「line-pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(17ページ目) - Weblio英語例文検索

A fine slit pattern structure of a predetermined shape is executed in respective printing elements and/or dots of a line drawing and/or a dot pattern on a basic image A expressing the face image of a person by continuously changing the printing element width or the diameter of the line drawing and/or the dot pattern.例文帳に追加

線画及び／又はドットパターンにおける画線幅や直径を連続的に変化させて人物の顔画像を表現した基本画像Ａに対して、前記線画及び／又はドットパターンのそれぞれの各画線内及び／又は各ドット内に一定形状の微小スリットパターン構造を施す。 - 特許庁

In the case of registration correction, in a present set condition (condition where it is assumed that registration deviation does not exist), the C test pattern and the K test pattern are plotted so that a central short line forming the C pattern in each step state is superposed on the corresponding K line, and a test image 50A is formed on the paper.例文帳に追加

レジストレーション補正時には、現在の設定状態（レジストレーションずれがないと仮定した状態）で、Ｃの各階段状パターンを形成している中央の短ラインが、対応するＫのラインと重なるように、ＣのテストパターンとＫのテストパターン描き、用紙上にテスト画像５０Ａを形成する。 - 特許庁

A cutoff line position determination part 54 determines a horizontal position of the non-perpendicular cutoff line so that a whole luminous distribution pattern formed by superimposing the right side luminous distribution pattern and the left side luminous distribution pattern, have a light-shielding region which coincides with the vehicle position detected by the vehicle position detecting part 52.例文帳に追加

カットオフライン位置決定部５４は、右側配光パターンと左側配光パターンとを重ね合わせた全体配光パターンが、車両位置検出部５２により検出される車両位置に合わせた遮光領域を有するように、非垂直カットオフラインの水平方向位置を決定する。 - 特許庁

To form a rugged pattern having different height of lines (the rugged pattern of forming differences in the line itself and making the height different from that of the other line) in the partition formation of a printed circuit board and a plasma display panel (PDP), the electrode formation and the pattern formation for the fabrication of an electroforming product, etc., on the same substrate.例文帳に追加

プリント配線板、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）の隔壁形成、電極形成、電鋳法製品等の製造のためのパターン形成において、ラインの高さが異なる凹凸模様（ライン自体に段差をつけたり、他のラインとの間で高さを異ならせた凹凸模様）を同一基板に形成させる。 - 特許庁

A stop table is constituted so that pattern combination corresponding to the small role of the bell may be stop-displayed in a line along a specific line and includes a specific stop table which is constituted so that the cherry (pattern 97) may not be stop-displayed at the pattern display position of the left display window (4L).例文帳に追加

停止テーブルは、特定のラインに沿ってベルの小役に対応する図柄組合せが並んで停止表示するように構成し、左の表示窓（４Ｌ）の図柄停止位置にチェリー（図柄９７）を停止表示しないように構成した特定の停止テーブルを含む。 - 特許庁

Then, in an exposure device B, the same L/S pattern is formed using the same mask, and the coherence factor of the exposure device B is adjusted to achieve the condition that the dimensional difference becomes minimum between the line width PB in that L/S pattern and the line width PA in the L/S pattern formed in the exposure device A.例文帳に追加

次に、露光装置Ｂにおいて、同一のマスクを用いて同一のＬ／Ｓパターンを形成するとともに、当該Ｌ／Ｓパターンのライン幅ＰＢと、露光装置Ａで形成したＬ／Ｓパターンライン幅ＰＡとの間の寸法差が最小になる条件に、露光装置Ｂのコヒーレンスファクタを調整する。 - 特許庁

When it is judged that the pattern of the standby system K bytes is the pattern for reporting the erroneous connection in the step, since the pattern is transmitted only through an active system transmission line SL, it is approved that the active system transmission line SL is connected to the standby system high-speed interface part 1-1.例文帳に追加

このステップで、予備系Ｋバイトのパターンが誤接続通知用のパターンであると判定されれば、当該パターンは現用系伝送路ＳＬを介してのみ伝送されるのであるから、予備系高速インタフェース部１−１に現用系伝送路ＳＬが接続されたと認定する。 - 特許庁

To provide a positive photoresist composition having an improving effect on a margin for exposure (particularly a margin for exposure through a repetitive pattern, a so-called dense pattern) in the production of a semiconductor device, that is, suppressing the variation of the line width of the isolated lines of a dense line pattern when light exposure amounts are varied.例文帳に追加

半導体デバイスの製造において、露光マージン（特に繰り返しパターン、いわゆるdenseパターンの露光マージン）に対する改善効果がある、すなわち露光量を変化させたときの、denseラインパターン孤立ラインの線幅変動が小さいポジ型フォトレジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

Then, the pattern control board 25 and the pattern display device 18 are connected by a signal line 35 for transmitting as prescribed signals the various kinds of information for pattern control arithmetically processed by the CPU 30 and the prescribed signals are serially transmitted through the signal line 35.例文帳に追加

そして、図柄制御基板２５と図柄表示装置１８は、ＣＰＵ３０が演算処理した図柄制御のための各種情報を所定信号として伝送するための信号線３５で接続し、当該信号線３５を介して前記所定信号をシリアル伝送する。 - 特許庁

To provide a resist pattern measuring method capable of determining automatically and measuring correctly a remaining part (line pattern) and a cut-out part (space pattern) as to a measuring-objective pattern in an image, and capable of measuring a true resist pattern corrected in a shrinkage amount, when measuring a resist pattern by a CD-SEM.例文帳に追加

ＣＤ−ＳＥＭによるレジストパターンの測定において、画像中の測定対象パターンが残し部（Ｌｉｎｅパターン）と抜き部（Ｓｐａｃｅパターン）を自動的に判定して正しく測定すると共に、レジストのシュリンク量を補正した真のレジストパターン寸法を測定することを可能にするレジストパターン測定方法及びレジストパターン測定装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method for forming film pattern which makes it possible to control the line width of a pattern as desired particularly when the pattern having a thick film is formed and, thereby realizing fine pattern and high definition pattern, and to provide a conductive film wiring, an electro-optical device, an electronic appliance and a non-contact card medium obtained by the method for forming film pattern.例文帳に追加

特に膜厚が厚いパターンを形成するにあたって、そのライン幅を所望通りに制御できるようにし、これによってパターンの微細化、高精細化を可能にした膜パターンの形成方法と、この形成方法によって得られる導電膜配線、電気光学装置、電子機器、及び非接触型カード媒体とを提供する。 - 特許庁

To provide a pattern forming method by which a pattern having high sensitivity and resolution, small line width roughness (LWR), and a superior exposure latitude (EL) and pattern form is formed, to provide a pattern formed by the pattern forming method, and to provide a chemically amplified resist composition used in the pattern forming method, and a resist film formed of the chemically amplified resist composition.例文帳に追加

感度及び解像力が高く、線幅バラツキ（ＬＷＲ）が小さく、露光ラチチュード（ＥＬ）及びパターン形状に優れたパターンを形成できるパターン形成方法、該パターン形成方法から形成されたパターン、該パターン形成方法に用いられる化学増幅型レジスト組成物、及び、該化学増幅型レジスト組成物により形成されるレジスト膜を提供する。 - 特許庁

To provide a pattern forming material having good scratch resistance in a developer, excellent in resolution and tenting property, ensuring small variation in line width, providing a high-definition pattern, and excellent in adhesion to a substrate such as a substrate for printed wiring formation, and to provide a pattern forming apparatus equipped with the pattern forming material and a pattern forming method using the pattern forming material.例文帳に追加

現像液中での耐傷性が良好であり、解像度及びテント性に優れ、線幅のバラツキが小さく、高精細なパターンが得られ、しかもプリント配線形成用基板等の基体との密着性に優れたパターン形成材料、並びに該パターン形成材料を備えたパターン形成装置及び前記パターン形成材料を用いたパターン形成方法の提供。 - 特許庁

When the big winning is established at the oblique effective line L4 in the special pattern display device 4 (2), after all patterns start vibration (3), left/right patterns are varied by one frame (4) to change a big winning line from an oblique line to a horizontal line L2 (5).例文帳に追加

特別図柄表示装置４の斜めの有効ラインＬ４で大当りが成立した場合（２）、全図柄が振動しはじめた後（３）、左右図柄が１コマ変動して（４）、大当りラインが斜めラインから水平ラインＬ２に変更される（５）ようにした。 - 特許庁

The maximum value of the arithmetic result is outputted to the white area extraction 323 to make it easy to extract a pattern when the pattern is in the structure of a hair line pattern (e.g. output of a copying machine).例文帳に追加

白領域抽出３２３に演算結果の最大値を出力するのは、絵柄が万線パターンの構造のときに（例えば、複写機の出力）、より絵柄を抽出しやすいように、最大値を出力する。 - 特許庁

This garment with color changing property has a first pattern forming a frame line, a second pattern using photochromic ink and a third pattern using a luminous agent each applied to a base material forming the garment.例文帳に追加

本発明の変色性衣服は、衣服を構成する基材上に、枠線を形成する第一図柄と、フォトクロミックインキを使用した第二図柄と、蓄光剤を使用した第三図柄とを施したことを特徴とする。 - 特許庁

The socket type coaxial connector 200 is surface mounted on the ground pattern 104 at a position in close proximity to the protrusion (feeding point) 102a of the antenna element pattern 102 while straddling the end of the strip line 103 and the ground pattern 104.例文帳に追加

ソケット型同軸コネクタ２００は、グランドパターン１０４のうち、アンテナエレメントパターン１０２の突部（給電点）１０２ａに極く近い位置に、ストリップ線路１０３の端とグランドパターン１０４とに跨って、表面実装してある。 - 特許庁

The mask patterns have a mask pattern body 12 resembling the transfer patterns and projecting part patterns 16 disposed over the entire line of one 14A of longitudinal direction pattern boundaries 14A, B facing each other of the mask pattern body.例文帳に追加

マスクパターンは、転写パターンと相似するマスクパターン本体１２と、マスクパターン本体の相互に対向する長手方向パターン境界線１４Ａ、Ｂの一方１４Ａの全線に設けられた突起部パターン１６とを備えている。 - 特許庁

To express a stop pattern of the identification pattern in a variety of aspects in the turning direction of a polyhedron pattern, and allow a player to expect a big win of a special game in every line.例文帳に追加

多面体図柄の回転方向毎に、識別図柄の停止図柄を確定させるまでの態様を多彩に表現することを可能とするとともに、各ライン毎に特別遊技の当選を期待することを可能とする。 - 特許庁

Even if the reflected light from the main beam expands radially from the center of the recording medium because of scratches or the like, its pattern is converted to a pattern on a line in a prescribed direction, with the expanded state of the pattern limited.例文帳に追加

メインビームからの反射光が傷等により光記録媒体中心から放射状に拡がっても、そのパターンが所定の方向の直線上のパターンに変換されパターンの拡がり状態が限定される。 - 特許庁

To provide a method and an apparatus for manufacturing a synthetic resin sheet or a synthetic resin board, especially a synthetic resin floor material with a chip pattern close to a natural marble pattern with a clear pattern boundary line.例文帳に追加

模様の境界線がはっきりした天然の大理石模様に近いチップ模様を有する合成樹脂シートまたは合成樹脂板とくに合成樹脂製床材の製造方法および製造装置の提供。 - 特許庁

When the degree of expecting the specific pattern is 1 to 4, after a winning pattern is stopped temporarily at an effective line (figure 6 (c)), the temporary stoppage and re-variation of the winning pattern are repeated by the number of times regulated by the degree of expecting (the figure 6 (c) to (g)).例文帳に追加

特定図柄の期待度が１〜４であると、有効ラインに当たり図柄が仮停止（図６（ｃ））した後に、期待度で規定された回数だけ当たり図柄の仮停止と再変動が繰り返される（図６（ｃ）〜（ｇ））。 - 特許庁

The final stopping pattern is stopped at and displayed on the effective line without imposing a load on the motor by performing the required final stopping pattern processing on the basis of the variation control data for the selected final stopping pattern processing.例文帳に追加

選択された最終停止図柄処理用の変動制御データに基いた所要の最終停止図柄処理を実行することで、モータに負担をかけることなく最終停止図柄を有効ラインに停止表示させる。 - 特許庁

Mole pattern lines are prepared, which are vertically, horizontally or slantly arranged series of mole pattern 33A to 33D of different colors, and each mole pattern line is variably displayed on a display screen 15a of a variable display device on a pachinko machine.例文帳に追加

複数の色のモグラ図柄３３Ａ〜３３Ｄを縦、横或いは斜めに直列に配置したモグラ図柄列を用意し、これらモグラ図柄列ごとにパチンコ機の可変表示装置の表示画面１５ａに可変表示させる。 - 特許庁

A first conductor pattern 8, a second conductor pattern 9 and a third conductor pattern 10 which are mutually parallel distributed line patterns, shorter than λ/4 with respect to the passing wavelength λ, and electromagnetically coupled with each other are formed on a dielectrics substrate 2.例文帳に追加

誘電体基板２に互いに平行な分布線路パターンとして通過波長λのλ／４よりも短軸とされ電磁結合する第１の導体パターン８乃至第３の導体パターン１０を形成する。 - 特許庁

As illustrated, when a copper foil pattern having signal lines formed therein is provided on one surface (b) (signal line) of each printed circuit board, a solid pattern is provided on the other rear side (a) (solid pattern surface) with the copper foil not being etched.例文帳に追加

図３に示すように、プリント基板１０の片方、（ｂ）表面（信号ライン）に信号ラインをなす銅箔パターンを設けた場合、その反対面（ａ）裏面に、銅箔をエッチングしないままで、ベタパターンを設けてある（ベタパターン面）。 - 特許庁

To provide a pattern forming method capable of preventing deformation of a photoresist pattern or increase in LWR (line width roughness) when a silicon oxide film is formed on the photoresist pattern in a sidewall spacer method.例文帳に追加

側壁スペーサー法において、フォトレジストパターン上に珪素酸化膜を形成した際のフォトレジストパターンの変形やＬＷＲの増大を防ぐことができるパターン形成方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a slimming processing method for a resist pattern which can reduce variation in line width of a resist pattern after slimming processing when the resist pattern formed by exposure processing and development processing is subjected to slimming processing.例文帳に追加

露光処理、現像処理を行って形成したレジストパターンをスリミング処理する際に、スリミング処理後のレジストパターンの線幅のばらつきを低減させることができるレジストパターンのスリミング処理方法を提供する。 - 特許庁

To stop and display a final decided by a main control unit at an effective line when starting pattern variation control processing even when receiving the whole pattern stopping command in the middle of pattern variation control.例文帳に追加

図柄変動制御途中に全図柄停止コマンドを受信した場合でも、当該図柄変動制御処理の開始時に該主制御部で決定された最終停止図柄を有効ラインに停止表示させ得るようにする。 - 特許庁

To provide the pattern generating device and method capable of easily generating a pattern such as an address complement pattern without a limit in a maximum value of a line address and a row address, and to provide a semiconductor integrated circuit test device.例文帳に追加

行アドレス及び列アドレスの最大値に制限無く、容易にアドレスコンプリメントパターン等のパターンを発生することができるパターン発生装置及び方法並びに半導体集積回路試験装置を提供する。 - 特許庁

To provide a device for processing a resist pattern and a method of processing a resist pattern which are adapted that can realize uniform and high-precision thinning of the line width of a resist pattern arranged on a substrate, using a low cost and easy technique.例文帳に追加

基板上に配置されているレジストパターンの線幅の均一且つ高精度な細線化を、安価且つ容易な手法で実現することが可能なレジストパターン処理装置及びレジストパターン処理方法を提供する。 - 特許庁

The first antenna pattern 11 is a repetitive pattern of triangle waves comprising a thin and long line with a prescribed amplitude L(11) drawn by a conductor thin film 11a with a prescribed line width w and a pitch P(11) of each triangle waveform is selected about thrice the line width w of the dielectric thin film 11a.例文帳に追加

第１アンテナパターン１１は一定線幅ｗの導電体薄膜１１ａにより描かれた細長い一定振幅Ｌ（１１）の三角波形の繰り返しパターンであり、各三角波形のピッチＰ（１１）が誘電体薄膜１１ａの線幅ｗの約３倍とされている。 - 特許庁

In the pattern arrangement method by which a device pattern is arranged in a device region 10 and process patterns 14a, 14b are arranged in a scribing line region 12 surrounding the device region, the process patterns 14a, 14b are arranged in a region outward away from the center line 13 of the scribing line region 12.例文帳に追加

デバイス領域１０にデバイスパターンを配置し、デバイス領域を囲うスクライブライン領域１２にプロセスパターン１４ａ、１４ｂを配置するパターン配置方法において、プロセスパターン１４ａ、１４ｂをスクライブライン領域１２の中心線１３よりも外側の領域に配置する。 - 特許庁

Accordingly, the line width can be controlled precisely and the predetermined resist pattern can be obtained by measuring the line width of the resist pattern after the development and then controlling the temperature of heat treatment, based on the result of the measurement, for example, by raising the temperature of heat treatment when the line width is smaller than a predetermined width.例文帳に追加

従って、例えば、現像後のレジストパターンの線幅を測定し、この測定結果に基づいて例えば線幅が所定より小さければ加熱温度を所定より上げる等の制御を行うことにより、精密に線幅を制御することができ、所望のレジストパターンを得ることができる。 - 特許庁

After a member to be patterned is formed on a semiconductor substrate, the member to be patterned is patterned to form a plurality of line patterns in parallel, and dummy patterns are formed from the end of the line pattern in a direction perpendicular to the longitudinal direction of the line pattern at predetermined intervals.例文帳に追加

半導体基板上に被パターニング部材を形成した後に、被パターニング部材をパターニングして、複数のライン状のパターンを並列に形成するとともにライン状のパターンの端部から所定間隔をもってライン状のパターンの長手方向と垂直な方向にダミーパターンを形成する。 - 特許庁

Since the circuit pattern layer 1 and the decoration layer 7 are to be separated bodies, there is no fear of a solvent running into or damaging a conductive line 5 of the decoration layer 7 or the circuit pattern 3.例文帳に追加

回路パターン層１と加飾層７を別体とするので、加飾層７や回路パターン３の導電ライン５が溶剤で滲んだり、損傷するおそれがない。 - 特許庁

The translucent antenna comprises a conductive layer of an arbitrary geometrical pattern, e.g. a lattice pattern having line width of 2-40 μm, formed on a transparent substrate.例文帳に追加

透光性のアンテナであって、透明基板上に、線幅２〜４０μｍの格子状等、任意の幾何学模様パターンからなる導電層を形成したことを特徴としている。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition which forms a resist pattern with small LWR (line width roughness) and an excellent pattern shape.例文帳に追加

ＬＷＲ（Ｌｉｎｅ Ｗｉｄｔｈ Ｒｏｕｇｈｎｅｓｓ）が小さく、かつ、パターン形状に優れたレジストパターンを形成可能な感放射線性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

To eliminate the pattern dependence where a gain of a light source unit utilizing an optical amplifier changes depending on a light emission pattern of a signal line resulting in distorting the waveform.例文帳に追加

光増幅器を利用した光源装置において、信号光の発光パターンに依存してゲインが変わり波形が歪むというパターン依存性を除去することにある。 - 特許庁

Subsequently, in a second process, a straight line pattern in the transverse direction in the entire grid-shape pattern is plotted with a low printing frequency of 100 Hz or less, for example.例文帳に追加

次いで、第２の工程において、格子状パターンの全体における短手方向の直線パターンを、例えば１００Ｈｚ以下の低い印字周波数により描画する。 - 特許庁

To form an isolated line pattern with high controllability by using a multiple resist layer having a two-layer structure with a LOF (lift-off) layer left in the lower part of the resist in the method for forming a fine resist pattern.例文帳に追加

微細レジストパターンの形成方法に関し、ＬＯＦ層をレジスト下部に残した２層構造の積層レジスト層を用いて、孤立ラインパターンを制御性良く形成する。 - 特許庁

Thus, it is possible to efficiently extract the instruction from the logic pattern by retrieving the collation pattern corresponding to the instruction from the only line in which the instruction is present.例文帳に追加

よって、インストラクションがある行だけを、インストラクションに対応した照合パターンを検索していくことで、ロジックパターンからインストラクションを効率的に抽出できる - 特許庁

To suppress variation in the line width of a resist pattern due to the variations in the thickness of a resist film when the resist pattern is formed by exposing the chemically amplified resist film.例文帳に追加

化学増幅型のレジスト膜を露光してレジストパターンを形成する際に、レジスト膜の膜厚のばらつきに起因するレジストパターンの線幅のばらつきを抑制する。 - 特許庁

Since the line-and-space pattern P is a periodical pattern, it has high visibility for visual check with an optical microscope, and the region for inspection of defects can be defined.例文帳に追加

さらに、ラインアンドスペースパターンＰは、周期パターンであるため、光学顕微鏡を使って目視した場合に視認性が高く、欠陥検査領域を明確にすることができる。 - 特許庁

To provide an exposure apparatus that can minimizes the minimum line width of a pattern after a photosensitive material is developed, and can maintain a good edge feature of the pattern.例文帳に追加

感材の現像後のパターンの最小線幅を最小限に抑えるとともにそのパターンのエッジ形状を良好に保つことができる露光装置を提供する。 - 特許庁