line-widthの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 3396件
To perform the temperature setting of a thermal plate not only in a short time but also properly, by presuming accurately the line-width state of a wafer which is obtained after altering the temperature setting of the thermal plate.例文帳に追加
熱板の温度設定において、温度設定変更後のウェハの線幅状態を正確に推定し、熱板の温度設定を短時間でなおかつ適正に行う。 - 特許庁
The above configuration enables temperature control depending on the warpage of the semiconductor wafer W or the actual device to uniform the line width and enables improving the yield products.例文帳に追加
これにより、半導体ウエハWの反りや実デバイスに応じた温度制御を可能にし、線幅の均一化等を図ると共に、製品歩留まりの向上を図ることができる。 - 特許庁
The overlapped portion (width dimension W1) is equally distributed into right and left such that the center line O-O is interposed in between, and the sheet package with an uniform height as a whole can be obtained.例文帳に追加
前記の重なり部(幅寸法W1)が、中央線O−Oを挟んで左右に均等に配置され、全体として均一な高さのシート包装体を得ることができる。 - 特許庁
Ultrasonic generating sources 10, 11 and 12 are arranged in the form of a row extended over the entire width of the print 1 in a shaft parallel with a rubber blanket barrel 4 and a peeling line 8.例文帳に追加
ゴムブランケット胴4とはがしライン8とに軸平行で被印刷体1の全幅にわたって延びる列の形で超音波発生源10、11、12が配置されている。 - 特許庁
To provide a wafer with productivity improved by remarkably increasing the lifting rate of an ingot and usable even for a high integrated circuit device process necessary for fine line width.例文帳に追加
インゴットの引上げ速度を大きく増加させてその生産性を向上できる、微細な線幅の高集積デバイス工程にも使用可能なウェーハを提供すること。 - 特許庁
To provide a thermal activation device capable of suppressing the conveyance of a seat material in a meandering manner when a heat-sensitive adhesive layer is asymmetrically thermal-activated with respect to the center line in the width direction of the seat material.例文帳に追加
シート材の幅方向の中心線に対して感熱性粘着層を非対称に熱活性化する際に、シート材が斜行して搬送されることを抑制する。 - 特許庁
To provide a scanning aligner and method that can analyze a cause where exposure line width fluctuates as quickly as possible, a controlling method and device, and a device-manufacturing method.例文帳に追加
露光線幅がばらつく原因の解析をいち早く行えるようにした走査露光装置及び方法、管理装置及び方法、ならびにデバイス製造方法を提供する。 - 特許庁
An opening 111 is formed so that the end 111a on the vehicle back side of opening 111 is positioned on a (virtual) reference line Lw extending in the vehicle width direction.例文帳に追加
開口部111の車両後方側の端部111aが車両幅方向に延びる(仮想の)基準線Lw上に位置するように開口部111を形成する。 - 特許庁
The translucent antenna comprises a conductive layer of an arbitrary geometrical pattern, e.g. a lattice pattern having line width of 2-40 μm, formed on a transparent substrate.例文帳に追加
透光性のアンテナであって、透明基板上に、線幅2〜40μmの格子状等、任意の幾何学模様パターンからなる導電層を形成したことを特徴としている。 - 特許庁
Also, metallic vapor from a filler wire 16 is likely to be diffused in the direction orthogonal to the planned welding line R, with the expansion of the width of the weld zone 21 encouraged.例文帳に追加
また、フィラーワイヤ16からの金属蒸気が溶接予定線Rと直交する方向に拡散し易くなり、溶接部21の幅の拡張が助長される。 - 特許庁
Furthermore, for each time when a button on an operating part is pressed, the X coordinate of the starting point and the X coordinate of the ending point in the vehicle width line are updated by predetermined step amounts which are different from each other.例文帳に追加
また、操作部上のボタン押下の度に、車幅線の始点のX座標と終点のX座標をそれぞれ異なる所定のステップ量ずつ更新する。 - 特許庁
This polishing material is constituted by an inorganic particle powder capable of satisfying a specific maximum particle diameter, a specified average particle diameter, a specified indefinite index of the particle and specified Moh's hardness according to the width of the scribe line.例文帳に追加
スクライブライン幅に応じて、特定の最大粒子径、平均粒子径、粒子の不定形指数、及びモース硬度を満足する無機粒子粉体からなる。 - 特許庁
The result from a calculation means for calculating a difference with an indicative value assigned on the basis of the implementation result of each apparatus is converted into a value of line-width variation and generated as an output.例文帳に追加
また、各装置自身が実際の実行結果を基に指定された指示値との差分を算出する手段からの結果を、線幅変動の値に換算して出力する。 - 特許庁
To provide a material pattern formation method by an ink-jet method for giving a rectangular material pattern with good control performance of fine line width.例文帳に追加
本発明の目的は、微細な線幅制御性の良い矩形な材料パターンが得られるインクジェット方式による材料パターン形成方法を提供することにある。 - 特許庁
Based on the attribute data of the connection link at junction such as width, road widths from the center line of the connection link at junction to the left and right ends are specified respectively (S13).例文帳に追加
各交差点接続リンクの幅員等の属性データに基づいて、交差点接続リンクの中央線から左右端までの道幅を各々特定する(S13)。 - 特許庁
Besides, a signal line 83 is printed and formed so that the width can be ≥2mm and a length connecting the GND and a GND side signal output terminal 76 can be within 5 mm.例文帳に追加
また、信号ライン83は幅2mm以上で、且つGNDとGND側信号出力端76を結ぶ長さが5mm以内になるようにプリント形成する。 - 特許庁
The allocation style (font, size, layout, spacing, etc.), and M2 (line width, color, etc.), regarding the character string 01 and figure 02 are already displayed at the points Q2 and Q4.例文帳に追加
点Q2,Q4の位置には、文字列O1,図形O2に関する割付態様M1(文字の書体、サイズ、組方、送りなど),M2(線幅,色など)が既に表示されている。 - 特許庁
To provide an exposure device achieving 4 μm line width by exposure transfer using a proximity exposure device, and to provide a method of manufacturing a substrate, and a mask.例文帳に追加
近接露光装置を用いた露光転写によって、4μmレベルの線幅の精細化を達成可能な露光装置及び基板の製造方法ならびにマスクを提供する。 - 特許庁
To provide a printed circuit board for not occupying many wiring areas even when a line width is increased in order to reduce signal attenuation in high-speed signal transmission.例文帳に追加
高速信号伝送における信号の減衰を低減するために配線幅を太くしても多くの配線領域を占有することのないプリント配線板を実現する。 - 特許庁
To obtain a transfer sheet for forming wiring board that is excellent in chemical resistance, dimensional stability, and transfer stability for circuits, particularly, those containing minute wiring of ≤50 μm in line width.例文帳に追加
耐薬品性と寸法安定性に優れ、特に線幅が50μm以下の微細配線を含む回路の転写安定性に優れた配線基板用転写シートを得ること。 - 特許庁
The second rib 30a is placed roughly matching the center line in the lateral width of the packing 21 and its tip end compresses the packing 21 in its assembled condition.例文帳に追加
第2のリブ30aは、パッキン21の横幅の略中央線に対応するように配置され、組み立て状態において、その先端によりパッキン21を圧縮する。 - 特許庁
A concave and convex part 11 continuously repeating concaves and convexes around a whole periphery is formed at a given width W1 in an axis line O direction at an outer periphery face of a dial knob 10.例文帳に追加
ダイアルノブ10の外周面には、全周にわたって連続的に凹凸を繰り返す凹凸部11が軸線O方向に所定の幅W1で形成されている。 - 特許庁
To provide a coloring photosensitive resin composition useful for a color filter which is excellent in terms of line width sensitivity and linearity and can form patterns with suppressed generation of wrinkles after heating.例文帳に追加
線幅感度、直線性に優れ、加熱後のしわ発生が抑制されたパターンを形成しうる、カラーフィルタに有用な着色感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁
The drive current generation circuit 42 controls the amount of current flowing through the transmission line 51 in accordance with a gray scale value of video data based on RGB pulse width modulation signals.例文帳に追加
駆動電流生成回路42は、RGBのパルス幅変調信号に基づいて、伝送ライン51に流れる電流量を画素の階調値に応じて制御する。 - 特許庁
A plurality of cells 13 for detecting a partial pressure X (i, j) defined by a line in a width direction and a row in a forward/rearward direction of a seating surface of the seat 12 arranged.例文帳に追加
シート12の着座面の幅方向の行及び前後方向の列によって規定される部分圧力X(i,j)を検出する複数のセル13が配設されている。 - 特許庁
Accordingly, without having to change the line width of the stripe part S1 of each light-shielding pattern, energy quantity contributing resist resolution in each light-shielding pattern can be balanced.例文帳に追加
これにより、各遮光パターンのストライプ部S1の線幅を変えることなく、各遮光パターンにおけるレジスト解像に寄与するエネルギー量をバランスさせることができる。 - 特許庁
To provide an image forming apparatus which can perform a multiple exposure with a plurality of light beams related to pulse width modulation without deteriorating the image quality of a line image and a character image.例文帳に追加
ライン画像や文字画像の画質の低下を招くことなく、パルス幅変調に係る複数の光ビームで多重露光を行える画像形成装置を提供する。 - 特許庁
To prevent a sheet from being hung down between vacuum suction wheels arranged in line and to prevent deformation of wave-form from being developed in a width direction of the sheet in a paper discharge device of a sheet printing machine.例文帳に追加
枚葉印刷機の排紙装置において、並列する真空吸引車間でシートが垂れ下がり、シート幅方向において波形状の変形ができるのを防ぐ。 - 特許庁
This structure provides full overlap between a storage node contact and an active region, resolves an overlay problem in an etching process, and increases an etching line width of a storage node.例文帳に追加
格納電極コンタクトと活性領域との間のフルオーバーラップを提供し、食刻工程でのオーバーレイ問題を解消し、格納電極の食刻線幅を増加させる。 - 特許庁
A selvage cutting device 50 which cuts a selvage part 82a of the film 82 and machines the film 82 at a predetermined width is disposed at the downstream side of a tenter type drying device of a film manufacturing line.例文帳に追加
フイルム製造ラインのテンタ式乾燥装置の下流側に、フイルム82の耳部82aを切断して、フイルム82を所定幅に加工する耳切装置50を配置する。 - 特許庁
A plurality of the subfields of the mask 20 are multiplex-exposed on a substrate, and line width 8 of the detailed patterns which are overlapped and transferred on the substrate by multiplex exposure is measured.例文帳に追加
マスク20の複数のサブフィールドそれぞれを基板に多重露光し、多重露光により重なり合って基板に転写された微細パターンの線幅8を測定する。 - 特許庁
To prevent transfer failure, which occurs in the vicinity of the last transfer stage where the channel width of a horizontal CCD transfer line becomes narrower, and to provide a solid-state imaging apparatus with high reliability.例文帳に追加
水平CCD転送路のチャネル幅の狭くなる転送最終段付近における転送不良を防止し、信頼性の高い固体撮像装置を提供する。 - 特許庁
Because of that, a searching range to find out corresponding points within the length of a local area with prescribed width is limited to both sides centering on the joining border line (S111).例文帳に追加
そのため、接合境界線を中心とする両側に、一定幅の局所領域の長さ以下に対応点を見い出す探索範囲を限定する(S111)。 - 特許庁
SYSTEM AND METHOD FOR IMPROVING LINE WIDTH CONTROL FOR LITHOGRAPHY APPARATUS BY CHANGING ANGULAR DISTRIBUTION OF LIGHTING APPARATUS AS FUNCTION OF LIGHTING POSITION例文帳に追加
照明装置における光の角分布を照明野位置の関数として変化させることによって、リソグラフィ装置における線幅のコントロールを改善するシステムおよび方法 - 特許庁
To prevent a sheet material from skewing and being conveyed when thermally activating a heat sensitive adhesive layer unsymmetrically relative to a central line in the direction of width of the sheet material.例文帳に追加
シート材の幅方向の中心線に対して感熱性粘着層を非対称に熱活性化する際に、シート材が斜行して搬送されることを防止する。 - 特許庁
To provide a method, apparatus and system for treating a substrate, which contribute to improvement of uniformity of line width even in environment in which impurities of molecule level are present.例文帳に追加
分子レベルの不純物が存在する環境下であっても、線幅の均一性向上に寄与する基板処理方法、基板処理装置及び処理システムを提供すること。 - 特許庁
A lid sheet 32 to seal the top opening has a structure to be preferentially cut along a line L1 to be cut to form an opening with a predetermined width.例文帳に追加
頂部開口16をシールする蓋シート32は、一定幅の開口を形成するように切断予定線L1に沿って優先的に切断される構造を有する。 - 特許庁
To provide a graphic plotting method and a graphic plotting device capable of easily calculating pixel coordinates to be plotted and fast plotting a circle with a desired thick line width.例文帳に追加
描画するピクセル座標の算出が容易で、所望の太線幅の円を高速に描画することが可能な図形描画方法および図形描画装置を提供する。 - 特許庁
The lower electrode is formed into a wiring pattern, the line width of which changes periodically so as to become wide in a pixel portion, and narrow between pixels and in a leading portion.例文帳に追加
下部電極は、画素の部分では広幅で画素間及び引出し部分では狭幅となるように線幅が周期的に広狭変化する配線パターンである。 - 特許庁
When the steel cord group 4 passes through the static magnetic field, the magnetic line penetrates the steel cord group 4 in the width direction to demagnetize each steel cord 2 of the steel cord group 4.例文帳に追加
この静磁場をスチールコード群4が通過するときに、磁力線がスチールコード群4を幅方向に貫くようになり、スチールコード群4の各スチールコード2が脱磁される。 - 特許庁
A carcass 6 has a carcass maximum width point M wherein a center line of thickness is the outermost in the tire axial direction positioned within the height of the reinforcing rib 9 in a tire radial direction.例文帳に追加
カーカス6は、その厚さの中心線がタイヤ軸方向に最外側となるカーカス最大巾点Mを、補強リブ9のタイヤ半径方向の高さ位置内に有する。 - 特許庁
To provide a back junction solar cell which can have a collecting electrode layer formed with a fine line width while suppressing damage to a semiconductor layer and a semiconductor substrate.例文帳に追加
半導体層及び半導体基板が受けるダメージを抑制しつつ、収集電極層を微細な線幅で形成できる裏面接合型の太陽電池を提供する。 - 特許庁
The opening shape of the resonator 9 to the tread of the tread part is substantially line-symmetric to at least one of the tire circumferential direction C and the tire width direction W.例文帳に追加
共鳴器9のトレッド部踏面への開口形状が、タイヤ周方向C及びタイヤ幅方向Wの少なくとも一方に関して実質的に線対称である。 - 特許庁
By visually recognizing the marker display surface 11, the occupant can recognize the end in the width direction of the own vehicle and further can image an extension line at the front side of the end.例文帳に追加
乗員はマーカー表示面11を視認することにより、自車両の幅方向の端部を把握し、さらにその端部の前方側の延長線をイメージすることができる。 - 特許庁
The fuse element 3 consists of two portion 33 and 32 having different line width and thickness wherein the boundary surface 33 of both portions has an area smaller than the cross-sectional area of both portions.例文帳に追加
ヒューズ素子3を、線幅と厚さが異なる二つの部分33,32からなり、両部分の境界面33の面積が両部分の断面積より小さいものとする。 - 特許庁
A dielectric substrate 15 composing of a fin line F with the width of electrodes 16 and 16 gradually reduced toward the said top aperture is inserted into the waveguide 10.例文帳に追加
導波管10の内部に、前記先端開口部に向かって、その電極16,16の幅が漸次小さくなるフィンラインFを構成する誘電体基板15を挿設する。 - 特許庁
Since the chip 13 is not restricted by the interval S between the lenses 16 and 17, the width of the board 11 can be expanded and a microstrip line can be constituted favorably.例文帳に追加
レンズ16,17間の間隔Sの制約を受けないため、周辺回路基板11の基板幅を広くすることができ、マイクロストリップラインを良好に構成できる。 - 特許庁
To provide a distributed feedback type semiconductor laser with a resonator length of 500μm or more, high single mode yield, and narrow spectrum line width even under a high output.例文帳に追加
共振器長が500μm以上で、高い単一モード歩留まりを有し、且つ、高出力下でも狭いスペクトル線幅を有する分布帰還型半導体レーザを提供する。 - 特許庁
To provide a polyvinyl alcohol film having low birefringence and responsive to a greater width and a larger length without a die line and to provide a polarizing film having excellent polarizing characteristics.例文帳に追加
ダイラインがなく、かつ複屈折率の低い、幅広化や長尺化に対応したポリビニルアルコール系フィルム、および偏光特性に優れた偏光膜を提供する。 - 特許庁
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