「light pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(117ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide an optical film superior in forming a pattern of a plurality of color tones, to provide a manufacturing method of the optical film capable of cost reduction in a short process, to provide a color conversion filter using the optical film, and to provide a multi-color light-emitting device.例文帳に追加

複数の色調のパターンの形成に優れた光学フィルム、短工程でコスト削減が可能な光学フィルムの製造方法、および該光学フィルムを用いた色変換フィルタおよび多色発光デバイスの提供。 - 特許庁

To enhance visibility of a front area of a vehicle, without imparting glares on a driver of an oncoming vehicle or a leading vehicle, in a lighting tool for a vehicle so structured to form an additional high-beam light distribution pattern.例文帳に追加

ハイビーム用の付加配光パターンを形成するように構成された車両用照明灯具において、対向車や先行車のドライバにグレアを与えてしまうことなく車両前方領域の視認性を高める。 - 特許庁

A laser lithographic device 13, which irradiates a laser beam emitted from a laser light source 1, to draw a prescribed pattern is provided with a separating optical mechanism 2 for separating the laser beam, emitted from the laser light source, into a plurality separated beams and radiation position adjustment mechanisms 8 which are provided for the separated beams respectively and irradiate the separated beams, while changing their irradiation directions to draw the prescribed pattern.例文帳に追加

レーザー光源１から発したレーザービームを照射して所定のパターンを描写するレーザー光による描写装置１３において、前記レーザー光源１から発したレーザービームを分離させて複数の分離ビームとする分散光学機構２と、前記各分離ビームごとに設けられ、各分離ビームの照射方向を変えて照射することにより前記所定のパターンを描写する照射位置調整機構８とを備えている。 - 特許庁

This aligner has a light source 1, an illumination optical system 6 for illuminating a pattern drawn on a mask 5 by a light source light, and a projection optical system 11 for projecting the illuminated pattern to a substrate 13.例文帳に追加

光源１と、マスク５に描かれたパターンを光源光で照明する照明光学系６と、照明されたパターンを基板１３に投影する投影光学系１１を有する露光装置であって、光源１から基板１３までの全体または一部を外気から遮蔽する容器７、１４、１７と、容器に接続された不活性ガスの供給ラインおよび排出ラインと、容器上若しくは容器と圧力的に等価な位置および／または供給若しくは排出ライン上若しくは供給若しくは排出ラインと圧力的に等価な位置に圧力調整手段２１〜２３を具備する。 - 特許庁

Pilot light outputted from an information transmitter 200 is reflected in a reflection area 121 of an optical element 120 of an information terminal 100, the position of a transmission area 122 is detected from its reflection light pattern, and an optical signal is outputted only to the transmission area and the periphery thereof.例文帳に追加

情報送信器２００から出力されたパイロット光を情報端末器１００の光学素子１２０の反射領域１２１で反射し、その反射光パターンから透過領域１２２の位置を検出し、透過領域とその周辺のみに光信号を出力することで、秘匿性の高いデータ伝送を行うことができる。 - 特許庁

The liquid crystal display device 1 has a pair of substrates 3, 4 which sandwich a liquid crystal layer 5, the light reflex film 22 provided on one substrate 3, an insulation film 23 provided on the light reflex film 22 and having a rugged pattern on the surface and a pixel electrode 24 provided on the insulation film 23.例文帳に追加

液晶層５を挟持する一対の基板３，４と、一方の基板３に設けられた光反射膜２２と、光反射膜２２上に設けられていて表面に凹凸パターンを有する絶縁膜２３と、絶縁膜２３上に設けられた画素電極２４とを有する液晶表示装置１である。 - 特許庁

The mask for exposure has physical developing nuclei on the transparent substrate, forms a circuit pattern using a silver film obtd. by dissolving a silver halide and receiving an image by the physical developing nuclei in development as a light shielding film and has a protective coat contg. at least a metal oxide component on the light shielding film.例文帳に追加

透明基板上に物理現像核を有し、ハロゲン化銀が溶解され、現像時に該物理現像核によって受像して得られる銀膜を遮光膜として、回路パターンを形成する露光用マスクにおいて、該遮光膜の上部に少なくとも金属酸化物成分を含む保護膜を有する事を特徴とする露光用マスク。 - 特許庁

In the method for forming the pattern, a photoresist layer 12 that allows heat-mode deformation is irradiated with condensed light to form a plurality of concave portions 15, wherein the photoresist layer is irradiated with light to form the concave portion 15 while air which is an inactive gas to the photoresist layer 12 is blown and moved on the photoresist layer 12.例文帳に追加

ヒートモードの形状変化が可能なフォトレジスト層１２に、集光した光を照射することで複数の凹部１５を形成するパターン形成方法であって、フォトレジスト層１２に対して不活性な気体である空気を吹き付けて、フォトレジスト層１２上で移動させながら光を照射して凹部１５を形成する。 - 特許庁

The light is irradiated in the direction of the monitoring zone in accordance with a structured optical pattern, and received from the monitoring zone, the received light is converted into a reception signal, and the reception signal is evaluated on the existence of an object in the monitoring zone or the movement of the object.例文帳に追加

照射光が、構造化された光パターンに従って監視区域の方向に照射され、かつ、監視区域から受容され、その受容光は受信信号に変換され、および、その受信信号は、監視区域における対象物の存在に関して、または、対象物の移動に関して評価されることを特徴とする。 - 特許庁

A base part 11 made of paper and a light diffraction structure part 12 having a pattern expression part 12a made in the base part 11 and discernible visually are provided, and the light diffraction structure part 12 has, in a part thereof, an optical information recording part 12b wherein optical information is so recorded as to be readable by a machine.例文帳に追加

紙製の基材部１１と、基材部１１に抄き込まれ、目視により観察可能な絵柄表現部分１２ａを有する光回折構造部１２とを備え、光回折構造部１２は、その一部に、光学情報を機械読取可能に記録した光学情報記録部分１２ｂを有する。 - 特許庁

The EUV aligner comprises a first reflection optical system including illumination system mirrors 106-109 for guiding EUV light to a reticle 111, and a second reflection optical system including projection system mirrors 121-124 for guiding reflected light from the reticle 111 to a wafer 131, and transfers a pattern on the reticle 111 to the wafer 131.例文帳に追加

ＥＵＶ露光装置は、ＥＵＶ光をレチクル１１１へ導く照明系ミラー１０６〜１０９を含む第１反射光学系と、該レチクル１１１からの反射光をウエハ１３１に導くための投影系ミラー１２１〜１２４を含む第２反射光学系を有し、レチクル１１１上のパターンをウエハ１２１に転写する。 - 特許庁

Based on the results obtained by driving the light source of the reader by a plurality of different driving electric currents and by detecting the amounts of reflected light on respective electric current values respectively in a test pattern for calibration printed on a medium and the blank region of the medium, a correction factor for correcting the detection by the reader is obtained.例文帳に追加

メディアにプリントされたキャリブレーション用のテストパターンとメディアのブランク領域のそれぞれにおいて、読取器の光源を複数の異なる駆動電流により駆動して電流値毎に反射光量を検出した結果に基づいて、前記読取器による検出を補正するための補正係数を求める。 - 特許庁

The numerical aperture of the illumination optical system 2 is variable in a range necessary to adjust a parallel degree of the illumination light from the light source in an exposure machine carrying out the proximity exposure; and the front focal plane of the objective lens system 4 is moved from the pattern surface of the photomask 3 within a distance corresponding to the proximity gap in the exposure machine.例文帳に追加

照明光学系２の開口数はプロキシミティ露光を行う露光機における光源からの照明光の平行度調整に必要とされる範囲において設定可能で、対物レンズ系４は、前側焦点面がフォトマスク３のパターン面から露光機におけるプロキシミティギャップに対応する距離だけ移動可能である。 - 特許庁

The biometrics authentication apparatus 1 includes a light source 10, a detection part 11a, a transmittance distribution filter 11, a microlens array 12, a near-infrared ray transmitting filter 13, an imaging device 14, an image processing part 15, a pattern holding part 16, an authentication part 17, a light source driving part 181, an imaging device driving part 182 and a control part 19.例文帳に追加

生体認証装置１は、光源１０と、検知部１１ａと、透過率分布フィルタ１１と、マイクロレンズアレイ１２と、近赤外光透過フィルタ１３と、撮像素子１４と、画像処理部１５と、パターン保持部１６と、認証部１７と、光源駆動部１８１と、撮像素子駆動部１８２と、制御部１９とを備える。 - 特許庁

The distributed density mask comprises a plurality of masks formed for separate exposure regions, the exposure region of each of the masks has a light shielding pattern with a two-dimensional light intensity distribution formed on the transparent substrate and each of the exposure regions is divided by unit cells of appropriate shape and size without leaving a gap.例文帳に追加

この濃度分布マスクは異なる露光領域ごとに作成された複数枚のマスクにより構成され、各マスクの露光領域は透明基板上に２次元の光強度分布を有する遮光パターンが形成されたものであり、各露光領域は適当な形状及び大きさの単位セルにより隙間なく分割されている。 - 特許庁

On an outside surface of a box 12 provided with an incoming call display part 17 having light emitting means 18 for emitting light by driving according to an incoming call signal, an outer equipped panel 14 is detachably assembled so as to constitute and outer equipped body by coating the incoming call display part 17 and providing an appropriate color tone, pattern or design.例文帳に追加

着信信号により駆動されて発光する発光手段１８を有する着信表示部１７が設けられた筐体１２の外側面に、着信表示部１７を覆うとともに適宜の色調、模様或いは図柄が設けられて外装体を構成する外装パネル１４が着脱自在に組み付けられてなる。 - 特許庁

Alternatively, the transreflector 4 includes two or more transparent substrates of different indices of refraction bonded together, with a pattern of optical deformities 8 in the mating side of one of the substrates in mating engagement with each other, and transmits a greater portion of light emitted by a backlight BL or other light source 50 incident on the opposite side of the transreflector.例文帳に追加

又は、互いと嵌め合い係合する基板のうち１つの嵌め合い側に光学変形部８のパターンを備え、互いに接合され、屈折率の異なる２つ以上の透明な基板を含んでおり、トランスリフレクタの反対側に入射する、バックライト「ＢＬ」または他の光源５０が送出する光のより多くを透過させる。 - 特許庁

When the light from the scenery exists in the first range of the exposure level, the portion of the high density is so directed as to form the pattern of the image element of the high density on the photosensitive member and when the light from the scenery exists in the second range of the exposure level, the remaining portions are so directed as to form the remaining images.例文帳に追加

風景からの光が露光レベルの第１の範囲にある場合には、高濃度の部分が、感光部材上の高濃度のイメージ要素のパターンを形成するように指向させられ、また、風景からの光が露光レベルの第２の範囲にある場合には、残りの部分が残りのイメージを形成するように指向させられる。 - 特許庁

Further, the mounting board 2 is provided with a plenty of second heat transfer parts 25b which are composed of through-holes penetrating in the thickness direction and have a function to transfer the heat generated by the light emitting device 4 to a lower face side of the mounting board 2 at parts where the heat radiating pattern 232 does not overlap in a plan view with the light emitting device 4.例文帳に追加

そして、搭載基板２には、平面視で放熱用パターン２３２の発光装置４と重ならない部分に、その厚さ方向に貫通した貫通孔で構成され、発光装置４で発生した熱を搭載基板２の下面側へ伝熱させる機能を有する多数の第２の伝熱部２５ｂが設けられている。 - 特許庁

The surface of the disk (12) held to a vertical posture is irradiated with illumination light having an illumination pattern becoming an irradiation range, which has a shape almost the same to that of an inspection region containing an edge, from illumination devices (112, 114, 116 and 118) and the reflected light from the inspection region containing the edge is imaged by cameras (102 and 104).例文帳に追加

垂直姿勢で保持されたディスク（12）の面に対し、照明装置（112，114,116,118）からエッジを含んだ検査領域の形状と略同一形状の照射範囲となる照明光パターンの照明光を照射し、当該エッジを含んだ検査領域部分からの反射光をカメラ（102,104）によって撮像する。 - 特許庁

The EL light-emitting part 7 which is constituted by laminating a first electrode 4, an EL luminous layer 5, and a second electrode 6 to order is sealed wholly including the peripheral part between a first film-like substrate 2 and a second film-like substrate 10, and a light transparent pattern 11 is laminated on the bottom face of the film-like substrate 2.例文帳に追加

第１の電極４、ＥＬ発光層５、および第２の電極６とが順に積層されて構成されたＥＬ発光部７を、第１のフィルム状基材２と第２のフィルム状基材１０間に、周縁部を含む全体で封止し、かつ、フィルム状基材２の下面に光透過性パターン１１が積層された構造とした。 - 特許庁

This storage device such as a so-called ball box and cash box is provided with a storage battery 14 (a power supply part) supplying a power, an LED 18 (a light emitting body) emitting the light by the power supplied from the storage battery 14, and a display control part controlling the display of the LED 18 according to a predetermined display pattern.例文帳に追加

いわゆる球箱やドル箱等のようなの貯留装置に関し、電力を供給する蓄電池１４（電源部）と、蓄電池１４から供給される電力によって発光するＬＥＤ１８（発光体）と、所定の表示パターンに従ってＬＥＤ１８の表示を制御する表示制御部とを有する。 - 特許庁

In this method for forming a wiring, after an upper face of a translucent main body 24 of a reticle 22 which forms a wiring light blocking pattern 26 is positioned at a focal position X, and a negative photoresist film 18 is sensitized by i-rays 30, a lower face of the translucent main body 24 is positioned at a focal position to sensitize a light-shielding photoresist film 16.例文帳に追加

配線用遮光パターン２６が形成してあるレチクル２２の透光性本体２４の上面を焦点位置Ｘにし、ｉ線３０によりネガ型フォトレジスト膜１８を感光させたのち、透光性本体２４の下面を焦点位置にして遮光フォトレジスト膜１６を感光させる。 - 特許庁

Two or more layers of amplitude type CGHs (9) in which transmissivity of light is varied in a pattern shape are stacked in the glass material of the glass bottle 20 by using a femtosecond laser of ultra short pulses to increase differences in the transmissivity of light of the CGHs (9), and a diffraction image of high contract can be formed.例文帳に追加

光の透過率がパターン状に変化する振幅型ＣＧＨ（９）を、超短パルスのフェムト秒レーザーを用いてガラス瓶２０のガラス材料の内部に複数層積層して形成することにより、ＣＧＨ（９）における光の透過率の違いを高めて、高いコントラストの回折像を生成可能とする。 - 特許庁

A reticle R is irradiated with an exposing light IL from an exposing light source 1 through an illumination optical system ILS comprising a first fly eye lens 6, a second fly eye lens 9, lens systems 12, 13 blinds 14A, 14B, and condenser lens systems 17, 18 and the pattern image of the reticle R is projected onto a wafer W through a projection optical system PL.例文帳に追加

露光光源１からの露光光ＩＬを、第１フライアイレンズ６、第２フライアイレンズ９、レンズ系１２，１３、ブラインド１４Ａ，１４Ｂ、及びコンデンサレンズ系１７，１８等よりなる照明光学系ＩＬＳを介してレチクルＲに照射し、レチクルＲのパターンの像を投影光学系ＰＬを介してウエハＷ上に投影する。 - 特許庁

The device comprises a infrared lamp 41 which irradiates a substrate for treatment W with a light beam to heat the substrate W and a mask M placed between the infrared lamp 41 and the substrate W, made of copper which reflects wavelength of irradiated light with apertures Ma of prescribed pattern.例文帳に追加

処理基板Ｗに向けて照射光を照射することで処理基板Ｗを昇温させる赤外線ランプ４１と、赤外線ランプ４１と処理基板Ｗとの間に配置され、照射光の波長に対し反射する銅材で形成されるとともに所定のパターンで開口部Ｍａが形成されたマスクＭとを備えている。 - 特許庁

The light diffusing film made of polycarbonate resin has a thickness of 30 to 200 μm and an unevenness pattern on at least one of its surfaces, birefringence (absolute value of retardation) of ≤30 nm, total light beam transmissivity of ≥90%, and haze (cloudness degree) of ≥50%.例文帳に追加

ポリカーボネート樹脂より形成された厚さ３０〜２００μｍのフィルムであって、その少なくとも一面に凹凸形状の模様を有し、且つ複屈折（リターデーションの絶対値）が３０ｎｍ以下、全光線透過率が９０％以上およびヘーズ（曇り度）が５０％以上であるポリカーボネート樹脂製光拡散フィルム。 - 特許庁

To provide a photosensitive electrically conductive paste capable of allowing radiated light to reach a depth of a coating because the scattering of radiated light by an electrically conductive powder is suppressed and capable of forming a pattern having high accuracy of form and a high aspect ratio and to provide electronic parts with conductor patterns formed using the paste.例文帳に追加

導電性粉末による照射光の散乱を抑制し、塗膜深部にまで照射光を到達させることが可能で、形状精度が高く、アスペクト比の大きいパターンを形成することが可能な感光性導電ペースト、及びそれを用いて導体パターンを形成した電子部品を提供する。 - 特許庁

In the pattern correcting method, a low-viscosity film 41 is irradiated with laser light in the state wherein the defective portion is not irradiated with the laser light to form a mask 40 having a hole 40a, the mask 40 is stuck to a substrate 14, and correction liquid 20 is applied to the defective portion 13a through the hole 40a.例文帳に追加

このパターン修正方法では、レーザ光が欠陥部１３ａに照射されない状態で低粘着フィルム４１にレーザ光を照射して孔４０ａの開いたマスク４０を形成し、マスク４０を基板１４に密着させ、孔４０ａを介して欠陥部１３ａに修正液２０を塗布する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method for a light-emitting device of high definition, high light-emitting characteristics and long life which can form a desired evaporation pattern while preventing a material layer used as a transcription layer from excessively being evaporated and by using a method wherein deterioration of materials or the like is hardly caused during transcription.例文帳に追加

転写層となる材料層が余分に蒸着されるのを防ぐと共に所望の蒸着パターンを形成することができ、転写中に材料等の劣化が起きにくい方法を用いることにより、高精細で発光特性が高く、長寿命である発光装置の作製方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

The film 10' is produced by adhering a conductive foil 11 to a transparent base film 13 with a transparent adhesive 14, pattern etching, forming a light absorbing layer 12 and subjecting the surface of the light absorbing layer 12 to roughening treatment for antireflection and non-gloss treatment.例文帳に追加

粘着膜付き電磁波シールド性フィルム１０’は、導電性箔１１を、透明な基材フィルム１３に透明接着剤１４により接着した後、パターンエッチングし、その後、光吸収層１２を形成し、この光吸収層１２の表面を粗面化処理して反射防止、無光沢処理を施してなる。 - 特許庁

In a performance expression part, a plurality of polarization films 11A and 11B by which a prescribed pattern looks as if it is floating by receiving light from a light source 12 are arranged in a series and the polarization films 11A and 11B are moved relatively to each other for making visual performance.例文帳に追加

光源１２からの光を受けると所定のパターンが浮かび上がって見える偏光フィルム１１Ａ，１１Ｂを光源１２に対し直列に複数枚配置し、これら複数枚の偏光フィルム１１Ａ，１１Ｂを互いに相対移動させて視覚的な演出表現を行う演出表現部とする。 - 特許庁

This method has a process step (S1) of condensing exposure light 112 to a master disk 108 coated with a photosensitive material 111 and subjecting the master disk to scanning exposure while modulating the light quantity thereof and a process step (S2) of forming the three-dimensional pattern shapes of the depth meeting exposure energy by developing the exposed master disk 108.例文帳に追加

感光性材料１１１が塗布された原盤１０８に露光光１１２を集光してその光量を変調しながらスキャニング露光する工程（Ｓ１）と、その露光された原盤１０８を現像することで露光量に応じた深さの３次元パターン形状を形成する工程（Ｓ２）と、を備える。 - 特許庁

The personal computer 8 for inspection inspects a passive mode which makes a steady light removing function not to operate and an active mode for operating the steady light removing function, on the basis of the pattern of the subject image data outputted from the range-finding module 3, when the inspection chart 1 is integrated on the basis of the respective modes.例文帳に追加

そして、検査用パーソナルコンピュータ８は、検査用チャート１をそれぞれのモードで積分した時に、上記測距モジュール３から出力される被写体像データのパターンにより、定常光除去機能を動作させないパッシブモードと、定常光除去機能を動作させるアクティブモードの検査を行う。 - 特許庁

To provide an exposure method without causing any resolution failure on a face of an exposure object in a direct exposure device that forms a desired exposure pattern on a face of an exposure object by irradiating the face of the exposure object with light rays through a plurality of spatial light modulation elements, and to provide a computer program therefor.例文帳に追加

複数の空間光変調素子によって描画対象物の面上に光を照射することで描画対象物の面上に所望の描画パターンを形成する直接描画装置において、描画対象物の面上に解像不良が生じない描画方法およびコンピュータプログラムを実現する。 - 特許庁

In the aligner equipped with a light irradiation mechanism 3 radiating the exposing light, a mask stage mechanism 4 having the frame body 31 holding the mask 200 on which the pattern is formed, and a work stage mechanism 5 holding the work 100, a heat insulating member 39 is installed on the mechanism 4 so as to cover the frame body 31.例文帳に追加

露光光を照射する光照射機構３と、パターンが形成されたマスク２００を保持する枠体３１を有するマスクステージ機構４と、ワーク１００を保持するワークステージ機構５とを備えた露光装置において、断熱部材３９が前記枠体３１を覆うようにマスクステージ機構４に設置された構成にしてある。 - 特許庁

In this liquid crystal display 1 including polarizers 11a, 11b, a λ/2 wave plate 12 where a pattern to be displayed is formed by a first region where linearly polarized light is rotated and a second region where linearly polarized light is not rotated is inserted between the polarizer 11a and the polarizer 11b.例文帳に追加

偏光板１１ａ、１１ｂを有する液晶ディスプレイ１において、直線偏光を回転させる第１の領域と直線偏光を回転させない第２の領域とによって表示すべきパターンが形成されたλ／２波長板１２を、偏光板１１ａと偏光板１１ｂとの間に挿入した構成とする。 - 特許庁

The aligner has a projection optical system, which uses an optical member showing double refraction and projects a pattern formed in a mask to a workpiece and a polarization direction deciding means for deciding the polarization direction of exposure light so that the exposure light which exposes the workpiece becomes linearly polarized.例文帳に追加

複屈折を示す光学部材を使用し、マスクに形成されたパターンを被処理体に投影する投影光学系と、前記被処理体を露光する露光光が直線偏光になるように、当該露光光の偏光方向を決定する偏光方向決定手段とを有することを特徴とする露光装置を提供する。 - 特許庁

A light color determination part 14 is configured to, even when any ladder pattern is designated from among the plurality of ladder patterns stored in the storage part 16 in accordance with the determination result by the time difference indication determination part 13, determine whether or not the lighting sequence of a light color with respect to the arbitrary outflow direction of the intersection is equal.例文帳に追加

灯色判定部１４は、時差現示判定部１３による判定結果に応じて記憶部１６に記憶した複数の階梯パターンの中から、いずれの階梯パターンが指定された場合でも、交差点の任意の流出方向に対する灯色の点灯順序が等しいか否かを判定する。 - 特許庁

To provide a method for determining a periodic unevenness correction pattern capable of correcting periodic unevenness of a rotary polygon mirror with high accuracy in each mode, when an apparatus for scanning a recording body by deflecting a light beam by a rotary polygon mirror operates in two or more modes with different scanning pitches or the like, and to provide a light beam scanner.例文帳に追加

光ビームを回転多面鏡によって偏向して記録体上を走査する装置が走査ピッチが異なる等の複数のモードで動作する場合、各モード毎に回転多面鏡の周期的むらを高精度に補正できるようにした周期的むら補正パターンの決定方法及び光ビーム走査装置を提供する。 - 特許庁

The aligner irradiates a substrate to be exposed by using light from a light source via a projection optics having a uniform proximity gap to transfer a mask pattern, wherein a composite mirror composed of a plurality of mirror groups making one reflection plane is used in the projection optics.例文帳に追加

光源からの光を利用して、マスクのパターンをマスクのパターンを均一なプロキシミティギャップを有する投影光学系を介して被露光基板に照射する露光装置において、複数のミラー群で一つの反射面を構成する集成ミラーを前記投影光学系に用いたことを特徴とする露光装置。 - 特許庁

In the reflective mask blank for exposure having a multilayer reflective film 2 for reflecting exposure light on a substrate 1, and an exposure light absorber layer 4 formed on the multilayer reflective film 2, the mask blank has a convex surface on the side opposite to the surface for forming a transfer pattern.例文帳に追加

基板１上に、露光光を反射する多層反射膜２と、該多層反射膜２上に形成された露光光を吸収する吸収体層４とを有する露光用反射型マスクブランクであって、前記マスクブランクの転写パターン形成面とは反対側の面の形状が、凸面を有する形状である。 - 特許庁

The reflecting surface 13 has a plurality of first optical grooves 14 formed in horizontal direction of the light guide plate 10 and a plurality of second optical grooves 15 formed in vertical direction of the light guide plate 10 from an incident face 11 over a prescribed distance, and an outgoing face 12 has an anisotropic diffusion pattern by hologram.例文帳に追加

反射面１３は、導光板１０の横方向に形成された複数の第１光学溝１４を有するとともに、入射面１１から所定距離にわたって導光板１０の縦方向に形成された複数の第２光学溝１５を有し、出射面１２は、ホログラムによる異方性拡散パターンを有する。 - 特許庁

The reflecting type exposure mask comprises the mask pattern (5) formed on a multilayer film (2) having a relatively high reflectivity for a DUV light and having a relatively low reflectivity than that of the DUV light and formed of a tantalum oxide, an oxide of a tantalum alloy or an oxide of a nitrogen tantalum formed only on its surface vicinity part or entirely formed intentionally.例文帳に追加

ＤＵＶ光に対し比較的反射率が高い多層膜（２）上に形成される、ＤＵＶ光に対し比較的反射率が低いマスクパターン（５）が、その表面近傍部分のみ又は全体が意図的に形成された酸化タンタル、タンタル合金の酸化物、窒素タンタルの酸化物で形成されている。 - 特許庁

In the camera, an infrared LED package 18a for emitting infrared light is arranged at a position inside a camera main body 10 and facing a light projecting window 18 10 via a pattern forming slit plate 18c, and a visible LED package 18b as a display LED is arranged in between these members.例文帳に追加

本発明のカメラは、カメラ本体１０の内部の前記投光窓１８に対向した位置に赤外光を発光するための赤外ＬＥＤパッケージ１８ａがパターン形成用のスリット板１８ｃを介して配置され、またこれら部材の間には表示ＬＥＤである可視光ＬＥＤパッケージ１８ｂが配置されている。 - 特許庁