「line-width」に関連した英語例文の一覧と使い方(37ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a method of manufacturing a heterojunction bipolar transistor in which an emitter electrode pattern of submicron size with a high aspect ratio can be formed with good line width controllability.例文帳に追加

アスペクト比の高いサブミクロンサイズのエミッタ電極パタンを線幅制御性良く形成することを可能とするヘテロ接合バイポーラトランジスタの製造方法を提供すること。 - 特許庁

A gas wiping nozzle is vibrated at the frequency of ≥1 Hz by pressing a vibrator 11 against an end face in the width direction of the gas wiping nozzle 3 in operation in a hot dip metal plating line of a metal strip.例文帳に追加

金属帯の溶融金属めっきライン内で稼動中のガスワイピングノズル３の幅方向端面に振動器11を押し当ててガスワイピングノズルを１Hz以上で振動させる。 - 特許庁

Further, the track pattern line has a specified shape different from those of the first and second reference pattern lines, and extended over the width of at least one servo track.例文帳に追加

さらに、トラックパターンラインは、第１および第２の基準パターンラインの所定形状と異なる所定形状を有し、少なくとも一つのサーボトラックの幅にわたって延在する。 - 特許庁

To draw a line having a dense color as compared with other part in a width of about 2 to 3 mm on a surface of a woody composite plate at a position corresponding to a part having no dirt of the composite plate.例文帳に追加

木質合成板の無垢の部分に相当する位置で、木質合成板表面に約２〜３mm幅で他の部分に比して色の濃いラインを描出させる。 - 特許庁

At this time, the color of the vector is detected by a vector detection part 31 and the color of the closed area is detected by a closed area color detection part 33 by considering the information on the line width.例文帳に追加

このとき、ベクトルの色は、ベクトル色検出部３１で検出され、閉領域の色は、線幅の情報を考慮して、閉領域色検出部３３で検出される。 - 特許庁

Correction is not performed for setting the width of a mask patterns 152, which are arranged at the formation planning positions of the plurality of line patterns 152 for a signal, to be a size being not more than the design value.例文帳に追加

複数の信号用ラインパターン１５２の形成予定位置に配置されるマスクパターン１５２の幅を設計値以下の大きさに設定する補正を実施しない。 - 特許庁

Since an open circuit defect portion is coated with the conductive paste 3, unintended increase in the line width is prevented during application of the conductive paste 3.例文帳に追加

これにより、断線欠陥部分に導電性ペースト３が塗布されるので導電性ペースト３の塗布時に線幅が不用意に大きくなるのを抑えることができる。 - 特許庁

The image processing part calculates the width of a line-shaped region having a luminance of a prescribed value or more in the light emitting device to find an aspect ratio and discriminate the generation of the smoke.例文帳に追加

画像処理部は、発光器における所定値以上の輝度を有するライン状の領域の幅を算出して、アスペクト比を求めて煙の発生を判別する。 - 特許庁

To provide a line head which has a narrow width and achieves a highly accurate exposure processing, and to provide an image forming apparatus capable of obtaining a high-quality image.例文帳に追加

幅が狭く、高精度な露光処理を実現することができるラインヘッドを提供すること、また、高品位な画像を得ることができる画像形成装置を提供すること。 - 特許庁

The sanitary napkin 3 is so formed that a portion 51 being rather closer to the rear end portion 3b than the front and connecting to the thick portion 45 is bent at a folding line B_1 extending in the width direction Q.例文帳に追加

生理用ナプキン３はまた、厚肉な部位４５につながる後端部３ｂ寄りの部位５１が幅方向Ｑへ延びる折曲線Ｂ_１において折曲される。 - 特許庁

Inclination and length of a line recognized as a rule and the width between rules are then recognized by image processing and an inputted text is arranged accurately on the rules and printed.例文帳に追加

画像処理により、罫線として認識された直線の傾き、長さ及び罫線間の幅を認識し、入力されたテキストを罫線上に正確に配置して印字する。 - 特許庁

To provide the manufacturing method of an array substrate for displays for setting the width of an etching stopper 118 smaller than that of a gate line by back exposure, and for forming ΔL.例文帳に追加

裏面露光によってゲート線の幅よりもエッチングストッパ１１８の幅を小さくし、ΔＬを形成できる表示装置用アレイ基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a felt-tip pen which is excellent in the abrasion resistance of a pen tip and prevents changing of the width of a written line and which has a long life and keeps up a smooth feeling of writing for a long time.例文帳に追加

ぺん体の耐磨耗性が優れて筆跡の線幅が変化せず、長寿命であるとともに滑らかな筆記感が長く持続するサインペンを提供する。 - 特許庁

An image processing apparatus 10 for simulating image forming on a textile medium according to print data includes a line image extraction part 44 for extracting line images formed according to the print data whose line width is below the thickness of the yarn constituting the textile medium, and an image conversion part 46 for, if the line image extraction part 44 extracts such line images, warning that the extracted line images are difficult to reproduce.例文帳に追加

印刷データに基づいて織物の媒体上に行う画像形成をシミュレーションする画像処理装置１０であって、前記印刷データに基づいて形成される線画像のうち、線幅が前記織物の媒体を構成する糸の太さを下回るものを抽出する線画像抽出部４４と、線画像抽出部４４により線画像が抽出された場合に、抽出された線画像が再現困難な線画像であることを警告する画像処理装置１０。 - 特許庁

This microscope where observation data are acquired by irradiating an observation object with the deep ultraviolet light has a control part measuring the line width of a pattern provided at the prescribed position of the observation object and stopping the irradiation of the observation object with the deep ultraviolet light when the line width of the pattern attains a prescribed limiting value.例文帳に追加

観察対象に深紫外光を照射して観察データを取得する顕微鏡において、該観察対象の所定の位置に設けられたパターンの線幅を測定し、該パターンの線幅が所定の制限値に達した場合に、該観察対象への深紫外光の照射を停止する制御部を有することを特徴とする。 - 特許庁

The detection unit includes a marking unit disposed on the travelling surface of the road and including a pattern periodically changing in optical characteristics in the width direction of the road; a line sensor unit for capturing a one-dimensional image having an eyesight of a line shape extending in the width direction; and a counting unit for detecting the number of vehicles travelling in parallel by using the one-dimensional image.例文帳に追加

並走検出部は、道路の走行面に設けられ光学的な特性が道路の幅方向に周期的に変化するパターンを含むマーキング部と、幅方向に延長する線状の視野を有する一次元画像を取得するラインセンサ部と、一次元画像を用いて並走している車両の数を検出する計数部とを備える。 - 特許庁

A time ratio of the first time t1 and the second time t2 is adjusted such that a line width CD1 of the first resist pattern is equal to a first predetermined value CD1t, and the total time T of the first time t1 and the second time t2 is adjusted such that a line width CD2 of the second resist pattern is equal to a second predetermined value CD2t.例文帳に追加

第１の時間ｔ１と第２の時間ｔ２との時間比率は、第１のレジストパターンの線幅ＣＤ１が第１の所定値ＣＤ１ｔに等しくなるように調整され、第１の時間ｔ１と第２の時間ｔ２との合計時間Ｔは、第２のレジストパターンの線幅ＣＤ２が第２の所定値ＣＤ２ｔに等しくなるように調整される。 - 特許庁

To provide a surface treatment method of a resist pattern which meets the requirement that the line width and LWR (Line Width Roughness) of a first resist pattern are not varied by the freezing of the first resist pattern and the formation of a second resist pattern in a double patterning method.例文帳に追加

ダブルパターニング法における第一のレジストパターンに対して行うフリージングプロセスにおいて、フリージング処理および第二のレジストパターンの形成によって、第一のレジストパターンの線幅及びＬＷＲが変動しないという要件を満たすレジストパターンの表面処理方法およびその表面処理方法を用いたレジストパターンの形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a new detergent for lithography that can keep a low surface tension even when the concentration of a surfactant is decreased, can effectively suppress pattern collapse and defects, can improve uneven pattern width (line width roughness: LWR) and minute recesses and projections (line edge roughness: LER) on a pattern side wall, and prevents a dimensional fluctuation of a resist pattern.例文帳に追加

界面活性剤の濃度を低くしても低表面張力を維持することができ、効果的にパターン倒れやディフェクトを抑制することができ、パターン幅の不均一（ＬＷＲ）・パターン側壁の微小な凹凸（ＬＥＲ）を改善することができ、さらにレジストパターンの寸法変動を生じることのない新規なリソグラフィー用洗浄剤を提供する。 - 特許庁

By forming the external circuit connection terminals 22 and 23 along the two sides of the corner section, a space for connecting all the wiring of an external circuit connection FPC cable 5 can be secured, without broadening the frame section whose width is subject to the width in narrow side direction of the scanning line drive element 3 and the signal line drive element 4.例文帳に追加

外部回路接続用端子２２及び２３は、前記コーナー部の２つの辺に沿って形成することにより、走査線駆動素子３及び信号線駆動素子４の短辺方向の幅で制限される額縁部を広げることなしに、外部回路接続用ＦＰＣケーブル５の全ての配線を接続するためのスペースを確保することができる。 - 特許庁

In the method of manufacturing an exposure mask which is used to perform pattern exposure with a high resolution by shifting the phase of light transmitting both sides in the line width direction of a mask pattern, high-precision patterns requiring line width precision and high-resolution patterns requiring pattern exposure with high resolution are extracted from gate patterns (design patterns) (S2).例文帳に追加

マスクパターンの線幅方向両側を透過する光の位相をシフトさせることで高解像度のパターン露光を行う際に用いられる露光マスクの作製方法であって、ゲートパターン（設計パターン）の中から、線幅精度が要求される高精度パターンと、高解像度でのパターン露光が要求される高解像度パターンとを抽出する（Ｓ２）。 - 特許庁

Line P_X indicating the long diameter X passing the center O of a rotator is substantially aligned with the width direction bisector of a pair of opposing salient poles 2a and 2a, and line P_Y indicating the short diameter Y passing the center O of the rotator is substantially aligned with the width direction bisector of a pair of winding grooves 3a and 3a.例文帳に追加

又、回転子の中心Ｏを通過する長径Ｘを表示する直線Ｐ_Ｘを対向する一対の突極２ａ，２ａの幅方向二等分線と略一致させ、回転子の中心Ｏを通過する短径Ｙを表示する直線Ｐ_Ｙを対向する一対の巻線用溝３ａ，３ａの幅方向二等分線と略一致させる。 - 特許庁

In the solar battery, a linear light receiving surface electrode on a substrate having pn junction is provided with a ground electrode layer and a plating electrode layer on the ground electrode layer, and the plating electrode layer has a line width which is the same as that of the ground electrode layer or a line width narrower than that of the ground electrode layer.例文帳に追加

本発明の太陽電池は、ｐｎ接合を有する基板上の線状の受光面電極が、下地電極層および前記下地電極層上のメッキ電極層を備え、前記メッキ電極層が、前記下地電極層の線幅と同じ線幅、又は前記下地電極層の線幅より狭い線幅を有することを特徴とする。 - 特許庁

In the plurality of coil electrodes 16, the plurality of ceramic green sheets 34 are laminated and crimped so that the line width w2 of the coil electrodes 16-4, 16-5 positioned closest to the center in the z axis direction relatively becomes small, and the line width w1 of the coil electrodes 16-1, 16-6 positioned at the edges in the z axis direction relatively becomes large.例文帳に追加

複数のコイル電極１６において、ｚ軸方向の中央の最も近くに位置するコイル電極１６−４，１６−５の線幅ｗ２が相対的に小さくなり、ｚ軸方向の端に位置するコイル電極１６−１，１６−６の線幅ｗ１が相対的に大きくなるように、前記複数のセラミックグリーンシート３４を積層及び圧着する。 - 特許庁

Besides, the penetrating holes are individually provided at each of lead lines having an inner diameter so that the lead line terminal is inserted, and one grommet 29 having a tightening width in a diametrical direction of the lead line is provide between an outer periphery of each lead line and an inner periphery of each penetrating hole.例文帳に追加

そして、上記貫通孔は上記リード線ターミナルを挿通し得る内径で各リード線毎に個別に設けられ、上記各リード線の外周部と上記各貫通孔の内周部との間に上記リード線の径方向に締め代を有するグロメット２９がそれぞれ設けられていることを特徴とするものである。 - 特許庁

In the tape inspection device for inspecting the pattern 21 formed on the tape surface by the scanning of a line sensor 11, the line sensor 11 is disposed along the longitudinal direction of a tape 1, and a sensor driving means for driving and sensing the line sensor 11 in the width direction of the tape is provided.例文帳に追加

本発明のテープの検査装置は、テープ面に付されたパターン２１を、ラインセンサー１１で走査して検査するテープの検査装置において、前記ラインセンサー１１を、テープ１の長さ方向に沿って配置するとともに、前記ラインセンサー１１をテープの幅方向に駆動走査するセンサー駆動手段を備えたものである。 - 特許庁

This joined joint 30 is what the joined part in which mutual metallic sheets 21, 22 are overlapped and joined by continuous laser beam welding and, in the weld line 31 of the joined joint 30, the welding of a stop part 32 which is a nonlinear shape and imparted an extent in the width direction of the weld line 31 is performed in the end part 31a of the weld line.例文帳に追加

金属板２１，２２同士を重ね合わせた接合部分を、連続したレーザ溶接によって接合したものであって、レーザ溶接による溶接線３１は、その溶接端部３１ａに、非直線形状で当該溶接線３１の幅方向に広がりをもたせた止め部３２の溶接が行われた接合継手３０。 - 特許庁

In this case, at least one scanning line 7 is prevented from being overlapped with a joint by making an interval between scanning lines 7 of the detection wave, that is, a distance d2 between the mostfront scanning line and the tailing scanning line or an interval d1 between the adjacent scanning lines 7 longer than width d0 of the joint of the road in the vehicle traveling direction.例文帳に追加

その際、検知波の走査線７の間隔を、最前方の走査線から最後方の走査線までの距離ｄ２、あるいは隣り合う走査線７間の間隔ｄ１を、道路の継目の車両進行方向の幅ｄ０よりも長くすることによって、少なくとも１本の走査線７は継目にかからないようにする。 - 特許庁

A width of the block of fish generally becomes narrow towards a tail side, and a thickness decreases, and so that an end line 22 corresponding to the cutting line 21 on the tail side is formed approximately parallel to the cutting line 21, such that a part on the tail side is to be the same size, thickness and weight as the other parts when the sashimi is cut.例文帳に追加

柵は一般的に尻尾側にかけて幅が狭くなり、厚みも薄くなっているので、刺身を切った場合に尻尾側の部分が他の部分を同じ大きさ、厚みや重さとなるように、尻尾側の切込み線２１に対応した到達線２２を該切込み線２１と略平行に尻尾側に形成する。 - 特許庁

Furthermore, the padding image 15c is subjected to thinning processing to find a thinned image 15d in which the line width of the line element is one pixel, and a branch point of the line element of the irregular linear pattern is detected by collating a plurality of preregistered branch patterns 30 with the thinned image 15d.例文帳に追加

更に穴埋め画像１５ｃに対して細線化処理を行って前記線要素の線幅が１画素の細線化画像１５ｄを求め、この細線化画像１５ｄに対して予め登録されている複数の分岐パターン３０を照合することにより不規則線状パターンの線要素の分岐点を検出する。 - 特許庁

A liquid crystal device 100 has a side light shield layer 7a perpendicular to a support substrate 10d, formed along both width-directional ends of a lattice-shaped non-display area 100c where a scan line 3a, a capacitance line 5b, a data line 6a and a field effect transistor 30 are formed on the support substrate 10d.例文帳に追加

液晶装置１００では、支持基板１０ｄにおいて、走査線３ａ、容量線５ｂ、データ線６ａおよび電界効果型トランジスタ３０が形成されている格子状の非表示領域１００ｃの幅方向の両端部に沿って、支持基板１０ｄに対して垂直な側部遮光層７ａが形成されている。 - 特許庁

Each word line 10 constitutes a gate electrode at each memory element, a lower portion of a side surface of each word line 10 in a direction parallel to a direction where the word line 10 extends is perpendicular to a main surface of the semiconductor substrate 1, and an upper portion of the side surface tilts decreasing upward in width.例文帳に追加

各ワード線１０は、各メモリ素子においてゲート電極を構成し、各ワード線１０における該ワード線１０が延伸する方向に平行な方向の側面の下部は半導体基板１の主面に対して垂直であり、側面の上部は上方に向かうほど幅が小さくなるように傾斜している。 - 特許庁

A disappearance point on an image taken during stopping of the vehicle is detected, an image of a predetermined width along the line (line image) is extracted from a plurality of frames of the image taken during stopping of the vehicle, and a plurality of extracted line images are arranged in parallel to generate a space-time image.例文帳に追加

また、自車両の停車中に撮像した画像上の消失点を検出するとともに、自車両の停車中に撮像した画像の複数の撮影コマから前記ラインに沿った所定幅の画像（ライン画像）を抽出し、抽出した複数のライン画像を並列に並べて時空間画像を生成する。 - 特許庁

To secure a sufficient amount of light for a part close to a cutoff line in a low-beam light distribution pattern and enhance a faraway visibility even if a reflector is small across its width, in a head light for a car configured to effect a low-beam irradiation in a light distribution pattern having a horizontal cutoff line and an oblique cutoff line.例文帳に追加

水平カットオフラインおよび斜めカットオフラインを有する配光パターンでロービーム照射を行うように構成された車両用前照灯において、たとえそのリフレクタの左右幅が小さい場合であってもロービーム配光パターンにおけるカットオフライン近傍部分の光量を十分に確保して遠方視認性を高める。 - 特許庁

A belt line inner reinforcement 20 is arranged along a belt line of a front side door 10, and a coupling part of a front portion 20A of the belt line inner reinforcement 20 with a hinge side panel 30 forming a front portion 20D of the front side door 10 is fixed by two coupling parts P1, P2 offset in the longitudinal direction and the width direction of the door.例文帳に追加

ベルトラインインナリインフォースメント２０がフロントサイドドア１０のベルトラインに沿って配設されており、ベルトラインインナリインフォースメント２０の前部２０Ａと、フロントサイドドア１０の前部１０Ｄとなるヒンジサイドパネル３０との結合部が、ドア前後方向及びドア幅方向にオフセットした２箇所の結合部Ｐ１、Ｐ２で固定されている。 - 特許庁

To provide an image writing device which operates in the way that a light-emitting element array is driven by variably controlling lighting time while processing image data corresponding a single line across a single main scan line through each light-emitting array unit, and thus, a printing density across a single line width can be increased/decreased to improve a single dot printing rate.例文帳に追加

主走査１ライン間に１ライン分の画像データを各発光素子アレイユニットにデータ処理しながら、点灯時間を可変制御させて、発光素子アレイを駆動させることにより、１ライン間幅に対し印字密度が増減可能になり、１ドット印字率を改善させた画像書込装置を提供する。 - 特許庁

The printing apparatus prints a reference line which indicates the opposite end edges of the maximum printing region of a thermal head heating element based on the width information of a label piece, thereby the reference line to be printed after the correction of the printing position deviation is controlled to be printed on a position not being overlapped with the previous reference line on the same label piece.例文帳に追加

本発明に係る印字装置は、ラベル片の幅情報に基づくサーマルヘッドの発熱体の印字最大領域の両端縁を示す基準線を印字し、印字位置ずれの補正処理後に印字される基準線を同一のラベル片上において前回の基準線とは重ならない位置に印字するよう制御する。 - 特許庁

A line width (W) of a contour line of each toon object is calculated by W=RNDUP(a×Eb×Db÷D) in accordance with a distance (D) from a visual point 303 to each toon object and a coefficient (a) defined depending on a status of a game.例文帳に追加

各トゥーンオブジェクトの輪郭線の線幅（Ｗ）は、視点３０３から各トゥーンオブジェクトの基準点までの距離（Ｄ）と、ゲームの状況に応じて定められる係数（ａ）とに従って、Ｗ＝ＲＮＤＵＰ（ａ×Ｅｂ×Ｄｂ÷Ｄ）と算出される。 - 特許庁

For forming a reentrant 61 in a workpiece, an end mill EM is first moved along the inside of the contour line (a) of the reentrant to finish an annular groove 62 of a width generally equal to the diameter of the end mill EM inside the contour line (a).例文帳に追加

ワークＷに凹部６１を加工する場合、まず、エンドミルＥＭを凹部６１の輪郭線ａの内側に沿って移動させ、その輪郭線ａの内側に幅がエンドミルＥＭの直径の略等しい環状溝６２を形成（仕上げ加工）する。 - 特許庁

The center of gravity G1 of the high voltage battery 31 is set offsetting in the vehicle width direction relative to the vehicle body center line C, and the offsetting direction is made the opposite direction of the offsetting direction of the electric motor 50 relative to the vehicle body center line C.例文帳に追加

高電圧バッテリ３１の重心位置Ｇ１が、車体中心線Ｃに対して車幅方向にオフセットして設定されており、そのオフセット方向を、電動モータ５０の車体中心線Ｃに対するオフセット方向と反対方向とする。 - 特許庁

To more exactly remove an area deleted by a correct line by permitting detection even in the case of one or a little inclined correct line while utilizing lateral projection, character background and circumscribed rectangle width.例文帳に追加

文字切り出し装置に関して、横方向投影、文字背景、外接矩形幅を利用することで、訂正線が１本や若干斜めの場合でも検出できるようにし、より正確に訂正線で抹消された領域を除去することを目的とする。 - 特許庁

The line memory device 100 includes a line memory macro 101 which uses serial/parallel conversion, a shift register 111 which has its capacity equal to the bit width of the data to be converted into the parallel data, a selector 109 and a control block 110 which controls the register 111 and selector 109.例文帳に追加

ラインメモリ装置１００は、シリアルパラレル変換を用いたラインメモリマクロ１０１、パラレル変換するデータのビット幅と同じ容量のシフトレジスタ１１１、セレクタ１０９、シフトレジスタ１１１とセレクタ１０９を制御する制御ブロック１１０とを備える。 - 特許庁

To provide picture processing technique capable of reproducing the color of a figure, reducing a data quantity after vector conversion, preventing the variation of a line width due to the expansion/reduction of a closed area with a frame line, improving handleability in the reuse of data.例文帳に追加

図形の色を再現でき、ベクトル変換後のデータ量をより一層低減でき、枠線付き閉領域の拡大／縮小による線幅の変化を防止でき、データ再利用時の使い勝手を向上できる画像処理技術を提供する。 - 特許庁

A difference (Hf-Hr) between the height Hf of the protector apex from a bead base line BL and the flange height Hr of the rim is 0.5 mm or more and set to a value 0.45 or less times height Hw from a bead base line BL and a carcass maximum width point.例文帳に追加

プロテクタ頂点のビードベースラインＢＬからの高さＨｆと前記リムのフランジ高さＨｒとの差（Ｈｆ−Ｈｒ）は、０．５mm以上かつ前記ビードベースラインＢＬからカーカス最大巾点までの高さＨｗの０．４５倍以下とする。 - 特許庁

A material of high resistance value such as aluminum is used as a wiring line 81 between a scan line 31 and a gate electrode of a writing transistor 23, and its wiring length is extended, or its wiring width is narrowed, thereby resistance component R is inserted.例文帳に追加

走査線３１と書込みトランジスタ２３のゲート電極との間の配線８１としてアルミニウム等の高抵抗値の材料を用い、その配線長を長くする、またはその配線幅を狭くすることで抵抗成分Ｒを介在させる。 - 特許庁