「line-width」に関連した英語例文の一覧と使い方(40ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a line head which is excellent in assembling property, has a narrow width and can make an image forming apparatus compact and inexpensive, and to provide the image forming apparatus which is compact and inexpensive.例文帳に追加

組み立て性に優れ、幅が狭く、画像形成装置を小型で安価なものとすることができるラインヘッドを提供すること、また、小型で安価な画像形成装置を提供すること。 - 特許庁

The number of the transfer routes of the wafer is limited to the number of post-exposure bake units which perform line width compensation so that a different post-exposure bake unit is used for each of the transfer routes.例文帳に追加

ウェハの搬送順路は、線幅補正を行う露光後ベークユニットの台数と同数に限定され、当該各搬送順路毎に、使用される露光後ベークユニットが異なるようにする。 - 特許庁

To provide a belt line structure of a door for an automobile capable of improving bending moment against an input in a vehicle width direction while securing rigidity against an input in a vehicle longitudinal direction.例文帳に追加

車両前後方向の入力に対する剛性を確保しつつ車幅方向の入力に対する曲げモーメントを高めることができる自動車用ドアのベルトライン部構造を提供する。 - 特許庁

The ink suction hole 54 (or 56) is formed such that one end thereof in the width direction bridges over the inner side of the other end of a recording medium 12 matched with a reference line 51 to the outer side thereof.例文帳に追加

インク吸引口５４（又は５６）は、その幅方向一端が基準線５１に一致した記録媒体１２の幅方向他端の内側から外側に渡るように形成されている。 - 特許庁

The width in gate length direction of a gate electrode 18 in a memory cell is less than a half of a cell pitch C which is the length form the center of a source line connect 31 to the center of a drain contact 32.例文帳に追加

メモリセル内のゲート電極１８のゲート長方向の幅を、ソース線コネクト３１の中心からドレインコンタクト３２の中心までの長さであるセルピッチＣの１／２未満とする。 - 特許庁

To provide an exposure/development method featuring high resolution and high line width precision on the surface, which is capable of removing watermarks and spots produced at the time of liquid immersion exposure without doing damage to resist.例文帳に追加

液浸露光時に生じるウォーターマークやシミをレジストにダメージを与えることなく除去して、解像度及び面内の線幅精度の高い露光・現像方法を提供すること。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus and an image forming system capable of carrying out printing that brings the line width of a bar code close to an ideal value and raises contrast when printing the bar code on paper.例文帳に追加

バーコードを用紙に印刷する際に、バーコードの線幅を理想値に近づけ、コントラストを上げる印刷をすることができる画像形成装置および画像形成システムを提供する。 - 特許庁

To form a ceramic substrate having a microfine electrode pattern and a general electrode pattern with a line width wider than that of the microfine electrode pattern, while restraining a material loss and securing thickness uniformity of the electrode patterns.例文帳に追加

微細電極パターンとそれより線幅の広い一般電極パターンとを有するセラミック基板を、材料の損失を抑え、また、電極パターンの厚さ均一性を確保して形成する。 - 特許庁

To provide a method of processing a substrate, which reduces variations in line width of the second time resist patterning on a wafer plane without lowering productivity when double patterning is performed.例文帳に追加

ダブルパターニングを行う際に、生産性を低下させることなく、ウェハ面内における２回目のレジストパターンの線幅のばらつきを低減することができる基板処理方法を提供する。 - 特許庁

In addition, curve line current flowed from a side of an electrode tooth can be generated by controlling the width of a tip of the comb tooth-shaped electrode and a distance between the electrode teeth.例文帳に追加

また、櫛歯状電極の先端部の幅や、電極歯部間の間隔を制御することによって、電極歯部の側面から流れる曲線電流を発生させることができる。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a light permeable electromagnetic shield material by which an electromagnetic wave shield layer having uniform thickness and line width and showing high electromagnetic wave shield properties is efficiently formed.例文帳に追加

均一な厚さ及び線幅を有し、高い電磁波シールド性を有する電磁波シールド層をより効率的に形成する光透過性電磁波シールド材の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an apparatus for adjusting a position of a corrugated cardboard sheet which has a simple configuration and quickly corrects width-direction positional deviation of the traveling corrugated cardboard sheet in a production line.例文帳に追加

製造ラインにおいて走行する段ボールシートの幅方向の位置のずれを、簡易な構成で、素早く修正することができる段ボールシートの位置調整装置を提供する。 - 特許庁

To provide a line type ink jet printer which prevents unused nozzles from being dry, can arrange necessary nozzles in a width direction of a printing surface not to be wasted, and also is excellent in maintenance efficiency.例文帳に追加

使用しないノズルが乾燥せず、必要なノズルを無駄なく印刷面の幅方向に配列でき、メンテナンス効率も優れたライン型インクジェット印刷装置を提供することである。 - 特許庁

To stably manufacture a transfer master disk substrate with a surface formed with rugged pattern excellent in line width accuracy, and excellent in pattern shape accuracy where pattern defect is inhibited.例文帳に追加

表面凹凸パターンの線幅精度が良好で、パターン欠陥が抑制されパターン形状精度が良好な転写用原盤基板を安定的に製造することを可能とする。 - 特許庁

To accurately detect a focus, to highly accurately measure and inspect even when the line width of a pattern on a semiconductor and the pitch of the pattern become equal to or below the wavelength of an optical system.例文帳に追加

半導体のパターンの線幅、ピッチが光学系の波長以下になった場合であっても、正しいフォーカス検出を行い、高精度の計測及び検査技術を行うこと。 - 特許庁

The display of the colored character "B" with the line width set at the time of input is performed when it is determined that no event occurs after the display of the preview handwritten input.例文帳に追加

入力時の設定での線の太さで、色が付された状態の「Ｂ」の文字の表示は、プレビュー用手書き入力の表示後、イベントが発生していないと判定されたときに行われる。 - 特許庁

To provide an exposure system, an exposure apparatus, a substrate processing apparatus, a pattern forming method, and a semiconductor device manufacturing method for enhancing the uniformity of line width of a resist film formed on a substrate.例文帳に追加

基板上に形成されるレジスト膜の線幅均一性を向上させる露光システム、露光装置、基板処理装置、パターン形成方法、及び半導体デバイス製造方法を提供する。 - 特許庁

The line width of each of portions 16 of grounding ends 2b, 4b of the inductor strip lines 2, 4 is smaller than that of the portions 15 of opening ends 2a, 4a.例文帳に追加

そして、曲折部２ｃ，４ｃを境にして、インダクタ用ストリップライン２，４の接地端２ｂ，４ｂ側の部分１６のライン幅が、開放端２ａ，４ａ側の部分１５のライン幅より細くなっている。 - 特許庁

To provide a process managing method with which dispersion of an increase amount of line width by a flow can be managed with high measurement precision and high throughput by using an optical inspection device.例文帳に追加

フローによる線幅の増加量のばらつきの管理を光学的検査装置を用いて高い測定精度、且つ高スループットに行うことができるプロセス管理方法を提供する。 - 特許庁

The two pipes constituting the pipe pairs are each provided with a plurality of blowout ports in the form of holes having a prescribed size or in the form of a line of slit having a prescribed width.例文帳に追加

パイプ対を構成する２本のパイプにはそれぞれ複数個の、所定の大きさを有する孔状又は所定の幅を有する一条のスリット状の吹出し口が設けられる。 - 特許庁

To sufficiently assure lithography process tolerance, such as exposure tolerance and depth of focus, while reducing the line width difference by the pattern density of resist patterns without exerting load on manufacturing a mask.例文帳に追加

マスクの製造に負荷をかけることなく、レジストパターンのパターン密度による線幅差を縮小しつつ、露光裕度および焦点深度などのリソグラフィプロセス裕度を十分に確保する。 - 特許庁

To obtain a semiconductor device having such a wiring structure as the concentration of an additive element at the time of forming a Cu alloy is varied depending on the width of an interconnect line in the semiconductor device.例文帳に追加

半導体装置における配線の幅などに応じてＣｕ合金を形成する際の添加元素の濃度を変化させた配線構造を有する半導体装置を得ること。 - 特許庁

In particular, the formed bit line trenches have a uniform width and uniform spacing to adjacent bit lines because connection holes are formed only directly beneath the etch mask that defines the bit lines.例文帳に追加

特に、接続孔は、ビット線を規定するエッチマスク直下にのみ形成されるので、形成されるビット線トレンチは、均一な幅になり、かつ隣接するビット線と均一な間隙になる。 - 特許庁

To obtain a substrate thermal processing device and a substrate thermal processing method capable of enhancing uniformity of a film thickness of a coating film on a substrate or pattern line width uniformity.例文帳に追加

基板上の塗布膜の膜厚の均一性またはパターン線幅均一性を向上させることができる基板熱処理装置および基板熱処理方法を提供することである。 - 特許庁

To provide an image processor and image processing method capable of adjusting the width of a line image composed of prescribed black pixels without deteriorating image quality.例文帳に追加

所定の黒画素により構成されるライン画像の幅調整を画質を劣化させることなく容易に行うことが可能な画像処理装置及び画像処理方法を提供すること。 - 特許庁

To provide an image formation device which can obtain images not different in the density from images without being treated by a vertical scanning position adjustment, by making a density of a one dot width horizontal line constant.例文帳に追加

１ドット幅水平ラインの濃度を一定とすることで、副走査位置調整を行わない画像と濃度が変わらない画像を得ることができる画像形成処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a wiring circuit board and a manufacturing method of the same which can achieve continuity of differential impedance though a transmission line differs from a desired value in width within a predetermined range.例文帳に追加

伝送線路の幅が所望の値から一定の範囲内でずれる場合でも、差動インピーダンスの連続性を確保することが可能な配線回路基板およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

For example, when all channels are turned on in the multichannel AOM 33, the peripheral part of the substrate W is irradiated with five laser beams arranged in a line in the width direction.例文帳に追加

例えば、マルチチャンネルＡＯＭ３３において全てのチャンネルを「ＯＮ」状態にすると、基板Ｗの周縁部では幅方向において一列に並んで５本のレーザ光が照射される。 - 特許庁

To obtain a resist material that makes good use of the rectilinear propagation of electrons as a characteristic of an electron beam at a high accelerating voltage and attains high throughput while retaining high pattern line width controlling capability.例文帳に追加

高加速電圧電子線の特性である電子の直進性を生かし、高いパターン線幅制御性を維持したまま、高スループットを得ることができるレジスト材料を提供する。 - 特許庁

To provide an inexpensive dielectric material which can induce a thinner line width of a bus electrode, the method for forming an electrode of the plasma display panel, the substrate for plasma display panel, and the plasma display panel.例文帳に追加

低コストで、バス電極の線幅の細線化が図れる誘電体材料、プラズマディスプレイパネルの電極形成方法、プラズマディスプレイパネル用基板、およびプラズマディスプレイパネルを提供する。 - 特許庁

A slit 61 in a transparent pixel electrode 6 is formed, for example, with a 10 μm width, extending over the entire length of the center line in each transmissive display part 6A on an array substrate 10.例文帳に追加

そして、アレイ基板１０上の各透過表示部６Ａには、その中央線のほぼ全長にわたって、透明画素電極６のスリット６１を、例えば幅１０μｍで設ける。 - 特許庁

A slit 3 whose one end part 11 is clogged and which has a width being a little larger than the diameter of the needle can be arranged in an axial line direction in the tubular case 2.例文帳に追加

前記管状ケース２には、その端部１１は閉塞され、管状体の一端から針の直径よりわずかに大きい巾を有するスリット３を軸線方向に設けることができる。 - 特許庁

The laser light 28a passes the slit 30 is after that, converged into a projected body 26 and vivid line light 36 with narrow width (a) is projected on the projected body 26.例文帳に追加

スリット３０を通過したレーザー光２８ａは、その後被投射体２６に向かって収斂（集束）され、被投射体２６に鮮明で狭い幅ａのライン光３６ａを投射する。 - 特許庁

To provide a polymer giving a resist pattern, which has good line width roughness while exhibiting high resolution in a lithography process, and a positive photoresist composition containing the polymer.例文帳に追加

リソグラフィプロセスにおいて解像度が高いながら、ライン幅ラフネスも良好なレジストパターンを与える重合体、及びこの重合体を含むポジ型フォトレジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a power line communication device and a noise detection method, capable of detecting periodically generated noise without spreading the width of a dynamic range of an A/D converter.例文帳に追加

Ａ／Ｄ変換器のダイナミックレンジの幅を広げることなく周期的に発生するノイズを検出することができる電力線通信装置及びノイズ検出方法を提供すること - 特許庁

This titanium hydride has microcrystal grains in which the half width value of the peak in the (1, 1, 1) plane as the strongest line of titanium hydride TiH1.971 by X-ray diffraction is 0.2122 degree or more.例文帳に追加

水素化チタンは、Ｘ線回折による水素化チタンＴｉＨ_１．９７１の最強線である（１，１，１）面におけるピークの半価幅値が０．２１２２ｄｅｇｒｅｅ以上である微小結晶粒を持つ。 - 特許庁

To provide a method for producing a mask for solder printing which ensures good releasability of solder and can accurately transfer creamy solder even to the top of an ultrafine circuit pattern having several μm line width.例文帳に追加

半田の抜け性が良好で、線幅が数μｍオーダーの超微細回路パターン上にも正確にクリーム半田を転写可能な半田印刷用マスクの製造方法を確立する。 - 特許庁

Thereby, leaking light through the mosaic region of the exposure mask can be decreased, which can suppress changes in the pattern line width of a TFT substrate and can reduce display irregularity in a liquid crystal display.例文帳に追加

これにより、露光マスクのモザイク領域からの漏れ光を低減でき、ＴＦＴ基板のパターン線幅の変動を抑制し、液晶表示装置の表示ムラを軽減することが可能になる。 - 特許庁

To provide a substrate-processing method and a device, which are capable of analyzing an environment around a substrate as a whole, and more precisely controlling the width of line and the thickness of a resist film.例文帳に追加

基板周囲の環境を全体的に分析し、より精密な線幅制御及びレジスト膜厚制御を行うことができる基板処理方法及び基板処理装置を提供すること。 - 特許庁

Parasitic elements 25 having a line width of about 1 mm are provided at an interval of about 1 mm on the upper side of the external element 21 for forming a slot, and a second slot 23b is formed between them.例文帳に追加

スロット形成用外部素子２１の上側に線幅が約１ｍｍの無給電素子２５を約１ｍｍの間隔で設け、両者間に第２のスロット２３ｂを形成する。 - 特許庁

To provide a film scanner, with which reading is enabled while fixing the number of pixels in the main scanning direction of a line sensor without complicating a structure regardless of a difference in the width dimension of a film.例文帳に追加

構造を複雑化することなく、またフィルムの幅寸法の違いにかかわらずラインセンサの主走査方向の画素数が一定の読み取りを可能にしたフィルムスキャナを提供する。 - 特許庁

To provide a positive resist composition in which the change rate of the line width due to changes in resist film thickness on a highly reflective substrate having a rough surface (such as a bare silicon substrate, polysilicon substrate) is significantly suppressed.例文帳に追加

凹凸のある高反射基板（ベアシリコン基板、ポリシリコン基板等）上でのレジスト膜厚変動による線幅変動率が顕著に抑制されたポジ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

The contrast C, the minimum value MN and a half value width W concerning the minimum value and a peak are obtained with respect to the luminance distribution of image information for the portion of one line which is obtained by an imaging device in a step S1.例文帳に追加

ステップＳ１で撮像素子で得られた画像情報の１ライン分の輝度分布のコントラストＣ、最小値ＭＮ、最小値及びピークに対する半値幅Ｗを求める。 - 特許庁

A projected line 21 having a nearly triangular section is provided on a backside-forming face 18 in the moving mold 13 of a mold device 11 and a narrow width part 22 is formed in the inside of a cavity 19.例文帳に追加

金型装置１１の移動型１３における背面形成面１８上に、断面略三角形状の突条２１を設け、キャビティ１９内に幅狭部２２を形成する。 - 特許庁

For varying a shift characteristic of the diaphragm, a width or a thickness can be made different, or a central part area or an area along a center line can be thinned.例文帳に追加

ここで、振動板の変位特性を異ならせるために、幅或いは厚さを異ならせることができ、また、中心部領域又中心線に沿う領域を薄くすることができる。 - 特許庁