「light pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(121ページ目) - Weblio英語例文検索

To enhance effects of obscuring of a cut-off line and spectroscopic color measures in the vicinity of its upper side, in a lamp unit of a projector type vehicular headlamp that is structured to form a light distribution pattern having the cut-off line.例文帳に追加

カットオフラインを有する配光パターンを形成するように構成されたプロジェクタ型の車両用前照灯の灯具ユニットにおいて、カットオフラインの暈かしおよびその上方近傍の分光色対策の効果を高める。 - 特許庁

Subsequently, the lattice defect region 4 is irradiated with laser light to pattern a P type region 5 in the lattice defect region 4 as the activated region of the surface layer in the lattice defect region 4 (Fig. 2(b)).例文帳に追加

この後、格子欠陥領域４にレーザ光を照射することにより、格子欠陥領域４に当該格子欠陥領域４の表層部を活性化させた活性化領域としてのＰ型領域５をパターン形成する（図２（ｂ））。 - 特許庁

When the scale grating 3 joined to the first body is moved relatively with respect to the light source 1 joined to the second body and the scanning lattices 4.1, 4.2, a specified spatial interference fringe pattern is formed within a detection face.例文帳に追加

第１の物体に接合されているスケール格子３が第２の物体に接合されている光源１と走査格子４．１、４．２とに対して相対移動するときに、特定の空間的な干渉縞パターンが、検出面内に形成される。 - 特許庁

In the compound, an aryl group is multiply substituted with suitable electron-donating groups such that a light-emitting pattern of a molecule results in a very high luminescent count, thus providing for a sensitive and precise assay for haptens, analytes, polynucleotides and the like.例文帳に追加

該化合物は、分子の発光パターンが極めて高い発光計数をもたらすようにアリール基が適当な電子供与基で多重置換されており、そのためハプテン、分析物、ポリヌクレオチド等の高感度で正確なアッセイが可能となる。 - 特許庁

To provide an exposure device inspection method and an exposure device, capable of obtaining a highly accurate inspection result by forming a highly accurate transfer pattern and by acquiring diffraction light detection data, when inspecting the exposure device using a photo mask.例文帳に追加

フォトマスクを用いて露光装置の検査を行う際に、高精度な転写パターンを形成し、回折光検出データを取得し、高精度の検査結果を得ることが可能な露光装置の検査方法、及び露光装置を提供する。 - 特許庁

To provide an optically controlled phase array antenna which easily creates light intensity distribution of an arbitrary form on the front-side focusing plane of a Fourier transform lens at a high speed, and easily generates an array antenna radiation beam of a desired pattern.例文帳に追加

フーリエ変換レンズの前側焦点面上に任意の形状の光強度分布を容易にかつ高速に生成し所望のパターンのアレーアンテナ放射ビームを容易に生成する光制御型フェーズドアレーアンテナを提供する。 - 特許庁

To provide a composition capable of forming a blue pattern with high spectral transmittance or brightness by using a dye free from light scattering as a coloring agent and preventing yellow discoloration resulting from the curing of a photopolymerizable monomer.例文帳に追加

着色剤として光散乱のない染料を使用すると共に、光重合性モノマーの硬化に起因する黄変を防いで、分光透過率すなわち明度の高い青色パターンを形成することのできる組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition capable of forming a resist pattern with adequate sensitivity and resolution in exposure to light of 400-440 nm wavelength, and a photosensitive element and a method of manufacturing a printed wiring board using the same.例文帳に追加

波長４００〜４４０ｎｍの露光において、十分な感度及び解像度でレジストパターンを形成することができる感光性樹脂組成物及びそれを用いた感光性エレメント、プリント配線板の製造方法を提供する。 - 特許庁

To develop a means for partly effectively purging an ultraviolet optical path in an aligner, for emitting a photosensitive substrate with a pattern of a mask via a projection optical system by using ultraviolet rays as the exposure light with an inert gas in the apparatus.例文帳に追加

露光光として紫外光を用い、マスクのパターンを投影光学系を介して感光基板に照射する露光装置において、装置内の紫外光路を不活性ガスで部分的に有効にパージする手段を開発する。 - 特許庁

A predetermined area of an optical disk exclusively for reproduction wherein contents data and the like are recorded by a rugged pit pattern is irradiated with a light beam having high output to melt a reflection film, a pit is imitatively formed and discrimination data or the like are added.例文帳に追加

凹凸のピットパターンによってコンテンツデータ等が記録されている再生専用の光ディスクの所定領域に高出力の光ビームを照射して反射膜を溶かし、擬似的にピットを形成し、識別データ等を追記する。 - 特許庁

The exposure light from a lighting source is radiated on a wafer vertically through a reflection mask and mirrors of reflective projection optical system, so that an absorber pattern 10 on the reflection mask is exposed on the wafer.例文帳に追加

照明用光源からの露光照明光は、反射型マスク、反射投影光学系のミラー群を介して、鉛直方向からウエハＷ上に照射され、反射型マスク上の吸収体パターン１０がウエハＷに露光される。 - 特許庁

As the code display part of a calling card 1 is passed through the slit 12 of a reading part 11, a dot pattern printed on the calling card is irradiated by means of a light source installed in one side of the slit 12, and reflected lights thereof are read by a sensor.例文帳に追加

読み取り部１１のスリット１２に名刺１の符号表示部１０を通過させると、名刺に印刷されたドットパターンはスリット１２の一側に設けた光源により照射され、その反射光をセンサが読み取る。 - 特許庁

The polarizing directions of the polarizing plates 12, 18 are set at right angles to each other to enable the camera 16 to obtain the color data without being affected by the pattern light, to thereby obtain the three-dimensional shape data and the color data at the same time.例文帳に追加

偏光板１２と１８の偏光方向を互いに垂直とすることで、カメラ１６ではパターン光の影響を受けずに色彩データを取得することができるので、３次元形状データと色彩データを同時に取得できる。 - 特許庁

To easily find an illumination angle with high accuracy for detecting an image having a high contrast by diffracted light so as to detect the image of a defect in a periodical pattern of an inspection object, and to suppress variation in detection accuracy among workers.例文帳に追加

被検査物の周期性パターンの欠陥を画像検出するために、回折光によるコントラストの高い画像を検出する照明角度を容易に精度良く見出し、作業者間の検査精度のばらつきを抑えること。 - 特許庁

In the secondary injection molding, photo-shading resin layers (20a and 20b) are injection-molded on the outside and inside regions, both of which are demarcated by the protruded pattern of the protruded part (30a), on the rear surface of the light transmissive resin layer (30).例文帳に追加

二次射出成形において、光透過性樹脂層（３０）の裏面に、凸部（３０ａ）の凸パターンによって画成される外側領域と内側領域のそれぞれに光遮蔽性樹脂層（２０ａ，２０ｂ）を射出成形する。 - 特許庁

To provide an electron beam lithographic method and machine, and a mark-recording method, which can form a fine recording mark or a pattern of a semiconductor element more accurately, under the control of a light exposure quantity.例文帳に追加

露光量制御に基づいて、微小な記録マークあるいは半導体素子のパターンをより正確に形成することができるようにした電子線描画方法およびその装置並びにマーク記録方法を提供することにある。 - 特許庁

Then, a latent image 110 is formed at the photopolymer film 107 on the metal wiring 106 by the exposure of ultraviolet ray 109 by use of a photomask 108 having a pattern, the width of which is narrower than that of the metal wiring 106 and which penetrates through light.例文帳に追加

次に、金属配線１０６よりも幅が狭く、光を透過するパターンを有するフォトマスク１０８を用い、紫外線１０９を露光し、金属配線１０６上の感光性樹脂膜１０７に潜像１１０を形成する。 - 特許庁

The polarizing latent image with a highly dense, complicated and continuous gradation difficult to be prepared by a prior art is prepared since the retardation is controlled by an irradiation amount of the light irradiation for printing the pattern.例文帳に追加

レタデーションは、パターンを焼き付けるための光照射の照射量によって制御できることから、従来の技術では作製が困難な、高精細で複雑な連続階調の偏光性の潜像を作製することができる。 - 特許庁

To provide a doubled and twisted yarn for forming a carpet that has both aesthetic appearance of the pencil point-like pattern and high cushioning properties with soft feeling and compression recovery, light resistance, antifouling properties, and provide the carpet by using the doubled and twisted yarn.例文帳に追加

ペンシルポイント調の美的外観と高いクッション性を兼ね備え、ソフトな風合いでかつ圧縮回復性、耐光性、防汚性に優れたカーペットを得ることができるカーペット用合撚糸、およびこれを用いたカーペットを提供する。 - 特許庁

To provide an electromagnetic wave shielding light transmission window material and its manufacturing method, wherein a fine conductive pattern adhered firmly to a substrate can be formed on a transparent substrate composed of a synthetic resin such as PET or the like.例文帳に追加

ＰＥＴなどの合成樹脂よりなる透明基材上にも、微細でしかもしっかりと該基材に付着した導電性パターンを形成することができる電磁波シールド性光透過窓材及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

The LED backlight 10 can control the lighting of an LED for each horizontal unit, and lights and drives the LED based on a control signal of the lighting pattern output from the light source emission control part 13.例文帳に追加

ＬＥＤバックライト１０は、水平方向のユニットごとにＬＥＤの点灯制御を行うことができ、光源発光制御部１３から出力された点灯パターンの制御信号に基づいて、ＬＥＤを点灯駆動させる。 - 特許庁

This display device includes a light display 103 displaying a state where electric power consumption of electric power load is larger than rated electric power generation amount of a cogeneration device 201 during power generating operation of a cogeneration system 200 in a first display pattern.例文帳に追加

熱電併給装置２００の発電運転中において電力負荷の消費電力が熱電併給機２０１の定格発電量よりも多い場合、その旨を第１の表示パターンで表示する光表示器１０３を有する。 - 特許庁

A resist film 302 formed from a resist containing a butane-1,4-sultam being a heterocyclic sulfone is formed on a substrate 301, and then the resist film 302 is subjected to pattern exposure by selectively irradiating the resist film 302 with exposure light 303.例文帳に追加

基板３０１の上に、ヘテロ環式スルホンであるブタン-1,4-スルタムを含むレジストからなるレジスト膜３０２を形成し、続いて、レジスト膜３０２に対して露光光３０３を選択的に照射することによりパターン露光を行なう。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor light emitting device that can suitably pattern a semiconductor film by forming a mask having sufficient resistance to wet etching carried out when the semiconductor film is patterned.例文帳に追加

半導体膜をパターニングする際に行われるウェットエッチングに対して十分な耐性を有するマスクを形成することにより、半導体膜のパターニングを適切に行うことができる半導体発光装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

A pattern forming method of the present invention includes (A) forming a film with a resist composition; (B) exposing the film to light; and (C) developing the exposed film with a developer containing an organic solvent.例文帳に追加

本発明に係るパターン形成方法は、（Ａ）レジスト組成物を用いて膜を形成することと、（Ｂ）前記膜を露光することと、（Ｃ）有機溶剤を含んだ現像液を用いて前記露光された膜を現像することとを含んでいる。 - 特許庁

The first resist pattern 4 where the crosslinking agent permeates is irradiated with UV light to generate an acid, and is heated to react the resin component with the crosslinking agent so as to form a cured layer 9 in at least the surface layer portion 7.例文帳に追加

次に、架橋剤が浸透した第１のレジストパターン４に紫外光を照射して酸を発生させ、加熱して、樹脂成分と架橋剤とを反応させ、少なくともその表層部７に、硬化層９を形成する。 - 特許庁

A shade driving part 29 is structured to move a plurality of shades 12a to 12c independently between a progressing position of a focal plane of a projection lens or in its vicinity and a retracting position not giving an effect to a light distribution pattern.例文帳に追加

シェード駆動部２９は、複数のシェード１２ａ〜１２ｃをそれぞれ独立に、投影レンズの焦点面またはその近傍である進出位置と配光パターンに影響を与えない後退位置との間で移動するように構成される。 - 特許庁

To provide a contact exposure method and an apparatus for obtaining a uniform exposure pattern with less unevenness by imparting simple alteration even when a conventional contact exposure apparatus using a light source having variance in luminance energy or irradiation direction.例文帳に追加

露光量バラツキや照射方向のバラツキのある光源を使用した従来のコンタクト露光装置場合でも、簡単な改造を施すだけで、ムラの少ない一様な露光パターンが得られるコンタクト露光方法及び装置の実現。 - 特許庁

The photomask may also be formed by forming a transparent film permitting the transmission of the UV rays on the light shielding film pattern surface side, then superpositing the transparent film permitting the transmission of the UV rays thereon and bonding together the transparent film and the transparent substrate by discharging and removing the air therebetween.例文帳に追加

遮光膜パタ−ン面側に紫外線を透過する透明膜を形成し、次に紫外線を透過する透明基板を重ね合わせ、透明膜と透明基板との間の空気を排気除去して貼り合わせてもよい。 - 特許庁

To provide a mask or the like capable of depositing a light emitting layer with high accuracy by keeping a prescribed distance between a substrate and a mask plate, bringing the mask plate into contact with the substrate with good accuracy, and reducing the positional shift of a mask pattern at use.例文帳に追加

基材とマスク板との距離を一定にし、基材とマスク板とを精度良く接合し、更に使用時のマスクパターンの位置ずれを少なくして、発光層を精度良く蒸着させることができるマスク等を提供する。 - 特許庁

To provide an image reading device and an image reading method capable of properly reading the image pattern of a subject while inhibiting the generation of problems in the image reading operation caused by the environment light in an optical image reading device.例文帳に追加

光学式の画像読取装置において、環境光に起因する画像読取動作の不具合の発生を抑制して、被写体の画像パターンを良好に読み取ることができる画像読取装置及び画像読取方法を提供する。 - 特許庁

To provide a deposition method for smoothly providing desired pattern shapes of material layers while improving throughput when a plurality of different material layers are laminated on a substrate, and also to provide a manufacturing method of a light-emitting device.例文帳に追加

基板上に異なる複数の材料層を積層する際、スループットを向上しつつ、円滑に材料層の所望のパターン形状を得る成膜方法および発光装置の作製方法を提供することを課題とする。 - 特許庁

To provide a photopolymerizable composition which is cured with high sensitivity by light exposure, has excellent in-film curability and adhesion to a support, has a good pattern shape and can form a patterning cured film with less residues after development.例文帳に追加

露光に対し光感度で硬化し、優れた膜内部硬化性および支持体との密着性に優れ、パターン形状が良好であり、且つ、現像後に残渣が少ないパターニング硬化膜を形成可能な光重合性組成物を提供する。 - 特許庁

Even in the case where a liquid crystal shutter 7 having a low response of speed is used, when the light modulation pattern is changed in the wait time period of the liquid crystal shutter, it is possible to retain the high exposure speed.例文帳に追加

また、例えば応答速度の遅い液晶シャッタ７を用いる場合であっても、当該液晶シャッタが待ち時間内に光変調パターンを変更することができるのであれば、高い露光速度を確保することができる。 - 特許庁

To provide an image special effect device attaining a lighting effect corresponding to various image special effects even when a light effect pattern is not predetermined and the shape of an effect surface quickly changes.例文帳に追加

照明効果のパターンがあらかじめ定められておらず、かつ効果面の形状が素早く変化するような場合であっても、様々な画像特殊効果に対応する照明効果を実現できる画像特殊効果装置を提供する。 - 特許庁

A convex section 37 is formed on one surface 3a of the mount substrate 3, thus setting a wiring pattern 36 formed on the surface of the convex section 37 as a junction section for pressurization-jointing the light-emitting element 4A for the photoelectric converter 1B.例文帳に追加

この光電気変換装置１Ｂに対して、マウント基板３の一方面３ａに凸部３７を形成し、この凸部３７の表面に配線パターン３６を形成したものを発光素子４Ａを加圧接合するための接合部とする。 - 特許庁

The illuminance of each LED light emitting element 3, etc., arrayed on the front of a substrate 2 of a display element 4 is discretely subjected to an illuminance change along the illuminance pattern stored in a memory section 9a of a controller 9 constituting the stereoscopic display device 1.例文帳に追加

立体表示装置１を構成する制御装置９の記憶部９ａに記憶された照度パターンに沿って、表示部４の基板２前面に配列した各ＬＥＤ発光素子３…の照度を個別に照度変化させる。 - 特許庁

Here, the coma remaining in the reflection projection optical system is minimized with height H of the absorber pattern 10 being N.λ/2 (where the wavelength of exposure light is λ while N is natural number).例文帳に追加

このとき、露光照明光の波長をλとし、Ｎを自然数としたときに、吸収体パターン１０の高さＨをＮ・λ／２とすることにより、反射投影光学系に残存するコマ収差を最小にすることができる。 - 特許庁

Therefore, the intensity center of the far field pattern in the horizontal direction does not vary with the optical output variation and the laser beam which is stable in shape can be obtained by absorption of light distributed outside the groove 15 by the semiconductor.例文帳に追加

そのため、溝部１５より外側に分布する光の半導体による吸収により、光出力変化に伴う水平方向の遠視野像の強度中心が変動せず、且つ形状が安定したレーザ光を得ることができる。 - 特許庁

To provide a device for purging an ultraviolet ray path in an aligner partially effectively by inert gas in the aligner that applies a mask pattern to a photosensitive substrate via a projection optical system by using ultraviolet rays as exposure light.例文帳に追加

露光光として紫外光を用い、マスクのパターンを投影光学系を介して感光基板に照射する露光装置において、露光装置内の紫外光路を不活性ガスで部分的に有効にパージする装置を開発する。 - 特許庁

To provide an optical disk recording/reproducing device which sets a standard waveform of a laser beam for each recording pattern, and calculates a correction value which corrects a gap between the emitted light waveform detected by a front monitor and the standard waveform.例文帳に追加

各記録パターンに対してレーザ光の基準波形を設け、フロントモニタの検出による発光波形と前記基準波形とのズレを補正する補正値の算出を行うことができる光ディスク記録再生装置を提供する。 - 特許庁

When phase-modulating reference light, a specific pixel array pattern formed of two or more pixels by the number of horizontal pixels M×the number of vertical pixels N (M, N are natural numbers≥1, M≠N) is used as a random phase unit.例文帳に追加

参照光を位相変調するのにあたり、水平画素数Ｍ×垂直画素数Ｎ（Ｍ，Ｎは１以上の自然数、Ｍ≠Ｎ）による２以上の画素により形成される特定の画素配列パターンをランダム位相単位とする。 - 特許庁

An acid is generated in the first resist frame 6 by heat or light irradiation, and a crosslinking layer formed between the first resist frame 6 and the minute pattern formation material 8 covers the first resist frame 6.例文帳に追加

加熱または光照射により第１のレジストフレーム６中に酸を発生させ、第１のレジストフレーム６と微細パターン形成材料８との界面に生じた架橋層で第１のレジストフレーム６を被覆するように構成する。 - 特許庁

A reference lighting time specifying section 104 specifies the reference lighting time of each block from the dark potential distribution and a medium sensitivity distribution of a photoreceptor drum, a light amount distribution relative to the main scanning direction of a laser beam and the output dither pattern.例文帳に追加

基準点灯時間特定部１０４は、感光体ドラムの暗電位分布、及び中間感度分布、レーザービームの主走査方向に対する光量分布、並びに出力ディザパターンから各ブロックの基準点灯時間を特定する。 - 特許庁

To provide an image processing system which prevents occurrence of wood pattern-like noise, can perform an image processing by an error diffusion method with comparatively high image quality and can speedily perform printing without performing costly light quantity adjustment.例文帳に追加

木目調のノイズの発生を防止し、比較的に高い画質で誤差拡散法による画像処理を行うことができ、コストがかかる光量調整を行わずに速やかに印字を実行可能にできる画像処理装置を提供する。 - 特許庁