「line-width」に関連した英語例文の一覧と使い方(39ページ目) - Weblio英語例文検索

A plurality of rod members 11a to 11c in the label receiver 10 extend in a label L feeding direction A from the vicinity of lower part of the label receiving port 2, and are laid in line in the label L width direction B.例文帳に追加

ラベル受け１０の棒状部材１１ａ〜１１ｃは、ラベル発行口２の下方付近からラベルＬの送り出し方向Ａに延び、ラベルＬの幅方向Ｂに複数並んでいる。 - 特許庁

An image forming apparatus detects the size of character (such as the point size) for small characters and line width for thin lines, and if the detected measurements are smaller than predetermined sizes, performs edge smoothing not only for edge parts but also an object as a whole.例文帳に追加

小さい文字は文字サイズ（ポイント数など）、細線は線幅を検出し、所定のサイズより小さい場合には、エッジ部だけでなくオブジェクト全体に対してエッジスムージングを実施する。 - 特許庁

Next, a cutting groove 18A is machined on the cutting line by a blade 9B having a thickness (b) of not less than the kerf width dimension (a) of the V-shaped groove 18 with the V-shaped groove 18 as a guide groove.例文帳に追加

次に、このＶ溝１８をガイド溝として、Ｖ溝１８のカーフ幅寸法ａ以上の厚さｂを有するブレード９Ｂによって切削加工ラインに切断溝１８Ａを加工する。 - 特許庁

The distance h measured between folded ends 11 of the maximum width up ply 9a and a rim diameter line position 12 along the tire radial direction is 30-70% of the tire cross sectional height SH.例文帳に追加

最幅アッププライ９ａの折返し端縁１１とリム径ライン位置１２の間をタイヤ径方向に沿って測定した距離ｈがタイヤ断面高さＳＨの３０〜７０％である。 - 特許庁

This upper tray 4 is adapted to let balls flow down from a prize ball outlet to a ball supply port and finally guide and align the balls in a line by sequentially decreasing the width of a ball passage 7.例文帳に追加

上皿４は賞球出口側から球供給口側へ球を流下させ且つ球の流路７の幅を順次狭めて球を最終的に一列に誘導整列させるものである。 - 特許庁

In an intermediate land, the groove area ratio in a region at the second side is higher compared with the groove area ratio in a region at the first side with a center line in the tire width direction as a boundary.例文帳に追加

中間陸部において、タイヤ幅方向の中心線を境にして、前記第２の側の領域の溝面積比率は、前記第１の側の領域の溝面積比率に比べて高い。 - 特許庁

A coupler 11 is made of a metallic plate, the cross section of the coupler 11 is channel-shaped to surround a feeder (line) 12, and has a width (k) in an extension direction of the feeder 12.例文帳に追加

結合器１１は金属板からなり、給電線（線路）１２を囲むように断面がコの字状をしており、給電線１２の延長方向に所定幅ｌの広がりを持つ。 - 特許庁

A plurality of passages T1 to T3 through which containers P being the articles to be conveyed can pass in a line are formed at a predetermined pitch in the width direction of the conveyor 3 by the partition plates 20a to 20d.例文帳に追加

仕切板２０ａ〜２０ｄによって搬送品の容器Ｐが列状で通過可能な複数の通路Ｔ１〜Ｔ３がコンベア３の幅方向に所定ピッチで形成される。 - 特許庁

To provide a sheet processing device capable of preventing the deviation of a punching position in the width direction of a sheet by detecting the position of the sheet end on a punching line with high accuracy, and provide an image forming device.例文帳に追加

孔あけライン上のシート端の位置を高精度に検知してシート幅方向の孔あけ位置のずれを防止することができるシート処理装置及び画像形成装置を提供する。 - 特許庁

The position for moving the side guide 3b is obtained based on the width dimension of the steel plate 1 which is carried on the carrying line 4, and the side guide 3b is moved in advance until the obtained position.例文帳に追加

搬送ライン４を搬送されてくる鋼板１の幅寸法に基づいて、サイドガイド３ｂを移動させる位置を求め、求めた位置までサイドガイド３ｂをあらかじめ移動しておく。 - 特許庁

To provide a pattern formation method that allows excellent roughness performance such as line width roughness and exposure latitude, and an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition and a resist film used for the same.例文帳に追加

ラインウィズスラフネス等のラフネス性能、露光ラチチュードに優れたパターン形成方法、それに用いられる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物及びレジスト膜を提供する。 - 特許庁

Perforations 7 and 7 are formed as double line-like scores extended so as to cross the support in a width direction at a position downward rather than a center of a longitudinal direction of the support 5.例文帳に追加

そして、支持体５の長手方向の中央よりも下寄りの位置には、支持体を幅方向に横切るように延びる二重線状の折り線としてのミシン目７，７が形成されている。 - 特許庁

On the positive electrode terminals 2 and the negative electrode terminals 3, reference holes 5 are respectively formed nearly at the center part in the leading-out width direction to be set symmetrical with respect to the center line M.例文帳に追加

正極端子２、負極端子３には、それぞれ導出幅方向の略中央部に基準穴５が、中心線Ｍに対して対称となるように形成されている。 - 特許庁

Reinforced parts 5-1 and 5-5 where the line width is increased are provided only on the portions of the card where the antenna 5 may interfere with embossing 1 to 3, to prevent disconnection of the antenna during embossing.例文帳に追加

アンテナ５がエンボス（１〜３）と干渉する可能性のある部分にのみ、線幅を太くした補強部５−１，５−５を設け、エンボスを賦型したときに、アンテナが断線することを防止する。 - 特許庁

To provide a system and method for exposure by which the fluctuation of the line width of a transferred pattern caused by the electrification of a substrate to be treated can be prevented, and to provide a method of manufacturing semiconductor device.例文帳に追加

被処理基板の帯電による転写後のパターン線幅の変動を防止することができる露光装置、露光方法および半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

Thus, the uniformity of the line width in the scanning direction of a pattern transfer image transferred to each section area can be improved as a result of the scanning exposure to each section region on the substrate W.例文帳に追加

このため、基板上の各区画領域に対する走査露光の結果、各区画領域に転写されるパターン転写像の走査方向における線幅均一性が向上する。 - 特許庁

As it has an addition circuit to integrate the image information as well as it enlarges the image of a defect, even a defect of fine line width can be inspected exactly as a defect.例文帳に追加

欠陥の画像を拡大すると共に画像情報を積分する加算回路を有することにより、微細線幅の欠陥であっても欠陥として正確に検査することができる。 - 特許庁

To provide a method for on-line identifying a width deformation model in a hot finishing mill in which deformation by rolling, the fluctuation in a crown rate and the change in temperature are considered.例文帳に追加

圧延による変形、クラウン比率変動、及び温度の変化等を考慮した熱間仕上げ圧延機における板幅変形モデルをオンラインで同定する方法を提供する。 - 特許庁

The tip at the outer side in the vehicle width direction of the holder 54 is arranged at the same position as the engaging portion of the cylinder 53a with the vehicle body B in a direction along the axial line of the cylinder 53a.例文帳に追加

ホルダ５４の車幅方向外方側の先端部が、筒部５３ａの軸線に沿う方向で該筒部５３ａの車体Ｂへの係合部と同一位置に配置される。 - 特許庁

To provide a pattern forming method that excels in exposure latitude and sensitivity, which can form a pattern that also excels in line-width variation, and to provide a chemically-amplified resist composition using the method.例文帳に追加

線幅バラツキに優れたパターンを形成できるとともに、露光ラチテュード及び、感度に優れたパターン形成方法及びこれに用いる化学増幅レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

In image data for inner area display, the block 211 has a line whose width is thicker toward the inside in comparison with that in image data for normal display, and has an inner edge located within a visible range of the EVF 113.例文帳に追加

内域利用表示用の映像データは通常表示用に比し、ブロック２１１の線幅が内側へ太く、内縁の位置がＥＶＦ１１３の視認可能領域内に位置する。 - 特許庁

To provide a photomask in which difference in the change amount of the line width due to local flare can be suppressed, and to provide a method for designing the mask and a method for manufacturing a semiconductor device by using the same.例文帳に追加

ローカルフレアによるライン幅の変動量の相違を抑制することができるフォトマスク、その設計方法及びそれを用いた半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an apparatus and method for supplying adhesive, which secure a uniform and high lamination thickness while keeping the line width fine to prevent the flow of adhesive.例文帳に追加

接着剤の流動防止のための線幅を細く維持しつつ、均一で高い貼り合わせ厚を確保できる接着剤供給装置及び接着剤供給方法を提供する。 - 特許庁

The secondary cell 134 and the aqueous solution tank 130 are arranged so that the respective centers of gravity are deviated on the side opposite to the swing arm 48 side from the center line B in the body width direction.例文帳に追加

二次電池１３４および水溶液タンク１３０は、それぞれの重心が車体幅方向中心線Ｂよりもスイングアーム４８側とは反対側にずれるように配置される。 - 特許庁

To provide a mask for use in an electron beam aligner correcting a variation in the line width of a pattern due to the deflection of the mask when exposure is performed using an electron beam which cannot be made parallel completely.例文帳に追加

完全に平行にはできない電子ビームにより露光を行う際に、マスクたわみによるパターン線幅のばらつきを修正する電子ビーム露光装置に使用するマスクを提供する。 - 特許庁

The intersecting points B1 and B2 of the tangential lines of two inflection points C1 and C2 and the base line BL are detected and the distance between both intersecting points B1 and B2 is set to a peak width (w).例文帳に追加

そして、その２つの変曲点Ｃ１、Ｃ２のそれぞれにおける接線とベースラインＢＬとの交点Ｂ１、Ｂ２を検出し、両交点Ｂ１、Ｂ２間の距離をピーク幅ｗとする。 - 特許庁

To provide a surface-emitting type laser device that narrows the spreading of spectrum line width of laser light emitted from a surface-emitting type laser by suppressing the vibration of an MEMS movable mirror.例文帳に追加

ＭＥＭＳ可動ミラーの振動を抑圧することにより、面発光型レーザから出射されるレーザ光のスペクトル線幅の広がりを狭くできる面発光型レーザ装置を提供すること。 - 特許庁

Even when the signal voltage Vs is changed, the voltage between a common signal line and the pixel electrode is always held equal to or higher than a voltage Vdmax at the time the depletion layer of a semiconductor layer becomes the maximum width.例文帳に追加

コモン信号線と画素電極間の電圧は、信号電圧Ｖsが変化しても、半導体層の空乏層が最大幅となるときの電圧Ｖdmax以上に常に保たれる。 - 特許庁

Consequently, uniform development can be realized in the surface of the substrate without causing any time lag in development starting time, and the line width uniformity of the resist pattern film in the surface of the substrate can be improved.例文帳に追加

これにより、基板面内で現像開始時の時間差が生じず、均一に現像することができ、基板面内のレジストパターン膜の線幅均一性を向上させることができる。 - 特許庁

Furthermore, a characteristic pattern wherein the linear regions L1, L2, L3 are aligned along the width direction is extracted from the converted image and, from the characteristic pattern, a line running along a longitudinal direction is created.例文帳に追加

さらに、この変換後の画像から線状領域Ｌ１，Ｌ２，Ｌ３が幅方向に沿って並ぶ特徴パターンを抽出し、その特徴パターンから長手方向に沿うラインを生成する。 - 特許庁

When the long hole 5 is formed along a contour line 3 of an individual wiring board (semiconductor device), a swell portion 5a which swells along the width of the long hole 5 is formed at an end of the long hole 5.例文帳に追加

個々の配線基板（半導体装置）の外形ライン３に沿って長穴５を形成する際に、長穴５の端部に、長穴５の幅方向に膨らむ膨らみ部５ａを形成する。 - 特許庁

Besides, the outside portion has a second choke 36 having a depth for extension practically parallel to the lengthwise central axial line of the antenna and a width for extension in the radial direction.例文帳に追加

外側部分は、また、アンテナの長手方向中心軸線に対して実質的に平行に伸長する深さと、半径方向に伸長する幅とを有する第二チョーク３６を有する。 - 特許庁

To provide a substrate processor and processing method in which an appropriate inspection can be carried out in order to suppress variation in the line width of a pattern formed in a film on a substrate.例文帳に追加

基板上の膜に形成されたパターンの線幅の変動を抑制するために適切な検査を行うことができる基板処理装置および基板処理方法を提供することである。 - 特許庁

The protection plate 6 is provided with a brittle part 9 so as to be bent around a vertical line 11 substantially at a width center with force exceeding a predetermined value applied from the front toward the rear.例文帳に追加

保護プレート６には、前方から後方に所定以上の力が加わることで幅略中央の垂直線１１周りで曲がるようにするための脆弱部９が形成されている。 - 特許庁

The body 11 includes a rear frame 18, and the rear frame 18 is provided so that its center of gravity is deviated to the side opposite to the swing arm 48 side from the center line B in the body width direction.例文帳に追加

さらに、車体１１はリヤフレーム１８を含み、リヤフレーム１８は、その重心が車体幅方向中心線Ｂよりもスイングアーム４８側とは反対側にずれるように設けられる。 - 特許庁

To provide a positive resist composition which significantly suppresses the line width change rate by changes in the resist film thickness on a highly reflective substrate with a rough surface (such as a bare silicon substrate, a polysilicon substrate).例文帳に追加

凹凸のある高反射基板（ベアシリコン基板、ポリシリコン基板等）上でのレジスト膜厚変動による線幅変動率が顕著に抑制されたポジ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a semiconductor laser generating very narrow laser beams and having stable characteristics, and also to provide a method for generating the laser beams, and a method for reducing a spectral line width of the laser beams.例文帳に追加

きわめて狭線幅なレーザ光を発生でき、安定した特性を有する半導体レーザ、レーザ光の発生方法、およびレーザ光のスペクトル線幅の狭窄化方法を提供すること。 - 特許庁

To provide an aligner which accelerates a drive speed of an arrayed blanking deflector to improve throughput, accuracy and line width controllability, and a device manufacturing method using the aligner.例文帳に追加

アレイ化されたブランキング偏向器の駆動速度を高めてスループット、精度、線幅制御性を改善する露光装置及びその露光装置を用いるデバイス製造方法を提供する。 - 特許庁

To solve the problem, wherein line width controllability is deteriorated, since nonuniformity in photoelectric conversion efficiency becomes nonuniformity in exposure in an exposure device which photoelectrically convert an optical image and performs exposure by using an electron beam image.例文帳に追加

光学像を光電変換して、電子ビーム像によって露光を行露光装置において、光電変換効率むらが露光量むらとなり、線幅制御性が悪化してしまう。 - 特許庁

To inspect a substrate to be inspected at a line pattern in the substrate width direction which crosses the substrate feed direction while saving a space and in a short time, in a substrate inspection apparatus and a substrate inspection method.例文帳に追加

基板検査装置及び基板検査方法において、省スペース且つ短時間で、基板搬送方向を横断する基板幅方向へライン状に被検査基板を検査する。 - 特許庁

To provide a developing device and a developing method capable of executing highly accurate development by correcting dimensional errors in the line width of a pattern which are generated due to variation in atmospheric pressures.例文帳に追加

気圧の変動に起因して生じるパターンの線幅の寸法の誤差を補正して、高精度の現像を行なうことができる現像装置および現像方法を提供する。 - 特許庁

It is preferable that the width of the written line is desirably 3 mm or more and that the porosity of the writing part 21 is desirably changed between the central part of the penpoint and the outer part thereof.例文帳に追加

好ましくは、筆記描線の幅が３ｍｍ以上であることが望ましく、また、筆記部２１の気孔率が、ペン先中央部と外側部とで変化していることが望ましい。 - 特許庁

The cell word lines WL0 to WL31 are fine-processed up to the limit of the exposure processes of an exposing apparatus, denoting distance between lines as "A" and width of line as "B", for example, in the NAND memory unit MU.例文帳に追加

たとえば、ＮＡＮＤ型メモリユニットＭＵにおいて、セルワードラインＷＬ０〜ＷＬ３１は、ライン間距離を“Ａ”、ライン幅を“Ｂ”とし、露光装置の露光限界まで微細加工されている。 - 特許庁

Then, the display position of the main image 3 and the sign language image 5 is shifted to the left by a width (m) portion of the sign language image 5 and the straight line of X=m is disposed at the center of the screen 51.例文帳に追加

そこで、主画像３及び手話画像５の表示位置を手話画像５の幅ｍだけ左へずらし、Ｘ＝ｍの直線が画面５１の中心に配設されるようにする。 - 特許庁

To provide a high-speed heat developable photosensitive material which can rapidly be developed while suppressing the increase of the line width of letters and fogging and has good resolvability.例文帳に追加

文字線幅太りや被りを抑制しつつ迅速な現像処理を行うことが可能で、良好な感光材料保存性を有する高速熱現像感光材料を提供すること。 - 特許庁