「line-pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(18ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a bank structure for forming a fine pattern in a thin line shape precisely and stably; and to provide a pattern formation method, an electro-optical device, and electronic equipment.例文帳に追加

細い線状の微細パターンを、精度よく安定して形成することができるバンク構造体、パターン形成方法、及び電気光学装置、電子機器を提供する。 - 特許庁

To provide a chemically amplified photoresist composition which has superior resolution and line edge roughness and allows formation of a pattern free from pattern collapse.例文帳に追加

優れた解像度及びラインエッジラフネスを有し、かつパターン倒れが発生しないパターンを形成することができる化学増幅型フォトレジスト組成物を提供することを目的とする。 - 特許庁

To form a minute isolated line pattern by a narrowed sectional structure, in which a lower layer part is narrowed than an upper layer resist, with good controllability, in the forming method of a minute resist pattern.例文帳に追加

微細レジストパターンの形成方法に関し、上層レジストよりも狭くした下層部となるクビレ断面構造で、微細な孤立ラインパターンを制御性良く形成する。 - 特許庁

To provide a meander line antenna the conductor pattern of which is formed in a meandered manner and the rough adjustment and the fine adjustment of which can be attained on the basis of a basic pattern in order to obtain a desired characteristic.例文帳に追加

導体パターンをメアンダ状に形成したメアンダラインアンテナに関し、所望の特性が得られるように、基本パターンを基に粗調整と微調整とを可能とする。 - 特許庁

A user can grasp correction amount by visually confirming a line where the C test pattern is superposed on the K test pattern and C color disappears on the image 50A.例文帳に追加

ユーザは、テスト画像５０Ａ上で、ＣのテストパターンとＫのテストパターンが重なって、Ｃの色目が消えている列を目視確認することにより、補正量を把握することができる。 - 特許庁

The bond pad wiring pattern 12 is formed in the shape of line having a predetermined pattern on a layer where a conventional bond pad is formed and one end is located in the perimeter region A_peri.例文帳に追加

ボンドパッド配線パターン１２は、従来のボンドパッドが形成される層に所定のパターンを有するライン形態で形成され、一端が周辺領域Ａ_periに位置する。 - 特許庁

This projection pattern is projected to the detection object, and the reflected lights are received by a line sensor 12, so that images of the projection pattern in the detection object are detected.例文帳に追加

この投影パターンは検出対象に投影され、その反射光がラインセンサ１２に受光されて検出対象での投影パターンの画像が検出される。 - 特許庁

To provide a pattern formation method, a chemical amplification type resist composition and a resist film for improving sensitivity, exposure latitude, mask error enhancement factor, and pattern shape, and for reducing line width variation.例文帳に追加

感度、露光ラチチュード、マスクエラーエンハンスメントファクター、パターン形状に優れ、線幅バラツキを低減できるパターン形成方法、化学増幅型レジスト組成物及びレジスト膜の提供。 - 特許庁

In the flexible wiring board 36, the GND pattern 38 is branched to a signal line pattern 37, and the flexible wiring board itself is housed in the housing 10 while it is folded.例文帳に追加

フレキシブル配線基板３６は、信号線パターン部３７に対してＧＮＤ線パターン部３８が分岐して設けられ、折り畳まれた状態でハウジング１０内に収納される。 - 特許庁

The axial line of the cylindrical face is tilted with respect to the pattern face in such a manner that the imaging region is formed on the substrate along a plane approximately parallel to the pattern face of the mask.例文帳に追加

円筒面の軸線は、結像領域が基板上においてマスクのパターン面とほぼ平行な面に沿って形成されるようにパターン面に対して傾けられている。 - 特許庁

To provide a material pattern formation method by an ink-jet method for giving a rectangular material pattern with good control performance of fine line width.例文帳に追加

本発明の目的は、微細な線幅制御性の良い矩形な材料パターンが得られるインクジェット方式による材料パターン形成方法を提供することにある。 - 特許庁

To easily and surely form, with the existing photolithography technology, a wiring pattern in the line width which is thinner than that of a resist pattern formed by the photolithography.例文帳に追加

従来のフォトリソグラフィの技術を用いながら、容易且つ確実に、フォトリソグラフィによって形成されるレジストパターンの線幅よりも細い線幅の配線パターンを形成する。 - 特許庁

Accordingly, without having to change the line width of the stripe part S1 of each light-shielding pattern, energy quantity contributing resist resolution in each light-shielding pattern can be balanced.例文帳に追加

これにより、各遮光パターンのストライプ部Ｓ１の線幅を変えることなく、各遮光パターンにおけるレジスト解像に寄与するエネルギー量をバランスさせることができる。 - 特許庁

To improve the uniformity of a line width of a resist pattern in the face of a substrate by properly setting conditions in a photolithographic process for forming a resist pattern on a wafer.例文帳に追加

ウェハにレジストパターンを形成するフォトリソグラフィー工程における条件設定を適正に行い，レジストパターンの線幅の基板面内の均一性を向上する。 - 特許庁

The voice control means 27 controls the voice generation means 17 so as to explain the pattern by generating voice including a word about the pattern existing on the effective line.例文帳に追加

音声制御手段２７は、有効ライン上に存在する図柄に関する言葉を含む音声を発して図柄を説明するように、音声発生手段１７を制御する。 - 特許庁

To provide an intelligent fixing device for converting a single line scanning pattern radiated by a handheld scanner into an omnidirectional scanning pattern comprising a plurality of intersecting scanning lines.例文帳に追加

手持ち式スキャナが放射した単一直線走査パターンを交差する複数の走査線からなる全方向性走査パターンへ変換する知能型固定装置を提供する。 - 特許庁

The copy patterns 111 are displayed at the display position of the middle section of the middle pattern display column 130, and the ready-to-win pattern layout is displayed on the line L1.例文帳に追加

これにより、複写図柄１１１が中図柄表示列１３０の中段部の表示位置に表示されて、ラインＬ１上にリーチ図柄配列が表示される。 - 特許庁

To provide a positive resist composition excellent in PEB temperature dependence, line edge roughness, exposure latitude and pattern profile, and to provide a method for forming a pattern by using the composition.例文帳に追加

ＰＥＢ温度依存性、ラインエッジラフネス、露光ラチチュード、及びパターンプロファイルに優れたポジ型レジスト組成物、及びこれを用いたパターン形成方法の提供を目的とする。 - 特許庁

To provide an aligner which can suppress the minimum line width of a pattern of a photosensitive material after developing to the minimum limit and which can keep the edge profile of the pattern in a preferable state.例文帳に追加

感材の現像後のパターンの最小線幅を最小限に抑えるとともにそのパターンのエッジ形状を良好に保つことができる露光装置を提供する。 - 特許庁

The test pattern 33 is read out by means of a scanner 31, and an arithmetic unit 32 measures the luminance of three colors RGB for each dot in the line width direction of the test pattern 33 thus read out.例文帳に追加

スキャナ３１でテストパターン３３を読み取り、演算装置３２で読み取ったテストパターン３３のライン幅方向の１ドット毎にＲＧＢ３色の輝度を測定する。 - 特許庁

To provide a photosensitive compound capable of forming a resist pattern with a low line edge roughness (LER), to provide a photosensitive composition containing the photosensitive compound, and to provide a resist pattern forming method.例文帳に追加

低ラインエッジラフネス（ＬＥＲ）なレジストパターンを形成可能な感光性化合物、該感光性化合物を含む感光性組成物及びレジストパターンの形成方法を提供する。 - 特許庁

The game machine determines the pattern combination to be permitted to be arranged along a prescribed line based on the internal elected hand, and notifies the player of the determined pattern combination.例文帳に追加

この遊技機は、内部当選役に基づいて所定のラインに沿って並ぶことを許可する図柄組合せを決定し、この決定された図柄組合せを報知する。 - 特許庁

The pattern film deposition is performed by the Physical Vapor Deposition (PVD) method by using a mask M having a plurality of wires arrayed at the spacing corresponding to the width of the line-like pattern.例文帳に追加

ライン状パターンの幅に合わせた間隔で配列された複数のワイヤを有するマスクＭを用いて、物理気相成長（ＰＶＤ）法によりパターン成膜を行う。 - 特許庁

To provide a method for forming a resist pattern, with which a finer resist pattern with a controlled line width change can be formed readily and efficiently, while reducing the occurrence of damages.例文帳に追加

より微細で線幅変動が制御されたレジストパターンを、ダメージの発生を軽減しつつ、簡便で効率的に形成可能なレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To prevent inter-wiring short circuit caused by separation of a conductive film remaining in a groove of an accessory pattern, with respect to the accessory pattern to be formed on a scribing line region.例文帳に追加

スクライブ線領域上に形成されるアクセサリパターンに関し、アクセサリパターンの溝内に残された導電膜が剥がれることによって生ずる配線間の短絡を防止する。 - 特許庁

To improve image quality without producing line unevenness by regulating dither pattern even when the image with dither pattern for each pixel is magnified by non-integer times.例文帳に追加

画素単位でディザ状模様にした画像を非整数倍で拡大しても、ディザ状模様を規則的にして線状のむらを発生させず、画質を向上させることを課題とする。 - 特許庁

An internal conductor of the coaxial connector is electrically connected to a signal line of the multilayer wiring substrate, and an external conductor is connected to the connection conductor pattern and internal ground pattern through solder.例文帳に追加

同軸コネクタの内部導体は多層配線基板の信号線と電気的に接続され、外部導体は接続導体パターンと内部アースパターンに半田を介して接続する。 - 特許庁

A wide bandwidth attenuation circuit 100 is configured by arranging a resistance portion 110 having a plurality of chip resistors 111 between a line pattern 101 and a ground pattern 102.例文帳に追加

広帯域減衰回路１００は、線路パターン１０１とグラウンドパターン１０２との間に、複数のチップ抵抗器１１１を有する抵抗部１１０を配置した構成としている。 - 特許庁

To provide a laser device which outputs an elliptical pattern (including oval) of a laser beam, especially a green line pattern of a laser beam and furthermore is reduced in size.例文帳に追加

出力するレーザー光を楕円（長円を含む）パターン、とくに、グリーンラインパターンのレーザ光が出力でき、しかも小型化が可能なレーザ装置を提供することを課題とする。 - 特許庁

Thus, when the line speed is extremely low, the writing of the marking pattern can be prevented, and hence the suitable marking pattern can be formed on the film.例文帳に追加

これにより、ライン速度が極めて低いときにマーキングパターンを書き込んでしまうのを防止することができ、Ｘレイフィルムに適正なマーキングパターンを形成することができる。 - 特許庁

A connection line CL_CA is drawn from a cell pattern C_A corresponding to an active module, and the receiving port P_CB of a cell pattern C_B corresponding to a passive module.例文帳に追加

能動側モジュールに対応するセル図形Ｃ_Ａから接続線ＣＬ_ＣＡを引き出し、受動側モジュールに対応するセル図形Ｃ_Ｂの受ポートＰ_ＣＢに接続する。 - 特許庁

To provide a radiation sensitive resin composition which is a resist excellent in sensitivity and resolution, ensuring small line edge roughness of a pattern, and capable of well maintaining the pattern shape.例文帳に追加

感度、解像度に優れ、パターンのラインエッジラフネスが小さく、更にはパターン形状を良好に維持することが可能なレジストである感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

In the board, since the thickness of the solid pattern 4 is smaller than that of the line pattern 3, a level difference on the surface of the DFA layer 6 can be reduces.例文帳に追加

このプリント配線板では、ベタパターン４の厚さが単独線パターン３の厚さよりも薄いため、ＤＦＡ層６の表面に生じる高低差が低減されている。 - 特許庁

Further, the track pattern line has a specified shape different from those of the first and second reference pattern lines, and extended over the width of at least one servo track.例文帳に追加

さらに、トラックパターンラインは、第１および第２の基準パターンラインの所定形状と異なる所定形状を有し、少なくとも一つのサーボトラックの幅にわたって延在する。 - 特許庁

In a first process, a straight line pattern in the length direction in the entire grid-shape pattern is plotted with a high printing frequency of 1 kHz or more, for example.例文帳に追加

第１の工程において、格子状パターンの全体における長手方向の直線パターンを、例えば１ｋＨｚ以上の高い印字周波数により描画する。 - 特許庁

A transmission line substrate for connection having a ground pattern where two slot holes electromagnetic-coupled to a triplate line are formed is connected to first and second transmission line substrates having a ground pattern where slot holes electromagnetic-coupled to the triplate line are formed, and the slot holes are opposed to each other, so that a high frequency signal can be transmitted between the first and second transmission line substrates.例文帳に追加

トリプレート線路に電磁結合されるスロット孔の形成されたグランドパターンを有する第１、第２の伝送線路基板の上に、トリプレート線路に電磁結合される２つのスロット孔の形成されたグランドパターンを有する接続用伝送線路基板を接続し、スロット孔同士を対向させることにより、第１、第２の伝送線路基板の間で高周波信号を伝送する。 - 特許庁

The transfer pattern 200c includes: first and second transfer line patterns 201c and 202c arranged in a straight line having their ends opposing with each other at a predetermined interval; third and fourth transfer line patterns 203c and 204c which are in parallel with the respective transfer line patterns 201c and 202c; and a connection portion 212 connecting the ends of second and third transfer line pattern 202c and 203c with each other.例文帳に追加

転写パターン２００ｃは、所定間隔を開けて端部同士が対向して直列に並ぶ第１及び第２の転写ラインパターン２０１ｃ及び２０２ｃと、これらに各々並列する第３及び第４の転写ラインパターン２０３ｃ及び２０４ｃと、第２及び第３の転写ラインパターン２０２ｃ及び２０３ｃの端部同士を接続する接続部２１２とを含む。 - 特許庁

When the birefringence is 1.2 nm/cm or less, a pattern including an isolated line is exposed; when the birefringence is 2 nm/cm or less, a pattern including dense lines is exposed with high control accuracy of the line width; and when the birefringence is 4 nm/cm or less, a pattern containing dense lines is exposed at regular control accuracy of the line width.例文帳に追加

複屈折量が１．２ｎｍ／ｃｍ以下の場合には、孤立線を含むパターンを露光し、複屈折量が２ｎｍ／ｃｍ以下の場合には、密集線を含むパターンを高い線幅制御精度で露光し、複屈折量が４ｎｍ／ｃｍ以下の場合には、密集線を含むパターンを通常の線幅制御精度で露光する。 - 特許庁

Copper foil and resist are laminated on a substrate, drawing is directly performed by using the width of the pattern line specified by pattern data for machining for exposure, the exposed resist is developed for forming a resist pattern, and the copper foil on the substrate is etched for forming a formation pattern.例文帳に追加

基板上に銅箔およびレジストを積層し、加工用パターンデータにより指定されたパターン線の線幅を用いて直接描画して露光し、露光されたレジストを現像してレジストパターンを形成して、基板上の銅箔をエッチングして形成パターンを形成する。 - 特許庁

To provide a positive resist composition which can be suitably used when ArF excimer laser light is used as an exposure light source, excels in line edge roughness, and causes neither pattern collapse nor problem of development defects, and a pattern forming method using the same, and to further provide a positive resist composition excellent in pattern profile and exposure latitude and a pattern forming method using the same.例文帳に追加

ArFエキシマレーザー光を露光光源とする場合に好適に使用することができ、ラインエッジラフネスに優れ、かつパターン倒れがなく、現像欠陥の問題を生じないポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

Then a second mask M2 consisting of a recessed pattern M2Xa of a line width d2 and a recessed pattern M2Xb of the line width d1 is imaged while the position of the focus is changed and the relative positions MD2 of both patterns M2Xa and M2Xb are measured.例文帳に追加

次に、線幅ｄ２の凹パターンＭ２Ｘａと線幅ｄ１の凹パターンＭ２Ｘｂとからなる第２マークＭ２Ｘをフォーカス位置を変化させながら撮像し、両凹パターンＭ２Ｘａ，Ｍ２Ｘｂの相対位置ＭＤ２を計測する。 - 特許庁

Based on the result of it, a variable display 30 executes a pattern variable game and in the case when a pattern with an identifier stops on any one line in the middle of the execution, display of special ready-for-winning state appears on the line without exception.例文帳に追加

その結果に基づき、可変表示装置３０で図柄変動遊技が実行され、その途中何れかのライン上で識別子付き図柄が停止した場合、当該ライン上にて特別リーチ表示が必ず出現する。 - 特許庁

The boundary regions 12AB, 12BC each have an arrangement in which a parallel line pattern used for emitting a laser beam from one irradiating optical system is mixed with a parallel line pattern used for emitting a laser beam from the other irradiation optical system.例文帳に追加

境界領域１２ＡＢ，１２ＢＣでは、一方の照射光学系によりレーザビームを照射する平行線パターンと、他方の照射光学系によりレーザビームを照射する平行線パターンとを混合した配置にする。 - 特許庁

RESIST PATTERN LINE WIDTH CALCULATING METHOD, MASK PATTERN LINE WIDTH CORRECTION METHOD, OPTICAL PROXIMITY EFFECT CORRECTION METHOD, EXPOSURE MASK FABRICATING METHOD, ELECTRON DRAWING METHOD FOR FABRICATING THE EXPOSURE MASK, EXPOSURE METHOD, AND SEMICONDUCTOR DEVICE MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

レジストパターン・ライン幅の算出方法、マスクパターン・ライン幅の補正方法、光近接効果補正方法、露光用マスクの作製方法、露光用マスクを作製するための電子線描画方法、露光方法、及び、半導体装置の製造方法 - 特許庁

To correctly extract a ruled line even if a shadow is present in a shading image or the density difference between the ruled line and a background is low, and to correctly extract a necessary pattern when the pattern is extracted from a multiple image.例文帳に追加

濃淡画像に影があったり、罫線と背景の濃度差が少ないような場合であっても、正確に罫線を抽出することと、多値画像からパターンを抽出する際に、必要なパターンを正確に抽出することが課題である。 - 特許庁