「layer substrate」に関連した英語例文の一覧と使い方(775ページ目) - Weblio英語例文検索

In a counter substrate 20 of the transflective liquid crystal device 100, a color filter 241 for transmissive display which is thin and has a wide chromaticity region is formed on a transmissive display region 100c of the lower layer side of a counter electrode 21, and a color filter 242 for reflective display which is thick and has a narrow chromaticity region is formed on a reflective display region 100b.例文帳に追加

半透過反射型液晶装置１００の対向基板１０では、対向電極２１の下層側のうち、透過表示領域１００ｃには薄くて色度域の広い透過表示用カラーフィルタ２４１を形成し、反射表示領域１００ｂには厚くて色度域の狭い反射表示用カラーフィルタ２４２を形成する。 - 特許庁

In the method for manufacturing a glazed substrate in which a glazed layer 2 is formed on a ceramic base 1 and in addition, a resist film 3 with a specified pattern is formed thereon and after an etching treatment, the resist film 3 is removed, by spraying sodium bicarbonate particles with a particle diameter of at most 250 μm with at least a pressurized liquid from a nozzle 5.例文帳に追加

セラミック基板１上にグレーズ層２を形成し、さらにその上に所定パターンのレジスト膜３を形成して、エッチング処理後にレジスト膜３を除去するグレーズ基板の製造方法において、ノズル５から粒子径が２５０μｍ以下の炭酸水素ナトリウム粒子を少なくとも加圧液体と共に吹付けてレジスト膜３を除去する。 - 特許庁

The adhesive tape for protecting an electrode plate, which includes an adhesive layer at least one side of a substrate, has a piercing resistance of 300 gf mm or more and a heat shrinkage ratio of 1.0% or less in both of TD (width) direction and MD (length) direction when heat is applied at 260 °C for 1 hour.例文帳に追加

本発明の極板保護用粘着テープは、基材の少なくとも一方の面に粘着剤層を有する極板保護用粘着テープであって、突き刺し耐性が３００ｇｆ・ｍｍ以上であり、且つ、２６０℃、１時間加熱した際の収縮率が、ＴＤ（巾）方向収縮率、ＭＤ（長さ）方向収縮率共に、１．０％以下であることを特徴とする。 - 特許庁

To obtain a curable composition excellent in coating properties and capable of forming on the surface of various substrates a coating film having a high hardness and a high refractive index and excellent in scratch resistance as well as in adhesion to a substrate and a low-refractive-index layer, a cured product thereof and a laminate having a low reflectance and excellent in chemical resistance.例文帳に追加

優れた塗工性を有し、かつ各種基材の表面に、高硬度及び高屈折率を有するとともに耐擦傷性並びに基材及び低屈折率層との密着性に優れた塗膜（被膜）を形成し得る硬化性組成物、その硬化物、並びに低反射率を有するとともに耐薬品性に優れた積層体を提供する。 - 特許庁

The high dielectric constant gate insulating film 3 has a first region 3a sectioned from the source layer 6 side end to the upper part of the channel region 2 while spaced apart from the semiconductor substrate 1, and a second region 3b other than the first region 3a wherein the atomic density of metal element in the first region 3a is higher than that in the second region 3b.例文帳に追加

この高誘電率ゲート絶縁膜３は、半導体基板１から離隔しつつソース層６側の端からチャネル領域２上方まで区画された第１領域３ａとこの第１領域３ａ以外の第２領域３ｂとを有し、第１領域３ａ内の金属元素の原子濃度が、第２領域３ｂ内の金属元素の原子濃度よりも高い。 - 特許庁

A stripe width which is at least in a ridge shape is provided directly below and in parallel with a stripe 201, at least in a ridge shape of the reverse side of a nitride semiconductor substrate 5 at the side opposite to a side with element structure, and a light absorbable film 202 for absorbing light with a laser oscillation wavelength which leaked out from a laser waveguide including an active layer is formed.例文帳に追加

素子構造を有する側とは反対の窒化物半導体基板５裏面の少なくともリッジ形状のストライプ２０１の真下であって且つ平行に、少なくともリッジ形状のストライプ幅を有し、活性層を含むレーザ導波路から漏れ出したレーザ発振波長の光を吸収できる光吸収膜２０２が形成されてなる。 - 特許庁

The thickness of a film material for use in a recording layer oriented to BCA data or close to the inner periphery of the storage medium in the vicinity thereof is formed in uniform thickness by using a substrate of the storage medium formed by being sucked by means of sucking mechanisms 71 and 72 formed in an arc shape so as to integrate two of the sucking mechanisms adjacent to each other.例文帳に追加

この発明は、ＢＣＡデータ向けあるいはその近傍の記憶媒体の内周寄りの記録層に用いられる膜材料の厚みが、互いに隣接する２つを一体化するように、円弧状とした吸着機構７１，７２により吸引されて形成された記憶媒体の基材を用いることにより均一な厚みに形成される。 - 特許庁

In the thermal recording body provided with a thermal recording layer comprising a colorless or light-colored leuco dye, a coloring agent and a conservation stabilizer on a substrate, the conservation stabilizer is characterized by comprising 4-benzyloxy-4'-(2-methyl-glyciloxy)diphenyl sulfone and 1,1,3-tris(2-methyl-4-hydroxy-5-tert-butylphenyl)butane.例文帳に追加

支持体上に、無色ないしは淡色のロイコ染料、呈色剤および保存安定剤を含有する感熱記録層を設けた感熱記録体において、保存安定剤が４−ベンジルオキシ−４’−（２−メチル−グリシジルオキシ）ジフェニルスルホン及び１，１，３−トリス（２−メチル−４−ヒドロキシ−５−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ブタンであることを特徴とする。 - 特許庁

To enable properly adjusting front luminance of colored light each emitted from each luminescent layer provided in a surface luminescent element, in a surface emitter equipped with a surface luminescent element in which the light emitting surface of a translucent substrate to emit light is provided and luminescent layers to emit light having a plurality of different wavelengths are provided on the opposite side surface.例文帳に追加

光を出射する透光性基板の出射面と反対側の面に異なった複数の波長の発光を行う発光層が設けられた面発光素子を備えた面発光体において、面発光素子に設けられた各発光層から発光される各色彩の光の正面輝度を適切に調整できるようにする。 - 特許庁

This display device including a display area 90c which has a reflection area 90a and a transmission area 90b, has a projecting insulating film 11 formed on an area of a glass substrate 1 corresponding to the reflection area 90a and the alignment layer 15 formed covering the projecting insulating film 11.例文帳に追加

この表示装置は、反射領域９０ａと透過領域９０ｂとを有する表示領域９０ｃを含む表示装置であって、ガラス基板１の反射領域９０ａに対応する領域上に形成された凸状の絶縁膜１１と、凸状の絶縁膜１１を覆うように形成された配向膜１５とを備えている。 - 特許庁

On a substrate whose normal direction of a principal surface is inclined by 15° toward a crystal orientation [111]A direction with respect to a crystal orientation [100] direction, a plurality of semiconductor layers including a resonator structural body including an active layer, and a lower semiconductor DBR and an upper semiconductor DBR sandwiching the resonator structural body are stacked.例文帳に追加

主面の法線方向が、結晶方位［１ ０ ０］方向に対して、結晶方位［１ １ １］Ａ方向に向かって１５度傾斜している基板上に、活性層を含む共振器構造体及び該共振器構造体を挟んで設けられた下部半導体ＤＢＲ及び上部半導体ＤＢＲを含む複数の半導体層が積層されている。 - 特許庁

To provide a photo-curing sheet which can be favorably used for manufacturing a formed article excellent in designing performance and is excellent in an abrasion resistance, weather resistance and chemical resistance while having a good adhesiveness between a photo-curing composition layer and a substrate sheet, a non-sticky surface and an excellent processability and storage stability, and a formed article using the sheet.例文帳に追加

意匠性の良好な成形品の製造に有利に用いることのできる、耐磨耗性、耐候性および耐薬品性に優れ、かつ、光硬化性樹脂組成物の層と基材シートとの密着性が良好であり、表面粘着性がなく、加工性および保存安定性に優れた光硬化性シートおよびそのシートを用いた成形品を提供すること。 - 特許庁

In the heat-sensitive recording material provided with a heat- sensitive color developing layer ordinarily containing a colorless or light-colored color developing compound and a developing compound which can develop the color of the color developing compound under heating as main ingredients on a substrate, the heat-sensitive recording material is characterized by incorporating 2,5-dimethyl resorcinol as the developing compound.例文帳に追加

支持体上に通常無色ないし淡色の発色性化合物、該発色性化合物を熱時発色させうる顕色性化合物を主要成分として含有する感熱発色層を設けた感熱記録材料において、該顕色性化合物として２，５−ジメチルレゾルシンを含有することを特徴とする感熱記録材料。 - 特許庁

To provide a cylindrical core body capable of easily extracting a resin film formed on a surface of the core body, a method for regenerating it and a manufacturing method of an endless belt made by using the cylindrical core body, in manufacturing the endless belt using a cylindrical core body provided with a heat-resistant resin layer formed on the surface of a metallic substrate.例文帳に追加

金属製基体の表面に耐熱性樹脂層を設けた円筒状芯体を用いた無端ベルトの製造にあたり、芯体の表面に形成する樹脂皮膜の抜き取りを容易に行うことができる円筒状芯体及びその再生方法、並びに該円筒状芯体を用いた無端ベルトの製造方法を提供することである。 - 特許庁

To provide a semiconductor device and a manufacturing method thereof wherein the generation of its leakage current can be prevented from a shared contact into a substrate, even though it has a wiring present on a separative insulating film, side walls formed on the side surfaces of the wiring, and the shared contact whereby the wiring and an impurity diffusion layer are connected on an active region.例文帳に追加

分離絶縁膜上の配線と、この配線の側面上に形成されたサイドウォールと、配線と活性領域上の不純物拡散とを接続するシェアードコンタクトを備えた半導体装置であっても、シェアードコンタクから半導体基板へのリーク電流の発生を抑制することができる半導体装置およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a thermally resistant sliding member for a thrust bearing which can be inexpensively manufactured by forming an intermediate layer with a chemical conversion treatment method to reduce the coat, forms a chemical conversion treatment film, and a resin film containing a thermoplastic resin and a solid lubricant on an iron substrate, and can withstand a high temperature of 200°C or higher.例文帳に追加

コスト低減のために中間層を化成処理方法により形成せしめて、低コストで製造することができる、鉄基材上に、化成処理皮膜、並びに熱硬化性樹脂及び固体潤滑剤を含む樹脂皮膜を形成してなり、２００℃以上の高温に耐え得る高耐熱性のスラスト軸受用摺動部材を提供すること - 特許庁

In a ceramic multilayer substrate consisting of a laminate 33 having a surface electrode 30 on the main surface thereof, constraint layers 26 are formed inside the laminate 33 one on top of another as viewed from a laminated direction of the laminate 33, the area of the main surface of each constraint layer 26 being twice or less that of the surface electrode 30.例文帳に追加

表面電極３０を主面に備えた積層体３３からなるセラミック多層基板において、表面電極３０に対して、積層体３３の積層方向から見て重なるように積層体３３の内部に拘束層２６が形成されており、拘束層２６の主面の面積は、表面電極３０の主面の面積の２倍以下である。 - 特許庁

To provide an ultraviolet-curing composition excellent in adherence to a polymer including an alicyclic structure, preservation stability and capable of coating to an optical disk free from arching and a molded article having a coating layer comprising a hardened material of the composition and a method for coating an optical disk substrate comprising a polymer including the alicyclic structure using the composition.例文帳に追加

脂環構造含有重合体との密着性、及び保存安定性に優れ、光ディスク基板を被覆しても反りを生じさせない紫外線硬化性組成物、該硬化性組成物の硬化物からなるコート層を有する成形体、及び該組成物を用いて脂環構造含有重合体からなる光ディスク基板をコートする方法を提供すること。 - 特許庁

This method has a process in which an insulating film 4 containing an organic siloxane as a main component and an organic component having no chemical bonding with the organic siloxane is formed on a semiconductor substrate 1; and a process in which plasma treatment is applied to the insulation film 4 to remove the organic component, and to form a modified layer 5 on the surface of the insulating film 4.例文帳に追加

半導体基材１上に有機シロキサンを主成分としこの有機シロキサンと化学結合のない有機成分を含む絶縁膜４を形成する工程と、この絶縁膜４にプラズマ処理を行うことによって有機成分を除去するとともに絶縁膜４の表面に改質層５を形成する工程とを有する。 - 特許庁

When a hydrogen radical is discharged from a nozzle 25e at a stage where all via holes are formed at necessary places on a substrate W by a laser drill main body 13, the hydrogen radical reduces the bottoms of the respective via holes, so the top surface of a metal conductive layer of Cu, etc., oxidized by desmearing in drill machining is reduced and purified to form a metal surface.例文帳に追加

レーザドリル本体１３によって基板Ｗ上の必要箇所にすべてのビアホールを形成した段階で、ノズル２５ｅから水素ラジカルを吐出させると、水素ラジカルが各ビアホールの底部を還元するので、ドリル加工中のデスミヤに際して酸化されたＣｕ等の金属導電層の表面を還元・純化して、金属表面とすることができる。 - 特許庁

A mark for controlling a manufacturing process is given to a region where no laser beams for laser scribing for each layer are applied of a peripheral region of a surface opposite to a surface where a light transmission substrate is formed, or a side surface, the mark is read in succeeding manufacturing processes, the read mark is utilized, and each manufacturing process is controlled.例文帳に追加

透光性基板の成膜される面とは反対側の面の周縁領域または側面の、各層に対するレーザースクライブのためのレーザー光が照射されない領域に、製造工程の管理のためのマークを付し、以後の各製造工程において、前記マークを読取り、読取られたマークを利用して各製造工程の管理を行うことを特徴とする。 - 特許庁

The film having the cured hard coated layer is obtained by preparing the photosensitive resin composition for the hard-coating agent and coating and curing the composition on a plastic film substrate, wherein the composition includes (A) a compound having at least two ethylenically unsaturated groups in a molecule, (B) a polymer having ≥10,000 weight-average molecular weight and (C) a photopolymerization initiator.例文帳に追加

分子中に少なくとも２つ以上のエチレン性不飽和基を有する化合物（Ａ）と重量平均分子量１万以上の高分子化合物（Ｂ）と光重合開始剤（Ｃ）を含有するハードコート剤用感光性樹脂組成物を調製し、これをプラスチックフィルム基材上に塗布、硬化しハ−ドコ−ト層つきのフイルムを得る。 - 特許庁

The element can be manufactured by aligning the Er atoms to the position among the lattices of the GaAs crystal through the epitaxial growth with simultaneous control of the evaporation velocity of the molecular beam source and expitaxial growth temperature on the GaAs substrate 2 of the (001) alignment or on the epitaxial growth layer of the (001) alignment using the Ga atoms, As atoms and Er atoms as the molecular beam sources.例文帳に追加

Ｇａ原子、Ａｓ原子及びＥｒ原子を分子線源とし、（００１）面方位ＧａＡｓ基板２上、または（００１）面方位エピタキシャル成長層上に、分子線源の蒸発速度と、エピタキシャル成長温度とを同時に制御してエピタキシャル成長し、Ｅｒ原子をＧａＡｓ結晶の格子間位置に配位させることにより製作できる。 - 特許庁

The above problem is solved by heat sink equipment for providing electrical insulating properties to an integrally shielded electronic circuit, comprising a substrate having a first hole extending between first and second surfaces, a conductive layer attached to the second surface, an electrically and thermally conductive heat sink attached to the first surface and having a protrusion.例文帳に追加

上記課題は、第一及び第二の面間に延びる第一の穴を有する基板と、第二の面に取り付けられた導電層と、第一の面に取り付けられた、突起を有する電気的及び熱的に伝導性のヒートシンクとを含む、一体的にシールドされた電子回路に電気絶縁性を提供するヒートシンク装置により解決される。 - 特許庁

This surface protecting sheet, used in grinding the rear surface of the semiconductor wafer, has on one surface of a substrate sheet an opening portion having a diameter smaller than the outer diameter of the semiconductor wafer to be pasted and having no thermoplastic adhesive formed thereon, and a pasting portion including a thermoplastic adhesive layer surrounding the opening portion.例文帳に追加

本発明の表面保護用シートは、半導体ウエハの裏面研削を行う際に用いる表面保護用シートであって、基材シートの片面に、貼付する半導体ウエハの外径よりも小径の熱可塑性接着剤が形成されていない開口部と、該開口部を囲繞する熱可塑性接着剤層を含む貼着部とを有することを特徴とする。 - 特許庁

The thin-film transistor 100 includes, as indicated in Fig.1, a substrate 11, a gate electrode 112, a gate insulating film 113, a semiconductor layer (channel region) 114, an etching stopper film 115, heavily doped amorphous silicon layers 116 and 117, a drain electrode 118, a source electrode 119, and lightly doped semiconductor layers 120 and 121.例文帳に追加

薄膜トランジスタ１００は、図１に示すように、基板１１と、ゲート電極１１２と、ゲート絶縁膜１１３と、半導体層（チャンネル領域）１１４と、エッチングストッパ膜１１５と、高濃度不純物含有アモルファスシリコン層１１６，１１７と、ドレイン電極１１８と、ソース電極１１９と、低濃度不純物含有半導体層１２０，１２１を備える。 - 特許庁

To provide a coating apparatus for forming a thick film which can remarkably decrease the mixing of bubbles at the time of applying a thick film paste to a substrate and can form a prescribed shape on the surface without cost increase or increasing the number of processes if necessary and is suitable for applying the thick film paste for forming a dielectric layer and an electrode of a plasma display panel.例文帳に追加

基板上に厚膜ペーストを塗布する際、気泡の混入を大幅に低減し、必要に応じて、コストアップ、工程増加を伴わずに表面に所定の形状を形成することが可能であり、プラズマディスプレイパネルの誘電体層や電極を形成する厚膜ペーストの塗布を実現できる厚膜塗布装置を提供する。 - 特許庁

To provide an electronic part excellent in connection reliability, its manufacturing method, and electronic part package by, when an electronic part is mounted on a wiring board by soldering, solving such problem that a crack occurs at a solder layer, etc., under the stress caused by difference in thermal expansion factor between an interposer substrate and wiring board for degraded connection reliability.例文帳に追加

電子部品を配線基板にはんだ付けにより実装する場合、インターポーザー基板と配線基板との熱膨張係数の差による応力によってはんだ層等にクラックが発生し、接続信頼性が低下するという課題を解決し、接続信頼性に優れた電子部品とその製造方法および電子部品実装体を提供することを目的とする。 - 特許庁

The heat sensitive recording body, prominent in resistance to light and provided on a substrate with a heat sensitive recording layer, containing a no-color or light-color basic inorganic dye and an organic developer as the principal constituents of the same, comprises titanium dioxide whose surface is treated by at least one kind of substance selected from silica, alumina and zirconia.例文帳に追加

支持体上に無色ないし淡色の塩基性無色染料と有機顕色剤とを主成分として含有する感熱記録層を設けた感熱記録体において、シリカ、アルミナ及びジルコニアから選ばれる少なくとも一種で表面処理した二酸化チタンを含有することを特徴とする、耐光性に優れた感熱記録体。 - 特許庁

The electropgptpgraphic photoreceptor is provided on a conducitve substrate with a charge generating layer containing the bisazo compound represented by formula I as the charge generating material and compound represented by formula II in an amount of 100 nmol-40 mmol, preferably, 500 nmol-20 mmol per 1 mol of the bisazo compound.例文帳に追加

導電性基体上に電荷発生物質として下記構造式（１）に示すビスアゾ化合物を含む感光層を有する電子写真用感光体において、感光層が前記ビスアゾ化合物１ｍｏｌに対して１００ｎｍｏｌ以上４０ｍｍｏｌ以下，好ましくは５００ｎｍｏｌ以上２０ｍｍｏｌ以下の量で下記構造式（２）に示す化合物を含有している感光体とする。 - 特許庁

At the time of laminating a plurality of layers on a semi- insulation substrate and forming a mesa region and the other regions by mesa etching, by selectively stopping the regions other than the mesa region to be etched at the layer of a slow etching speed, a level difference between a mesa step upper part and a mesa step lower part is suppressed and disconnection and narrowing of the gate electrode are prevented.例文帳に追加

半絶縁性基板上に複数の層を積層して、メサエッチングによってメサ領域とメサ領域以外の領域とを形成するときに、エッチングされるメサ領域以外の領域がエッチング速度の遅い層で選択停止することにより、メサ段差上部とメサ段差下部との段差を抑えてゲート電極の断線と狭小化を防止する。 - 特許庁

This semiconductor device is provided with a contact hole 47, inside which a boundary between diffusion layers 41 and 42 and an element isolation region 12 is exposed, and a high melting-point metal layer (a titanium film 48) for covering the surface of a silicon substrate 11 exposed inside the contact hole 47 is formed into a thickness of 5 nm-11 nm.例文帳に追加

拡散層４１，４２と素子分離領域１２との境界が内部に露出する接続孔（コンタクトホール４７）を備えた半導体装置において、コンタクトホール４７の内面に露出するシリコン基板１１表面を被覆する高融点金属層（チタン膜４８）が５ｎｍ以上１１ｎｍ以下の膜厚に形成されているものである。 - 特許庁

Pulse-laser beams containing at least two laser pulses are projected to a region in which impurities are injected, under conditions in which the surface layer of the semiconductor substrate is not melted, and conditions in which a delay time goes down to 1,000 ns or less until second laser pulses are projected after first laser pulses are projected, thus activating injected impurities.例文帳に追加

不純物の注入された領域に、半導体基板の表層部が溶融しない条件で、かつ、１番目のレーザパルスの入射から２番目のレーザパルスの入射までの遅延時間が１０００ｎｓ以下となる条件で、少なくとも２つのレーザパルスを含むパルスレーザビームを入射させ、注入されている不純物を活性化させる。 - 特許庁

To balance adhesion strength between disks to be laminated and a pressure- sensitive adhesive and stability against shock and vibration by controlling the thickness of the inner circumference part of a substrate and outer circumference part including a recording part and thickness of an adhesive layer to each specified range.例文帳に追加

リング形状のスタンパを用いて射出成形法により、ディスク形状の透明プラスチックからなる一対の基板を成形し、少なくとも一方の基板上には記録層を設けた上で、記録層を内側にして一対の基板を貼り合わせて構成する光記録媒体の製造方法において、貼り合わせた媒体の平面性向上を目的とする。 - 特許庁

The semiconductor device according to this embodiment has a first wiring 5 formed on a substrate 1; a second wiring 16 formed on an upper layer of the first wiring 5 and disposed with an air gap 20 interposed between itself and the first wiring 5; and a carbon nano-tube 11 formed in the air gap 20 and used to connect the first wiring 5 to the second wiring 16.例文帳に追加

本実施形態に係る半導体装置は、基板１上に形成された第１配線５と、第１配線５の上層に形成され、第１配線５との間にエアギャップ２０を介在させて配置された第２配線１６と、エアギャップ２０内に形成され、第１配線５と第２配線１６とを接続するカーボンナノチューブ１１とを有する。 - 特許庁

To improve the performance of metal foil with a resin having a resin layer on one side surface of the foil (e.g. copper foil) to be used to manufacture a build-up multilayer circuit substrate by using a thermosetting resin having excellent dielectric characteristics (low relative permittivity, low dielectric loss), high heat resistance, a low thermal expansion coefficient, and excellent processability in a B-stage state.例文帳に追加

ビルドアップ多層配線板の製造に用いる、金属箔 (例、銅箔) の片面に樹脂層を有する樹脂付き金属箔の性能を、誘電体特性に優れ（低比誘電率、低誘電損失）、高い耐熱性、低い熱膨張係数を有するとともに、Ｂステージ状態での加工性にも優れた、熱硬化性樹脂を用いることにより改善する。 - 特許庁

The method for manufacturing a semiconductor device comprises a step (a) for forming a semiconductor element on a semiconductor substrate, a step (b) for depositing an SiC:H film by repeating growth and stopping growth two times or more under a low pressure atmosphere, and a step (c) for forming an insulating cap layer on the SiC film or the SiC:H film.例文帳に追加

（ａ）半導体基板に半導体素子を形成する工程と、（ｂ）ＳｉＣ：Ｈ膜の成膜方法は、成長、成長停止を繰り返して、減圧雰囲気下で２回以上に分割してＳｉＣ：Ｈ膜を成膜する工程と、（ｃ）前記ＳｉＣ膜またはＳｉＣ：Ｈ膜上に絶縁キャップ層を成膜する工程とを含む半導体装置の製造方法。 - 特許庁

On a vibrating plate 4 arranged to cover a pressure generation chamber 2 formed in a channel substrate 1, a lower electrode 5, a piezoelectric layer 6 and an upper electrode 7 are laid in layers sequentially to form a piezolectric actuator section 8, and the upper electrode 7 and the lower electrode 5 are led out to a wiring joint 9 and connected with a wiring board supplying a drive signal.例文帳に追加

流路基板１に形成された圧力発生室２を覆うように配設された振動板４上に、下電極５、圧電層６、上電極７を順次積層して圧電アクチュエータ部８を形成し、上電極７および下電極５を配線接続部９まで引き出して、駆動信号を供給する配線基板に接続する。 - 特許庁

To provide a multilayer wiring substrate which is electromagnetically superior and also superior in heat dissipation and has via holes with high connection reliability, by controlling the thickness of a second insulating layer on the wiring patterns, while taking into account the area ratio of the second insulating layers for buring wiring patterns and all the wiring patterns having a signal pattern and a dummy pattern, and to provide a manufacturing method therefor.例文帳に追加

配線パターンを埋め込むための第２の絶縁層と、シグナルパターンとダミーパターンとを有する配線パターン全ての面積率を考慮し、配線パターン上の第２の絶縁層の厚みを制御することで電磁気的・放熱的に優れ、かつ高い接続信頼性を有するビアホールを備えた多層配線基板及びその製造方法を提供すること。 - 特許庁

A substrate 1 is provided with pixels 300 arranged in a two-dimensional shape, a first connection electrode 10 formed at the periphery of the pixels 300, and lead-out wirings Lsig1001 to Lsig1200, Lg1001 to Lg1200 which are formed below the first connection electrode 10 via an insulating layer 3 and connect the first connection electrode 10 with the respective pixels 300.例文帳に追加

基板１に、二次元状に配列された画素３００と、画素３００の周辺に形成された第１の接続電極１０と、第１の接続電極１０の下に絶縁層３を介して形成された第１の接続電極１０と各画素３００とを接続する引き出し配線Ｌｓｉｇ１００１〜Ｌｓｉｇ１２００，Ｌｇ１００１〜Ｌｇ１２００とを備える。 - 特許庁

The acoustic reflection layers 21 to 26 each comprise an (a) epitaxial conductive material formed alternately on the substrate 12, at least one of first layers 21, 23, 25 whose acoustic impedance is relatively high; and (b) the other epitaxial conductive material, and besides including an at least one of second layer 22, 24, 26 whose acoustic impedance is relatively low.例文帳に追加

音響反射層２１〜２６は、基板１２の上に交互に形成された、（ａ）エピタキシャルの導電材料からなり、音響インピーダンスが相対的に高い、少なくとも一つの第１層２１，２３，２５と、（ｂ）エピタキシャルの他の導電材料からなり、音響インピーダンスが相対的に低い、少なくとも一つの第２層２２，２４，２６とを含む。 - 特許庁

The method for forming a metal oxide film on the substrate in the reactor of atomic layer depositing equipment, using the plasma includes a step of feeding metal material compound into the reactor, a step of feeding oxygen gas into the reactor, and a step of producing oxygen plasma during a prescribed time inside the reactor.例文帳に追加

プラズマを用いる原子層蒸着装置の反応器内において基板上に金属酸化物膜を形成する方法であって、反応器内に金属原料化合物を供給する段階と、反応器内に酸素ガスを供給する段階と、反応器内に所定時間中に酸素プラズマを生じさせる段階と、を含む金属酸化物膜の形成方法。 - 特許庁

To configure a metal electrode from an inexpensive aluminum alloy rich in corrosion resistance, particularly in a dye-sensitized solar cell in which a photoelectric conversion layer is formed on a metal electrode to configure a negative electrode structure, and the negative electrode structure faces a transparent substrate and a positive electrode including a transparent electrode via an iodine-containing electrolyte solution.例文帳に追加

特に、金属電極上に光電変換層が形成されて負極構造体を構成し、この負極構造体が、ヨウ素を含む電解質溶液を介して透明基板及び透明電極を含む正極と対向してなる色素増感太陽電池において、金属電極を耐食性に富み、安価なアルミニウム合金から構成する。 - 特許庁

To provide a multilayered laminated body in which substrate internal stress is relaxed, thereby alleviating the warp after circuit forming and improving the product yield by suppressing a resin from releasing its stress through contraction after removing a copper foil of an outermost layer etching or the like, in a circuit forming process, and a resin which has lost the support of the copper foil.例文帳に追加

回路形成工程において、最外層の銅箔がエッチング等により除去され、銅箔の支えを失った樹脂が収縮することにより応力を開放しようとするのを抑制する、すなわち基板内部応力を緩和することで、回路成形後の反りを軽減し、製品歩留まりを向上できる多層積層体を提供する。 - 特許庁

The phase shift mask blank has, at least on a substrate, one or more layers of a phase shift film essentially comprising a metal silicide compound and one or more layers of a metal-containing film, and further has a buffer layer having a continuously varied composition of the film on the interface between the phase shift film and the metal-containing film.例文帳に追加

位相シフトマスクブランクであって、少なくとも、基板上に、金属シリサイド化合物を主成分とする１層以上の位相シフト膜と、１層以上のメタル含有膜を具備し、前記位相シフト膜と前記メタル含有膜との界面に、膜の組成が連続的に変化したバッファ層を有するものであることを特徴とする位相シフトマスクブランク。 - 特許庁