「oxygen 16」に関連した英語例文の一覧と使い方(6ページ目) - Weblio英語例文検索

An ultraviolet irradiating process is performed on surfaces acting as positive electrodes of transparent electrodes 14, 16 sandwiched between organic layers 13 and 15 and between the organic layers 15 and 17 under a pressure of 10-10,000 Pa while introducing an at least oxygen-containing gas into an atmosphere.例文帳に追加

有機層１３と１５の間、有機層１５と１７の間に挟まれる透明電極１４、１６の陽極となる面に対して、１０Ｐａ〜１００００Ｐａの圧力下で、少なくとも酸素を含む気体を雰囲気中に導入しながら、紫外線照射処理を行う。 - 特許庁

The gaseous fuel 30 is led into a positive electrode side 16, and reacts with the oxygen ion transported through a ceramic film 12 for heat generation, and generates the heat, electricity and a positive electrode side flow of the mixture of the combustion product and the gaseous fuel, namely the mixture of the gaseous fuel/ combustion product.例文帳に追加

ガス状燃料３０が第１の陽極側１６に導入され、セラミック膜１２を通して輸送された酸素イオンと発熱反応し、熱と電気と、燃焼生成物とガス状燃料との混合物である陽極側流れ、即ち、ガス状燃料／燃焼生成物の混合物６８とを発生する。 - 特許庁

A mask oxide film 19 is partially formed on the surface of a substrate 12 which has been composed of silicon monocrystal, oxygen ions 16 are implanted on the substrate surface via the mask oxide film 19, and then this substrate is annealed to form an embedded oxide film 13 in the inside of the substrate.例文帳に追加

シリコン単結晶からなる基板１２の表面に部分的にマスク酸化膜１９を形成した後に、マスク酸化膜１９を介して基板の表面に酸素イオン１６を注入し、更にこの基板をアニール処理して基板の内部に埋込み酸化膜１３を形成する。 - 特許庁

A nozzle 16 for infusing the shielding gas is inserted into the piping 12 from a hole drilled in the groove abutting part in the butt welding zone of the piping 12, with the shielding gas 18 infused into space 14 inside the piping to lower the oxygen concentration, to prevent oxidation in the welding back bead on the piping inner face at the time of the welding.例文帳に追加

配管１２の突合せ溶接部の開先合わせ部に開けた穴よりシールドガス注入用ノズル１６を配管１２内に挿入して溶接用シールドガス１８を配管内空間１４へ注入して酸素濃度を低下させ配管溶接時の配管内面溶接裏波部の酸化防止を図る。 - 特許庁

The incineration device 1A includes the rotary kiln 11, a stoker 13, an afterburning chamber 16, a mixing gas flow passage 34 connected to a front part 11a of the rotary kiln 11, an exhaust gas fan 23 or 24, a forced draft fan 21, and an oxygen concentration control means 81.例文帳に追加

焼却装置１Ａは、ロータリーキルン１１、ストーカ１３、再燃焼室１６、ロータリーキルン１１の前部１１ａに接続された混合ガス流路３４、排ガスファン２３又は２４、押込ファン２１、酸素濃度制御手段８１を具備する。 - 特許庁

The synthetic quartz crucible is used with synthetic quartz glass grain originating from an alkali metal silicate, the velocity of dissolution of oxygen is ≤6×10^16 atm/cm^2/sec measured under conditions of using 1 g silicon, at 1,450°C, at 2.7 kPa, for 5 hr.例文帳に追加

アルカリ金属珪酸塩由来の合成石英ガラス粒子を使用した合成石英ルツボであって、１ｇのシリコンを使用し、１４５０℃、２．７ｋＰａ、５時間の条件下で測定した酸素溶解速度が７．６×１０^16ａｔｏｍ／ｃｍ^2／ｓｅｃ以下である。 - 特許庁

In this device, a first NOX absorbent 17 which absorbs NOX when the air-fuel ratio of an inflow exhaust is lean and discharges absorbed NOX when an oxygen content of the inflow exhaust becomes low is carried on a particulate filter 16 which is placed in a branch portion 15 of an exhaust manifold 14.例文帳に追加

流入する排気の空燃比がリーンのときにＮＯ_X を吸収し、流入する排気中の酸素濃度が低下すると吸収しているＮＯ_X を放出する第１のＮＯ_X 吸収剤１７を排気マニホルド１４の分岐部１５内に配置されたパティキュレートフィルタ１６上に担持させる。 - 特許庁

Further, since the third layer 16 comprising the mixed transmission body as the first layer 12 provided on a reduction side is provided on an oxidation side in the same thickness dimension, even when the oxygen separation membrane 10 is exposed to a high temperature at usage or the like, difference of the thermal expansion amount on both surfaces is not generated.例文帳に追加

しかも、還元側に設けられた第１層１２と同一の混合伝導体から成る第３層１６が酸化側にも同一の厚さ寸法で設けられていることから、使用時等において酸素分離膜１０が高温に曝された場合にも、その両面における熱膨張量の相違が生じない。 - 特許庁

An ozone generator 13 for converting oxygen to ozone is held to the holding part 15 provided in the upper part of the mixing block 14 of a mixing part 12 and a mixing flow channel 18 to which a supply water pipe 16 and a discharge water pipe 17 are connected is formed in the lower part of the mixing block 14.例文帳に追加

混合部１２の混合ブロック１４の上部に内設された保持部１５には、酸素をオゾンに変化させるオゾン発生体１３が保持されており、混合ブロック１４の下部には、供給側水管１６と排出側水管１７とが結合される混合流路１８が設けられている。 - 特許庁

A lead frame 10 included in an oxygen sensor as the metal terminal includes a frame body 12, a folded part 14 which is formed by folding one end side of the frame body 12, and a wave-like part 16 formed on the folded part 14 side of the frame body 12.例文帳に追加

酸素センサに金属端子として備えられるリードフレーム１０は、フレーム本体１２と、フレーム本体１２の一端側が折り曲げられて形成された折曲部１４と、フレーム本体１２の折曲部１４側に形成された波状部分１６とを備える。 - 特許庁

The wafer is an independently circular wafer of a hexagonal system doped with oxygen in a concentration of 10^16 cm^-3-10^20 cm^-3, far more transparent than a gallium nitride with the plane direction {0001}.例文帳に追加

１０^１６ｃｍ^−３〜１０^２０ｃｍ^−３の濃度で酸素ドープされた六方晶系で｛０００１｝面方位の窒化ガリウム単結晶よりなり透明であって独立した円形のウエハであって表面側と裏面側から外周部を５゜〜３０゜の傾斜角でＣ面取りしたり、０．１〜０．５ｍｍの半径のＲ面取りをする。 - 特許庁

Air in a housing 16 for forming a chilled chamber 8 is exhausted from an air exhaust hole 17 out of a refrigerator body through a first exhaust tube 18 and a second exhaust tube 19 by driving a vacuum pump 4 based on the output of an oxygen sensor 26.例文帳に追加

チルド室８を形成する筐体１６内の空気を、酸素センサ２６の出力に基づいて真空ポンプ４を駆動させて空気排出孔１７から第１の排出管１８、第２の排出管１９を通じて冷蔵庫本体５の外部に排出する。 - 特許庁

After a mask oxide film 19 is formed partially on the surface of a silicon substrate 12, oxygen ions 16 are injected onto the surface of a substrate via the mask oxide film, and the substrate is annealed, to form the embedded oxide film 13 in the inside of the substrate.例文帳に追加

シリコン基板１２の表面に部分的にマスク酸化膜１９を形成した後に、このマスク酸化膜を介して基板の表面に酸素イオン１６を注入し、更にこの基板をアニール処理して基板の内部に埋込み酸化膜１３を形成する。 - 特許庁

In the curing stage, the ultraviolet-curing type adhesive layer 16 is cured in an environment, where oxygen concentration is 10% or lower and makes the ultraviolet-curing type wafer protective tape 12 easy to peel off a chip 20, where a portion of the ultraviolet-curing type adhesive layer 16 is prevented from being left at an end, or the like, of the chip 20.例文帳に追加

硬化工程において、酸素濃度が１０％以下の環境で紫外線硬化型粘着剤層１６を硬化させることにより、紫外線硬化型ウエハ保護テープ１２をチップ２０から容易に剥離可能とし、さらにチップ２０の端部等に紫外線硬化型粘着剤層１６の一部が残留することを防止する。 - 特許庁

A photocatalyst layer 16 to be photoactivated by the wavelength of a laser beam L for reproducing and recording information is formed on the surface of the optical disk 10 on which the laser beam L is made incident and the photocatalyst layer 16 consists of a substance formed by substituting nitrogen atoms N for a portion of oxygen atoms O of titanium oxide TiO_2.例文帳に追加

情報の再生又は記録のためのレーザ光Ｌを入射させる側の表面に、このレーザ光Ｌの波長で光活性となる光触媒層１６が形成され、この光触媒層１６が酸化チタンＴｉＯ_2 の酸素原子Ｏの一部を窒素原子Ｎで置換した物質から成る光ディスク１０を構成する。 - 特許庁

Since many projections 24 of a uniform size are regularly arranged along two directions at fixed center intervals on at least one of the surface 14 and back surface 16 of an oxygen separating membrane 12, the surface area of the surface 14 or the back surface 16 provided with them is remarkably increased compared to the case of providing the projections of irregular sizes and arraying directions.例文帳に追加

酸素分離膜１２の表面１４および裏面１６の少なくとも一方には、一様な大きさの多数の突起２４が一定の中心間隔で２方向に沿って規則的に並ぶことから、これが設けられた表面１４或いは裏面１６の表面積は、大きさや配列方向の不規則な突起が設けられる場合に比較して著しく大きくなる。 - 特許庁

The electrode films 16, 17 in a preceding process are baked in the optimum condition since a burning condition for the glass film 18 of the oxygen diffusion limiting body 19 formed in a followed process is optimized taking a melting point of bismuth oxide 25 contained in the electrode films 16, 17 formed in the preceding process, and durability reliability resulting from dissolution thereof into account.例文帳に追加

後工程で形成する酸素拡散制限体１９の硝子膜１８の焼成条件を、前工程で形成する電極膜１６、１７に含有される酸化ビスマス２５の融点とその溶解に起因する耐久信頼性を考慮して最適化しているので、前工程の電極膜１６、１７は最適条件で焼成される。 - 特許庁

The refining apparatus 10 for metallic silicon is provided with a plasma torch 16 for jetting a plasma jet on the molten metal 34 of metallic silicon, a base tube 26 and a feed tube 30 for feeding gaseous argon to the plasma torch 16, and a reaction gas feed tube 32 for adding prescribed amounts of gaseous oxygen and gaseous ammonia to the feed tube 30.例文帳に追加

また、本発明に係る金属シリコンの精製装置１０は、金属シリコンの溶湯３４にプラズマジェットを噴射するためのプラズマトーチ１６と、プラズマトーチ１６にアルゴンガスを供給するための基管２６及び供給管３０と、供給管３０に所定量の酸素ガス及びアンモニアガスを添加するための反応ガス供給管３２とを備えている。 - 特許庁

The oxygen sensor is provided with main metal fittings 12, a first outer cylinder 13, a second outer cylinder 14 and the separator 16 installed in the second outer cylinder 16.例文帳に追加

本酸素センサは、主体金具１２、第１外筒１３、第２外筒１４、第２外筒１４内に設けられるセパレータ１６とを備え、セパレータ１６の一端側は周回するようにパッキング１５を、外周面にはリブ１６１を具備しているため、第２外筒内１４のセパレータ１６に熱が伝わりにくいために高温になりにくい。 - 特許庁

The thermotherapy device 1 is provided with a plurality of heating parts 12 in a flexible belt body 11, and the heating part 12 includes a bag-shaped storage part 15 formed between a base material sheet 13 constituting the flexible belt body 11 and an oxygen transmission sheet 14, and an oxidation heating type heating composition 16 filling the storage part 15.例文帳に追加

温熱治療用具1は、可撓性帯状体11に、複数の発熱部12を備え、発熱部12が、可撓性帯状体11を構成する基材シート13と酸素透過性シート14との間に形成された袋状の収容部15と、収容部15に充填された酸化発熱型の発熱組成物16とを含んで構成され、収容部15における発熱組成物16の充填割合Ｒが、下記（１）式を満足するとともに０．７未満であり、収容部15内の発熱組成物16の発熱量が、収容部の平面視面積当たり０．２６ｋｃａｌ／ｃｍ^2以上である。 - 特許庁

The semiconductor laminated structure including impurities 16, where a group III-V compound crystal layer 17 is one or a plurality of Fe (iron), Cr (chromium), Mn (manganese), V (vanadium), C (carbon), O (oxygen) or B (boron).例文帳に追加

Ｓｉ基板１１の上方にエピタキシ成長によって設置されたIII−Ｖ族化合物結晶層１７が、Ｆｅ（鉄）あるいはＣｒ（クロム）あるいはＭｎ（マンガン）あるいはＶ（バナジウム）あるいはＣ（炭素）あるいはＯ（酸素）あるいはＢ（ホウ素）のうちの一つあるいはその複数である不純物１６を含む半導体積層構造とする。 - 特許庁

The polymer electrolyte fuel cell 10 comprises a solid polymer electrolyte film 12 having an acidic water solution layer 30 containing acidic water solution 32 having proton conductivity in an electrolyte having proton conductivity, and a hydrogen electrode 14 and an oxygen electrode 16 arranged on both surfaces of the solid polymer electrolyte film 12, containing metallic catalyst.例文帳に追加

プロトン伝導性を有する電解質中にプロトン伝導性を有する酸性水溶液３２からなる酸性水溶液層３０を有する固体高分子電解質膜１２と、固体高分子電解質膜１２の両面にそれぞれ配置され、且つ、金属触媒を含有する水素電極１４及び酸素電極１６と、を備えた固体高分子型燃料電池１０。 - 特許庁

A waste water treatment apparatus includes an oxygen-free tank 12 for removing an organic matter, a nitrous acid formation tank 14 for forming nitrous acid, an anaerobic ammonia oxidizing tank 16 for anaerobically denitrifying from nitrous acid and ammonia, and a nitrification tank 18 for oxidizing ammonia remaining in treated water in the anaerobic ammonia oxidizing tank.例文帳に追加

有機物を除去する無酸素槽１２と、亜硝酸を生成させる亜硝酸生成槽１４と、亜硝酸とアンモニアから嫌気的に脱窒させる嫌気性アンモニア酸化槽１６と、嫌気性アンモニア酸化槽の処理液中に残存するアンモニアを酸化させる硝化槽１８とよりなる廃水処理装置。 - 特許庁

This gas sensor 10 to be provided is equipped with the gas diffusion rate determining section 14, carrying a catalyst for accelerating a reaction between a combustible component and oxygen, a solid electrolyte 18 having oxide ion conductivity, and electrodes 16, 21 formed on positions facing to both the surfaces of the solid electrolyte 18.例文帳に追加

本発明によって提供されるガスセンサ１０は、可燃性成分と酸素の反応を促進する触媒を担持しているガス拡散律速体１４と、酸化物イオン導電性を有する固体電解質１８と、その固体電解質１８の両面に向かい合う位置に形成されている電極１６，２１を備えている。 - 特許庁

This deodorizing device is characterized in having a first filter 12 formed by carrying catalyst 10, which has oxide introducing oxygen defect and precious metal carried on the oxide, on a first permeable substrate 11 and an ozone generator 14 generating ozone 16 and making it to contact with the first filter 12.例文帳に追加

酸素欠陥が導入された酸化物及び該酸化物上に担持された貴金属を備える触媒１０を第１の通気性基材１１上に担持してなる第１のフィルタ１２と、オゾン１６を発生して前記第１のフィルタ１２に接触させるためのオゾン発生器１４と、を備えることを特徴とする脱臭装置。 - 特許庁

A damaged region 16A that includes an oxygen impurity and at least one impurity selected from a group consisting of a fluorine impurity and a carbon impurity is formed in a layer 16 that includes a base of an emitter aperture at an interface between the emitter region and the base region, thus the performance of the bipolar transistor being enhanced.例文帳に追加

エミッタ領域とベース領域の界面は、酸素不純物と、フッ素不純物および炭素不純物から成るグループから選ばれた少なくとも１つの不純物とを含む損傷領域１６Ａをエミツタ開口のベースを含む層１６に形成することにより、バイポーラ・トランジスタの性能を改善する。 - 特許庁

An epitaxial wafer 1 has an epitaxial layer 20 having a phosphorus concentration of a 10^16 atoms/cm^3 order and a film thickness of 0.5-20 μm on a silicon substrate 10 having a phosphorus concentration of a 10^19 atoms/cm^3 order and an oxygen concentration of 1.3×10^18 atoms/cm^3 or lower.例文帳に追加

本発明に係わるエピタキシャルウェーハ１は、リン濃度が１０^１９ａｔｏｍｓ／ｃｍ^３オーダーであり、酸素濃度が１．３×１０^１８ａｔｏｍｓ／ｃｍ^３以下であるシリコン基板１０上に、リン濃度が１０^１６ａｔｏｍｓ／ｃｍ^３オーダーで、膜厚が０．５〜２０μｍのエピタキシャル層２０を有することを特徴とする。 - 特許庁

A laminated body formed by laminating both surfaces of a layer of rubber including an oxygen absorber or a thermoplastic elastomer composition or a thermoplastic resin composition by an inner liner material, is used as a rubber member interposed between respective edge parts of a tire structural material such as a belt edge part 18 as an inner liner layer 16 or as tie rubber 17 and a tire inner surface (an inner liner).例文帳に追加

酸素吸収剤を含むゴムもしくは熱可塑性エラストマー組成物又は熱可塑性樹脂組成物の層の両面をインナーライナー材で積層して成る積層体をインナーライナー層１６として又はタイゴム１７としてベルトエッジ部１８などのタイヤ構造材の各エッジ部と、タイヤ内面（インナーライナー）との間に介在するゴム部材として用いた。 - 特許庁

The epitaxial wafer 1 has a silicon epitaxial layer 20 of 10^16 atoms/cm^3 order in phosphorous concentration and 0.5 to 20 μm in film thickness, on the silicon substrate 10 of 10^19 atoms/cm^3 order in phosphorous concentration and 0.8×10^18 to 1.3×10^18 atoms/cm^3 in oxygen concentration.例文帳に追加

本発明に係わるエピタキシャルウェーハ１は、リン濃度が１０^１９ａｔｏｍｓ／ｃｍ^３オーダーであり、酸素濃度が０．８×１０^１８〜１．３×１０^１８ａｔｏｍｓ／ｃｍ^３であるシリコン基板１０上に、リン濃度が１０^１６ａｔｏｍｓ／ｃｍ^３オーダーで、膜厚が０．５〜２０μｍのシリコンエピタキシャル層２０を有する。 - 特許庁

The device 1 for generating fine air bubble includes an air supplying path 12 which is connected with the middle of a water feeding path 2, feeds air through the air supplying path into water flowing through the water feeding path and mixes the air and water, wherein, in the middle of the water feeding path, an oxygen enriching vessel 13 in which a nitrogen absorbing agent 16 for selectively adsorbing nitrogen is filled is arranged.例文帳に追加

給水路２の途中に空気供給路１２が接続され、空気供給路を通じて空気を、給水路を流れる水中に送り込み、混合させる微細気泡発生装置１において、空気供給路の途中に、窒素を選択的に吸着する窒素吸着剤１６が充填された酸素富化槽１３が配設されている。 - 特許庁

This fuel cell system 1 is equipped with the fuel cell 13 to generate power by reaction of hydrogen gas and oxygen in the air, a compressor 12 to scavenge the anode pole inside by air, a passage for scavenging 23, a switching valve 15, and a purge valve 16 to discharge remaining gas in the anode pole when starting the fuel cell 13.例文帳に追加

燃料電池システム１は、水素ガスと空気中の酸素との反応により発電する燃料電池１３と、アノード極内を空気により掃気するためのコンプレッサ１２、掃気用流路２３、切替弁１５およびパージ弁１６と、燃料電池１３の起動時にアノード極内の残ガスを排出するためのパージ弁１６とを備えている。 - 特許庁

This film forming equipment 10 includes parallel plate electrodes 16, 22 provided in a reaction chamber 12, gas supply sources 20, 30 for introducing process gases containing SiH4, SiF4, and an oxygen source substance into the reaction chamber 12, valves 36, 38, 40, a gas mixing chamber 28 and a power source 44 for supplying RF power to generate plasma of the process gases.例文帳に追加

成膜装置１０は、反応チャンバ１２内に設けられた平行平板型電極１６、２２と、ＳｉＨ_4、ＳｉＦ_4および酸素ソース物質を含むプロセスガスを反応チャンバ１２内に導入するためのガス供給源２０、３２、３４、バルブ３６、３８、４０、およびガス混合室２８と、プロセスガスのプラズマを生成するためのＲＦ電力を供給する電力源４４と、を備える。 - 特許庁

The carbon monoxide sensor 10 is constituted by forming a reference electrode 15 and a detection electrode 16 for measuring carbon monoxide and at least one reference electrode 15 and a detection electrode 17 for measuring gas different from carbon monoxide, especially, sulfur dioxide on at least a part of the surface of a solid electrolyte 11 having oxygen ion conductivity.例文帳に追加

一酸化炭素センサ１０は、一酸化炭素測定用の基準極１５及び検知極１６と、少なくとも１種類以上の一酸化炭素以外の異種ガス、特に、二酸化硫黄を測定するための少なくとも１以上の基準極１５及び検知極１７とを、酸素イオン伝導性を有する固体電解質１１の表面の少なくとも一部に形成して構成される。 - 特許庁

The method includes steps of forming a lower electrode 15, of forming a Zr_xAl_yO_z dielectric film 16, which zirconium, aluminum, and oxygen are mixed, having predetermined molar fractions x, y, z respectively, on the lower electrode by an ALD method, and of forming an upper electrode 17 on the dielectric film.例文帳に追加

下部電極１５を形成するステップと、該下部電極上にＡＬＤ法でジルコニウム、アルミニウム及び酸素がそれぞれ所定のモル分率ｘ、ｙ、ｚを有して混合されたＺｒ_ｘＡｌ_ｙＯ_ｚ誘電膜１６を形成するステップと、該誘電膜上に上部電極１７を形成するステップとを含む。 - 特許庁

In this case, the blowing of nitrogen gas to a nitrogen curtain 16 at the inlet and outlet parts of the furnace 11 is stopped, the outside air is made to flow in the furnace 11 to supply the oxygen necessary for burning the liquefied material on the underside of the attachment 12 and the combustion gas in the furnace 11 is discharged by operating an evacuating apparatus to prevent the organic component from being deposited again.例文帳に追加

この際、焼成炉１１の入口部と出口部の窒素カーテン１６の窒素ガスの吹き出しを停止して、焼成炉１１内に空気を流入させ、吸排用アタッチメント１２下面の有機成分液化物が燃焼するのに必要な酸素を供給すると共に、排気装置を運転して焼成炉１１内の燃焼ガスを排出し、有機成分の再付着を防止する。 - 特許庁

At the time of stopping the hydrogen production apparatus 1, the residual gas in the apparatus 1 can be purged with a purge gas of less oxygen and moisture content without using special equipment by supplying an exhaust gas of an auxiliary combustor 3 as the purge gas 33 to a reformer 4 after stopping the supply of fuel 14, air 16 and steam 17.例文帳に追加

水素製造装置１の停止時に、燃料１４と空気１６と水蒸気１７の供給を停止した後、補助燃焼器３の排ガスをパージガス３３を改質器４に供給して水素製造装置の残留ガスをパージすることにより、酸素含有量及び水分含有量が少なく、かつ格別な装置を用いることなく、水素製造装置１の残留ガスをパージ可能にする。 - 特許庁

Oxygen ions are implanted into an internal region 16 of a semiconductor substrate 11 containing a bottom 22 of a shallow groove 15 prior to forming the shallow groove 15 in an element isolation region 18 of the semiconductor substrate 11, and annealing is performed in a non-oxidizing atmosphere such as a nitride atmosphere or a vacuum atmosphere after forming the shallow groove 15 in the semiconductor substrate 11.例文帳に追加

半導体基板１１の素子分離領域１８に浅溝１５を形成する前に、浅溝１５の底部２２を内包する半導体基板１１の内部領域１６に酸素イオンを注入し、半導体基板１１に浅溝１５を形成した後に、窒素雰囲気または真空雰囲気等の非酸化雰囲気でアニーリングを行う。 - 特許庁

Benzene is reacted with a carboxylic acid and molecular oxygen in the presence of a catalyst comprising palladium and at least one element selected from the group consisting of the groups 13, 14, 15 and 16 of the periodic table and at least one selected from the group consisting of platinum, rhodium, ruthenium and iridium as cocatalysts to produce a phenyl ester.例文帳に追加

パラジウムと助触媒として周期表の１３族、１４族、１５族、１６族からなる群から選ばれた少なくとも１種の元素と白金、ロジウム、ルテニウム、イリジウムからなる群から選ばれた少なくとも１種の元素を含む触媒の存在下に、ベンゼンとカルボン酸と分子状酸素を反応させてフェニルエステルを製造する。 - 特許庁

A control device 23 carries out at least either an operation of raising moisture concentration in the fuel cell 10 or an operation of lowering oxygen concentration in an oxidant electrode 10b, in case a fuel cell voltage detected by a fuel cell voltage detection means 15 exceeds a given value, and that, a fuel battery temperature detected by a cell temperature detection means 16 exceeds a given value.例文帳に追加

制御装置２３は、燃料電池電圧検出手段１５が検出した燃料電池電圧が所定値を超え、かつ電池温度検出手段１６が検出した燃料電池温度が所定値を超えた場合に、燃料電池１０内の水分濃度を上昇させる操作と、酸化剤極１０ｂ内の酸素濃度を低下させる操作との少なくとも一方を行う。 - 特許庁

The casket is manufactured by a first step of preparing the gasket 13 by molding rubber or resin, a second step of exposing to at least one kind of gas plasma selected from gaseous hydrogen, gaseous nitrogen, gaseous oxygen, gaseous fluorine, gaseous fluoride and inactive gas, and a third step of forming the film 16 on the exposed surface of the gasket 13 by exposing to the plasma of a gaseous hydrocarbon.例文帳に追加

また、ゴムや樹脂を成形してガスケット１３を作成する第１の工程と、水素ガス、窒素ガス、酸素ガス、フッ素ガス、及びフッ化物ガス、不活性ガスから選ばれた少なくとも一種のガスのプラズマに上記ガスケット１３を曝す第２の工程と、炭化水素ガスのプラズマに曝すことにより上記ガスケット１３の暴露面に非晶質炭素膜１６を形成する第３の工程とからなる。 - 特許庁

The membrane electrode assembly of the fuel cell is formed in such a way that a cathode catalyst layer 16, a cathode primary coat 17, and a cathode diffusion layer 18 are stacked on the cathode side of an electrolyte membrane, an oxygen gas passage 24 is installed on the outside of the cathode diffusion layer 18, and each layer and the electrolyte membrane are arranged in the gravity acting direction.例文帳に追加

燃料電池の膜電極接合体は、電解質膜のカソード側に、カソード触媒層１６、カソード下地層１７、カソード拡散層１８を積層し、カソード拡散層１８の外側に酸素ガス流路２４を設け、各々の層および電解質膜を重力の作用する方向に向けて配置するものである。 - 特許庁

The method for production of nickel paste electrode includes filling a paste containing nickel hydroxide and electroconductive cobalt auxiliary through in an electroconductive base material, then the material is dried and formed through compression poly-N vinylacetamide is added to the paste, the electrode formed with compression is immersed in an alkaline solution and then dried by heating in an atmosphere of 16 to 30 vol.% in oxygen concentration.例文帳に追加

水酸化ニッケル及びコバルト導電助剤を含有するペーストを導電性基材に充填し、乾燥後圧縮成形してなるペースト式ニッケル電極の製造方法であって、上記ペースト中にポリＮ−ビニルアセトアミドを含有させるとともに、上記圧縮成形した後、電極をアルカリ溶液中に浸漬処理し、さらに酸素濃度１６〜３０ｖｏｌ％の雰囲気下で加熱乾燥処理する。 - 特許庁

After implanting an oxygen ion 11 into a silicon wafer 12 where first a polysilicon film 17 is formed on the backside, the wafer 12 is heat-treated to form an embedded oxide film 13 inside the wafer 12, thus manufacturing a SIMOX substrate 16 by forming an SOI layer 14 on the surface of the wafer 12 on the embedded oxide film 13 and further forming an oxide film 18 on the whole surface.例文帳に追加

先ず裏面にポリシリコン膜１７を形成したシリコンウェーハ１２の内部に酸素イオン１１を注入した後に、このウェーハ１２に熱処理を施してウェーハ１２内部に埋込み酸化膜１３を形成することにより埋込み酸化膜１３上のウェーハ１２表面にＳＯＩ層１４を形成してＳＩＭＯＸ基板１６を作製し更に全面に酸化膜１８を形成する。 - 特許庁

In the cooking by the low temperature steam, the water is heated when the steam exhaust lid 20 is opened, steam is filled in the heating chamber 3, and after oxygen in the heating chamber 3 is discharged from a steam discharge passage 16, the steam exhaust lid 20 is closed, and a heating chamber 3 interior is placed in an anoxic state to carry out cooking of the cooking object C.例文帳に追加

この低温スチームの加熱調理は、蒸気排出蓋２０の開放時に水を加熱し加熱庫３内に蒸気が充満して加熱庫３内の酸素が蒸気排出路１６から放出された後に、蒸気排出蓋２０を遮断し加熱庫３内を無酸素状態にして調理物Ｃを調理する。 - 特許庁

The washing treatment tank 10 is held to a pressure reduced state (reduced up to 70 Pa in this embodiment) through an exhaust port 15, a filter 16 and an exhaust vacuum pump 17 and, in this state, the sectors 1 are washed while reaction gas G comprising a mixture of oxygen and carbon tetrafluoride is ejected from the shower electrode 12 to generate plasma.例文帳に追加

そして、前記洗浄処理槽１０内を、排気孔１５，フィルタ１６，排気真空ポンプ１７を介して減圧状態（この実施形態では、７０Ｐａまで減圧させる）にし、この状態で、前記セクター１をプロファイル面１ａに、前記シャワー電極１２から酸素と四フッ化炭素との混合体から成る反応ガスＧを噴射させながらプラズマを発生させて洗浄させる。 - 特許庁