合体組成物層、エチレン-ビニルアルコール共重合体樹脂からなる層、及び、接着性フッ素樹脂からなる層をこの順に積層する。 - 特許庁

A gate insulating film 4 is formed so as to extend from the interior of the trench 8 to the surface of the p-base 2 of the semiconductor substrate by a thermal process, and also impurity ions of high concentration implanted to the front layer of the p-base 2 and the bottom part of the trench 8 are activated to form a source region 3 and a well region 10 at the same time.例文帳に追加

そして、熱処理によってトレンチ８内部から半導体基板のｐベース２表面にまで延在するようにゲート絶縁膜４を形成するとともに、ｐベース２の表層およびトレンチ８底部に注入された高濃度の不純物イオンを活性化させてソース領域３およびウェル領域１０を同時に形成するものである。 - 特許庁

To provide a polishing agent for CMP capable of suppressing occurrence of dishing, thinning, and polishing flaws in copper or copper alloy wiring, achieving high speed polishing for a barrier layer of tantalum, tantalum alloy, tantalum compound, or the like in low concentration of abrasive particles, and forming an embedded pattern of a metal film having high reliability, and to provide a method for polishing a substrate by using the agent.例文帳に追加

銅又は銅合金配線におけるディシング、シニング及び研磨キズの発生を抑制し、低砥粒濃度においてタンタル、タンタル合金又はタンタル化合物等のバリア層の高速研磨を実現し、信頼性の高い金属膜の埋め込みパターンを形成することができるＣＭＰ用研磨剤と、それを用いる基板の研磨方法とを提供する。 - 特許庁

The recessed oxide film structure is manufactured in such a way that a hardening resin solution is filled in micropores of an anodic oxide film obtained by anodic treatment of aluminum or the like, the hardening resin solution is hardened to make a resin mold, the resin mold is pierced in a sol layer made of fine particles of titanium oxide or the like formed on the substrate, and they are heated and baked.例文帳に追加

この凹型酸化膜構造体は、アルミニウムなどを陽極酸化処理して得られた陽極酸化被膜の微細孔中に硬化性樹脂液を充填し硬化させて樹脂型を作り、この樹脂型を基板上に形成された酸化チタンなどの微粒子からなるゾル層に突き刺し、これを加熱焼成する方法などで製造される。 - 特許庁

After the polycrystalline silicon layer 5 is formed via an insulation film 3 on one surface of a semiconductor substrate 1, a first oxide film 6, which does not comprise an impurity element adjusting the diffusion of an impurity element, is formed and then a second oxide film 7 comprising an impurity element is formed.例文帳に追加

半導体基板１の一方の表面上に絶縁膜３を介して多結晶シリコン層５を形成した後、不純物元素の拡散を調整する不純物元素を含まない第１の酸化膜６を形成し、次いで、不純物元素を含む第２の酸化膜７を形成したことを特徴とする多結晶シリコン抵抗５１の製造方法。 - 特許庁

In a photomechanical process in which a planographic printing plate having physical developing nuclei between an anodically oxidized aluminum substrate and a silver halide emulsion layer and utilizing a silver complex salt diffusion transfer process is subjected to at least development after exposure, an amino acid and glycerol or its polymer or saccharides are contained in a developing solution used.例文帳に追加

陽極酸化されたアルミニウム支持体とハロゲン化銀乳剤層の間に物理現像核を有する銀錯塩拡散転写法を利用した平版印刷版を露光後少なくとも現像処理する製版方法において、該現像液中にアミノ酸と、グリセリンもしくはその多量体、又は糖類を含有する事を特徴とする平版印刷版の製版方法。 - 特許庁

The three-dimensional integrated circuit device 10 has a structure in which a plurality of single crystal or semi-single crystal thin-film semiconductor layers 13, 16 are formed on the glass substrate 11 via an interlayer insulating layer 14, and active elements Tr21, Tr22 are formed on one or more layers of the thin-film semiconductor layers 13, 16.例文帳に追加

ガラス基板１１上に、単結晶もしくは準単結晶の薄膜半導体層１３，１６が、層間絶縁層１４を介して複数層積層形成され、複数層の薄膜半導体層１３，１６のうち１層以上に能動素子Ｔｒ２１，Ｔｒ２２が形成されている３次元集積回路装置１０を構成する。 - 特許庁

The ink accepting layer which the medium has on a water-resistant substrate contains the pseudo-boehmite-like alumina hydrate, polyvinyl alcohol having a saponification degree less than 90% and an average polymerization degree of 3,000 or more, a crosslinking agent for crosslinking the polyvinyl alcohol, a cationic polymer including quaternary ammonium in the skeleton, a magnesium ion or a precursor thereof and an SCN ion or a precursor thereof.例文帳に追加

耐水性支持体上に有するインク受容層が、擬ベーマイト状アルミナ水和物と、ケン化度９０％未満、平均重合度３０００以上のポリビニルアルコールと、ポリビニルアルコールを架橋する架橋剤と、４級アンモニウムを骨格に含むカチオンポリマーと、マグネシウムイオン又はその前駆物質と、ＳＣＮイオン又はその前駆物質とを含んでいる。 - 特許庁

The substrate 11 comprises: on one of surfaces thereof, a first electrode 12a as well as a first terminal 12d; first wiring 12b and 12c connecting the first electrode 12a and the first terminal 12d; a first insulation protection membrane 13 covering the first electrode 12a; and a first corrosion layer 14 arranged on the first insulation protection membrane 13.例文帳に追加

この基板１１の一方の面上には、第１の電極１２ａ及び第１の端子１２ｄと、第１の電極１２ａと第１の端子１２ｄとの間を接続する第１の配線１２ｂ，１２ｃと、第１の電極１２ａを覆う第１の絶縁保護膜１３と、第１の絶縁保護膜１３上に配置された第１の腐食層１４とを有する。 - 特許庁

The ink jet receptive sheet for solvent ink has an ink receptive layer which comprises 50-100 wt% of methyl methacrylate and 0-50 wt% methacrylic or vinyl monomer other than the methyl methacrylate and has an acrylic resin of ≥300,000 and ≤1,000,000 in weight-average molecular weight as a principal component on at least one side surface of a substrate sheet.例文帳に追加

基材シートの少なくとも片面に、メチルメタクリレート５０〜１００重量％、およびメチルメタクリレート以外の（メタ）アクリル系またはビニル系単量体０〜５０重量％から構成され、重量平均分子量が３０万以上１００万以下のアクリル系樹脂を主成分とするインク受容層を有する溶剤系インク用インクジェット受容シート。 - 特許庁

This method comprises coating a dispersion on a substrate to form a thermo-adhesive layer wherein the dispersion contains a thermoplastic resin and plasticizers of solid at normal temperature and is characterized by including two kinds of the plasticizers in the dispersion wherein one kind of the plasticizer has ≤1.5 μm volume average mean particle diameter and the other has ≥2.5 μm volume average mean particle diameter.例文帳に追加

支持体上に熱可塑性樹脂及び常温で固体の可塑剤を含有する分散液を塗工して熱粘着剤層を形成するに際して、該分散液中での常温で固体の可塑剤として体積平均粒子径１．５μｍ以上のものと体積平均粒子径２．５μｍ以上のものの二種類を共存させる。 - 特許庁

In the optical recording medium, a recording layer (2) is formed by a solution coating method using a coating solution containing at least one selected from a metal chelate dye, a polymethine dye, a squarylium dye and an azaannulene dye on a substrate (1) with a guide groove to which reverse sputtering treatment is applied by using an inert gas such as a He gas under reduced pressure.例文帳に追加

予め減圧下でＨｅガス等の不活性ガスにより逆スパッタ処理が施された案内溝付基板(1)上に、金属キレート色素、ポリメチン色素、スクアリリウム色素、アザアヌレン色素から選ばれる少なくとも一種を含有する塗工液を用いて溶液塗布法により記録層(2)が形成された構成の光記録媒体とする。 - 特許庁

An organic solvent in which at least an organic ammonium salt is dissolved is expanded on a water phase in which at least a first inorganic halide composed of the halide of a group IV element or a transition metal and one or more kinds of second inorganic halides composed of the halide of alkali metal are dissolved, and the produced organic/inorganic layer-shaped perovskite monomolecular film is moved onto a substrate.例文帳に追加

少なくとも、ＩＶ族元素又は遷移金属のハロゲン化物からなる第１の無機ハライドとアルカリ金属のハロゲン化物からなる１種以上の第２の無機ハライドとを溶解させた水相上に、少なくとも有機アンモニウム塩を溶解させた有機溶媒を展開し、生成した有機無機層状ペロブスカイトの単分子膜を基板上に移し取る。 - 特許庁

To solve problems that forming efficiency of the EL luminous layer is insufficient since an organic fluorescent light-emitting substance of low molecules is used conventionally and that there is unevenness in the mechanical property and difficulty of maintaining spacings between the two film-shape substrates as the EL element constructed by using a film-shape substrate is sealed only at the peripheral part formerly.例文帳に追加

従来、低分子の有機蛍光発光体を用いていたので、ＥＬ発光層の形成の効率が不十分であり、また、従来、フィルム状基材を用いて構成されたＥＬ素子が、周縁部のみ封止されていたため、機械的性質の不均一さや、二枚のフィルム状基材間の間隔の維持が困難であった点を解消することを課題とする。 - 特許庁

To provide an insulating resin with excellent adsorptive properties to a plating catalyst or a precursor thereof and resistance to hydrolysis; an insulating resin layer-forming composition; a laminate easily forming a metal film or a metal pattern with excellent close adhesion to a substrate; and methods for producing a surface metal film material and a metal pattern material.例文帳に追加

めっき触媒又はその前駆体との吸着性及び加水分解に対する耐性に優れた絶縁性樹脂、絶縁性樹脂層形成用組成物、基板との密着性に優れた金属膜又は金属パターンを簡易に形成しうる積層体、表面金属膜材料及び金属パターン材料の作製方法を提供する。 - 特許庁

The thin film transistor has a structure including a gate electrode 20 formed on a substrate 10, a gate insulating film 30 on the gate electrode 20, an oxide semiconductor film 40 on the gate electrode 20 and the gate insulating film 30, a metal oxide film 60 on the oxide semiconductor layer 40, and a metal film 70 on the metal oxide film 60.例文帳に追加

薄膜トランジスタの構造を、基板１０上に形成されたゲート電極２０と、ゲート電極２０上のゲート絶縁膜３０と、ゲート電極２０およびゲート絶縁膜３０上の酸化物半導体膜４０と、酸化物半導体膜４０上の金属酸化物膜６０と、金属酸化物膜６０上の金属膜７０と、を有する構造とする。 - 特許庁

To provide an integrated thin film type of photoelectric converter which can change the area of a light-receiving section of each photoelectric conversion element according to the distribution of the film thickness of thin-film silicon, even when the film thickness of the thin-film silicon deposited as a photoelectric conversion layer is nonuniform, from the center to the peripheral part of a substrate.例文帳に追加

光電変換層として成膜した薄膜シリコンの膜厚が、基板の中央から周縁部に向かって不均一であった場合でも、薄膜シリコンの膜厚の分布に応じて各光電変換素子の受光部の面積を変化させることができる集積薄膜型の光電変換装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a polishing medium for CMP capable of suppressing the occurrence of dishing, thinning and polishing flaws in copper or copper alloy wiring, achieving high speed polishing for a barrier layer of tantalum, tantalum alloy, tantalum compound or the like in low concentration of abrasive particles, and forming an embedded pattern of a metal film having high reliability, and a method for polishing a substrate by using the same.例文帳に追加

銅又は銅合金配線におけるディシング、シニング及び研磨キズの発生を抑制し、低砥粒濃度においてタンタル、タンタル合金又はタンタル化合物等のバリア層の高速研磨を実現し、信頼性の高い金属膜の埋め込みパターンを形成することができるＣＭＰ用研磨剤と、それを用いる基板の研磨方法とを提供する。 - 特許庁

A light emitting module 32 includes: a plurality of semiconductor light emitting element 42a to 42d; a substrate 34 supporting the plurality of semiconductor light emitting elements arranged; and a plate-shaped fluorescent layer 44, that is provided facing light emitting surfaces 43a to 43d of the plurality of semiconductor light emitting elements and converts the wavelength of light emitted from the semiconductor light emitting elements.例文帳に追加

発光モジュール３２は、複数の半導体発光素子４２ａ〜４２ｄと、配列された複数の半導体発光素子を支持する基板３４と、複数の半導体発光素子の発光面４３ａ〜４３ｄに対向するように設けられ、半導体発光素子が発する光の波長を変換する板状の蛍光体層４４と、を備える。 - 特許庁

In the process wherein the end surfaces 20B of the plurality of SiC substrates 20 are bonded to each other, a process for heating connection parts that is a region containing a surface of the supporting layer 10 facing a region where the end surfaces 20B of the adjacent SiC substrate 20 face each other, and a process for cooling the connection parts are carried out repeatedly.例文帳に追加

そして、複数のＳｉＣ基板２０の端面２０Ｂ同士を接合する工程では、隣接するＳｉＣ基板２０の端面２０Ｂ同士が互いに対向する領域に面する支持層１０の表面を含む領域である接続部が加熱される工程と、当該接続部が冷却される工程とが繰り返して実施される。 - 特許庁

The release sheet is produced by forming a resin composition containing a polylactic acid resin (A) and 0.5-15 pts.mass of an organopolysiloxane compound (B) based on 100 pts.mass of the polylactic acid resin (A), and the adhesive sheet is produced by laminating the release sheet on a tacky adhesive layer formed on at least one side of an adhesive sheet substrate.例文帳に追加

ポリ乳酸系樹脂（Ａ）と、ポリ乳酸系樹脂（Ａ）１００質量部に対して、０．５〜１５質量部の有機ポリシロキサン化合物（Ｂ）とを含有する樹脂組成物を成形してなることを特徴とする剥離シート、及び、粘着シート基材の少なくとも一方の面に形成された粘着剤層に、前記剥離シートが積層されてなる粘着シート。 - 特許庁

The epitaxial wafer 1 has a silicon epitaxial layer 20 of 10^16 atoms/cm^3 order in phosphorous concentration and 0.5 to 20 μm in film thickness, on the silicon substrate 10 of 10^19 atoms/cm^3 order in phosphorous concentration and 0.8×10^18 to 1.3×10^18 atoms/cm^3 in oxygen concentration.例文帳に追加

本発明に係わるエピタキシャルウェーハ１は、リン濃度が１０^１９ａｔｏｍｓ／ｃｍ^３オーダーであり、酸素濃度が０．８×１０^１８〜１．３×１０^１８ａｔｏｍｓ／ｃｍ^３であるシリコン基板１０上に、リン濃度が１０^１６ａｔｏｍｓ／ｃｍ^３オーダーで、膜厚が０．５〜２０μｍのシリコンエピタキシャル層２０を有する。 - 特許庁

A substrate 10 of which at least the surface is non-conductive is prepared, the underlayer 11 including a plurality of fine particles 11p of at least one type with a conductive zinc oxide as a main constituent is formed on the surface by an application method, and a conductive zinc oxide thin-film layer 12 is formed on the underlayer 11 by a chemical bath deposition method.例文帳に追加

少なくとも表面が非導電性である基板１０を用意し、その表面に導電性酸化亜鉛を主成分とする少なくとも１種の複数の微粒子１１ｐを含む下地層１１を塗布法により形成し、下地層１１上に、導電性酸化亜鉛薄膜層１２を化学浴析出法により形成する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a light emitting device, capable of suppressing the decline of reliability while suppressing the variations of chromaticity by arranging a phosphor in the vicinity of the bottom of a translucent resin material in the shape of a layer of a roughly uniform thickness without giving vibrations to a substrate filled with the translucent resin material containing the phosphor, and to provide the light emitting device.例文帳に追加

蛍光体を含有した透光性樹脂材を充填した基体に、振動を与えることなく、蛍光体を透光性樹脂材の底部付近に略均一な厚さの層状に配置することで、色度のばらつきを抑えつつ、信頼性の低下を抑止することが可能な発光装置の製造方法および発光装置を提供する。 - 特許庁

The apparatus exhibits alignment regulating force by disposing a wire grid polarizer 7 having a plurality of metal film slits 7a in an irradiation window 6 of a UV lamp box 1 that houses a plurality of UV lamps 2 composed of 172-nm excimer UV lamps employing a long-arc system, and by irradiating a substrate 5 to be exposed as an alignment layer, with polarized UV rays.例文帳に追加

ロングアーク方式の１７２ｎｍエキシマＵＶランプによるＵＶランプ２を複数本収容したＵＶランプボックス１の照射窓６に、金属膜スリット７ａを複数有するワイヤグリッド偏光子７を設置して、配向膜としての被露光基板５に偏光された紫外線を照射することによって、配向規制力を発現させることを特徴とする。 - 特許庁

The cubic effect forming exterior material includes a resin layer (140) formed on a substrate and having an uneven pattern and a metal film (150) and an opaque film (160) which are formed on a protrusion part or a recessed part in this order, wherein a light transmission part transmitting light is formed on the protrusion part or the recessed part.例文帳に追加

基板上に形成され、凹凸パターンを有する樹脂層（１４０）と、前記凹凸パターンの突出部または凹入部に順に形成される金属膜（１５０）及び不透明膜（１６０）と、を含み、前記突出部または凹入部には光が透過する光透過部が形成されることを特徴とする立体感形成外装材及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

On a first active region 10a of a semiconductor substrate 10, a first transistor of a first conductivity type is formed which includes a first gate insulating layer 13a containing the high dielectric material and a first metal, a lower conductive film 15a, and a first gate electrode 30a which has a first conductive film 18a and a first silicon film 19a.例文帳に追加

半導体基板１０の第１の活性領域１０ａ上には、高誘電体材料と第１の金属とを含有する第１のゲート絶縁膜１３ａと、下層導電膜１５ａと第１の導電膜１８ａと第１のシリコン膜１９ａとを有する第１のゲート電極３０ａとを備えた第１導電型の第１のトランジスタが形成されている。 - 特許庁

The method for manufacturing an organic EL light-emitting device includes a step of forming the common electrode, after forming a disconnection-proof structure which contacts with a part of the functional layer except a substrate, the bank, and a pixel electrode and strides across the pixel region along rows or columns, by injecting the liquid material into the pixel region surrounded by the bank.例文帳に追加

バンクで囲まれた画素領域に、液状材料を吐出することにより、基板、バンク及び、画素電極上を除く機能層の一部に接しており、かつ行方向又は列方向に沿って前記画素領域を跨る断線防止構造を形成した後、共通電極を形成することを特徴とする有機ＥＬ発光装置の製造方法。 - 特許庁