p 3の部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 4096件
This apparatus is provided with a hopper conveyor 2 for feeding a plurality of sheets of documents P; a distribution mechanism 14 for distributing the documents P fed by this hopper conveyor 2; and a thickness sorting part 3 for receiving/conveying the documents P distributed by this distribution mechanism 14 and sorting the shapes.例文帳に追加
複数枚の書状Pを供給するホッパコンベア2と、このホッパコンベア2により供給される書状Pを分散させる分散機構14と、この分散機構14によって分散された書状Pを受けて搬送し、その形状を選別する厚さ選別部3とを具備する。 - 特許庁
A nitride semiconductor laser device has a structure where an N-type nitride semiconductor layer 2, an active layer 3, and a P-type nitride semiconductor layer 4 are successively laminated on a substrate 1, and a P- electrode 6 is formed on the P-type nitride semiconductor layer 4 through the intermediary of a current constriction insulating film 5 of SiO2.例文帳に追加
基板1上にn型窒化物半導体層2、活性層3、およびp型窒化物半導体層4が順に積層された構造を有し、このp型窒化物半導体層4上面にSiO_2よりなる電流狭窄用絶縁膜5を介して、p電極6を形成する。 - 特許庁
An electrode pattern is formed by such method that, after p-type semiconductor layers 3 and 4 are formed on a silicon substrate 1 and an n-type semiconductor layer 5 is formed on the p-type semiconductor layer, the n-type semiconductor layer is removed with a predetermined pattern by using laser abrasion so as to expose the p-type semiconductor layer.例文帳に追加
シリコン基板1上に、p型半導体層3、4を形成し、p型半導体層上に、n型半導体層5を形成した後、レーザ・アブレーションを用いて、所定のパターンで、n型半導体層を除去し、p型半導体層を露出させて、電極パターンを形成する。 - 特許庁
A gain combination DFB laser 20 is a laser of oscillation wavelength of about 1,550 nm, and comprises, on an n-InP substrate 1, an n-InP buffer layer 2, active layer 3, p-InP spacer layer 4, p-InP upper-part clad layer 6, and p-GaInAs contact layer 7.例文帳に追加
本利得結合DFBレーザ20は、発振波長約1550nmのレーザであって、n−InP基板1上に、n−InPバッファ層2、活性層3と、p−InPスペーサ層4、p−InP上部クラッド層6、及びp−GaInAsコンタクト層7の積層構造を有する。 - 特許庁
Therefore, after the delivery roller 4 contacts an upper most layer paper sheet S in a paper feed tray 3 at a prescribed position P and delivers this paper sheet S, the delivery roller can also contact a paper sheet S that becomes the top-most layer next at the prescribed position P (or a position nearest to the prescribed position P).例文帳に追加
そのため、繰り出しローラ4は、給紙トレイ3における最上層の用紙Sに対して所定位置Pで接触してこの用紙Sを繰り出した後、次に最上層となる用紙Sに対しても、所定位置P(または所定位置Pに限りなく近い位置)で接触できる。 - 特許庁
The observation device 100 includes a sample holder 8 for holding a sample P, a blade 7 for cutting the sample P and sequentially forming a new cross-section, an optical system 3 having a first objective 11 and a second objective 12, and an electronic camera 2 for capturing an image of the cross sections of the sample P.例文帳に追加
観察装置100は、サンプルPを保持するサンプルホルダー8と、サンプルPを切断し、順次新たな切断面を形成するブレード7と、第1の対物レンズ11及び第2の対物レンズ12を有する光学系3と、サンプルPの切断面を撮像する電子カメラ2とを有する。 - 特許庁
In addition, when the B ions are implanted into an undoped silicon film in a p-channel MISFET formation area so as to convert it into a p-type silicon film 9p, the concentration of B of the p-type silicon film 9p adjacent to the boundary with a gate insulating film 8 is controlled to 2×10^20 atoms/cm^3 or less.例文帳に追加
また、pチャネル型MISFET形成領域のアンドープシリコン膜にBをイオン注入してp型シリコン膜9pに変換する際、ゲート絶縁膜8との界面近傍におけるp型シリコン膜9pのB濃度を2×10^20atom/cm^3以下に制御する。 - 特許庁
The horizontal direction welding mechanism 3 includes a pair of first pinching members pinching the pallet P in the thickness direction, a pallet moving device horizontally moving the pinched pallet P, and a first welding device supplying the anti-slip material S1 to the pallet P for welding.例文帳に追加
水平方向溶着機構3は、パレットPを厚さ方向に挟持する一対の第1の挟持部材と、挟持されたパレットPを水平方向に移動させるパレット移動装置と、パレットPへ向けて滑り止め材S1を供給して溶着する第1の溶着装置と、を含む。 - 特許庁
An n-type InP clad layer 2, a GRIN-SCH-MQW active layer 3, a p-type InP spacer layer 4, a p-type InP clad layer 6 and a p-type InGaAsP contact layer 8 are sequentially laminated on an n-type InP substrate 1, and an n-type electrode 11 is disposed on the lower part of the substrate 1.例文帳に追加
n−InP基板1上に順次n−InPクラッド層2、GRIN−SCH−MQW活性層3、p−InPスペーサ層4、p−InPクラッド層6、p−InGaAsPコンタクト層8を積層し、n−InP基板1の下部にはn型電極11を配置する。 - 特許庁
When the recording paper sheets P are stacked on a stacking face 31, the delivery tray 3 opened is displaced in a direction separated from a delivery port 7 of a recording paper sheet P by a displacement amount according to an amount of the stacked recording paper sheets P.例文帳に追加
開いた状態の排出用トレイ3は、積重面31に記録紙Pが積重されていくと、その積重された記録紙Pの自重によって、積重された記録紙Pの量に応じた変位量で、記録紙Pの排出口7から離間する方向へ変位していく。 - 特許庁
For the light-emitting element 10 formed on a substrate 1, an n-type light-emitting layer 3 composed of n-type ZnO and a p-type light-emitting layer 4 composed of p-type ZnO and formed on a lower electrode 2 composed of ZnO and an upper electrode 5 composed of ITO is formed on the p-type light-emitting layer 4.例文帳に追加
基板1上に形成された発光素子10は、ZnOから成る下部電極2上にn型のZnOから成るn型発光層3及びp型のZnOから成るp型発光層4を形成し、p型発光層4上にITOから成る上部電極5を形成する。 - 特許庁
An n-channel MOS transistor including a P-type body layer 3a and a p-type active layer for body voltage application 6, which is brought into contact with the p-type body layer 3a, are formed on an SOI substrate formed by matching a crystal orientation <110> of a support substrate 1 with a crystal orientation <100> of an SOI layer 3.例文帳に追加
SOI層3の結晶方位<100>に支持基板1の結晶方位<110>を一致させて形成されたSOI基板上に、P型ボディ層3aを含むNチャネルMOSトランジスタと、P型ボディ層3aに接するボディ電圧印加用P型活性層6とを形成する。 - 特許庁
A liquid display part provided in an operation means 3 displays the position of the jammed paper P as well as displaying the status of all paper P existing inside the apparatus when the jamming of the paper P somewhere in the apparatus is detected by a detection apparatus S-n.例文帳に追加
操作手段3に設けられた液晶表示部は、用紙Pが装置内のいずれかの箇所でジャムを生じたことを検知装置S−nが検知した際に、当該用紙Pのジャムの位置を表示すると共に、装置内に存在している全ての用紙Pの状態を表示する。 - 特許庁
Not only the breakdown voltage is enhanced but also static electricity surge resistance can be ensured by further forming a heavily doped P type region 8 having a depth of 0.5 μm and an impurity concentration of 1×10^20/cm^3-6×10^21/cm^3 on the surface of the guard ring region 5.例文帳に追加
さらにガードリング領域5の表面に、深さ0.5μm、不純物濃度1×10^20/cm^3〜6×10^21/cm^3程度の高濃度P型領域8を形成することにより、耐圧を高くするのみでなく静電気サージ耐量も確保できることとなる。 - 特許庁
Since the relation 0.75×D≤C≤D holds, where C is the hole density of the p-type clad layer 7 and D is activation rate of the holes and further a relations 1.5×1017 cm-3≤C≤9.5×1017 cm-3 is valid, the semiconductor LD1 shows a high optical output.例文帳に追加
このp型クラッド層7の正孔濃度Cと正孔の活性化率Dとの間に0.75×D≦C≦Dの関係があり、且つ、1.5×10^17cm^-3≦C≦9.5×10^17cm^-3の関係があるため、半導体LD1は高い光出力を示す。 - 特許庁
A variable prize winning device 5 is attached to a game board 3 in a state of being inserted into the attaching hole 17 of the game board 3 and includes a receiving port 23 and a discharge port 29 for game balls P.例文帳に追加
可変入賞装置5は、遊技盤3の取付穴17に通された状態で遊技盤3に取り付けられ、遊技球Pの受入口23及びその排出口29を有する。 - 特許庁
The P-ON microcomputer 2 starts the main IC 3 when the main IC 3 is not in an operated state, and obtains a remote control lock mode stored in the flash memory 7 to store it in a RAM 20.例文帳に追加
また、P−ONマイコン2は、メインIC3が起動していない場合にはメインIC3を起動して、フラッシュメモリ7に記憶したリモコンロックモードを取得して、これをRAM20に記憶する。 - 特許庁
A partition member 4 is arranged to partition a boundary P of the different colors lighted and displayed by these light emitting sources 3 and the light rays of the different colors emitted from the light emitting sources 3 are shielded from each other.例文帳に追加
該発光源3により点灯表示された異色の境界Pを仕切るように仕切枠部材4を配置し、発光源3から発する異色同士の光を互いに遮蔽する。 - 特許庁
When the door opening/closing signal d from the transmission antenna 24 is received by a reception antenna 32 of an on-board unit 3, a permission signal p is transmitted as a reply from a transmission antenna 33 of the on-board unit 3.例文帳に追加
この送信アンテナ24からのドア開閉信号dを車載機3の受信アンテナ32で受信すると、車載機3の送信アンテナ33から許可信号pが返信される。 - 特許庁
In so doing, the respective assembly parts P thrown onto the bottom part 2 have the periphery part 2a of the bottom part 2 surrounded by the surrounding wall part 3, so that the parts do not stick out of the surrounding wall part 3.例文帳に追加
このとき、底部2上に放り出された組立各パーツPは、この底部2の周縁部2aが周壁部3に囲まれているため、周壁部3より外に飛び出すことがない。 - 特許庁
At a first using time when a cab 6 is mounted to an aircraft 3 and passengers get on and off, the shift amount Y2 of the aircraft 3 from the normal stop position P is detected.例文帳に追加
キャブ6を航空機3に装着して乗客の乗り降りが行われる第1回目の使用時に、航空機3の正規の停止位置Pからのずれ量Y2を検出する。 - 特許庁
Compartments are provided to correspond to a plurality of the structures 1, and the air pressure P applied to the compartments 3 is adjusted to match the load of the structures 1 applied to the compartment 3.例文帳に追加
複数の構造物1に対応して区画室を設け、この区画室3に掛かる構造物1の荷重に対応して区画室3に加える空気圧力Pを調整する。 - 特許庁
The spider 2 and the blade 3 adopt a row rivet superposing joint structure wherein central positions of superposing parts of the spider 2 and the blade 3 are connected to each other in a row at a pitch p with a rivet 4.例文帳に追加
スパイダー2とブレード3とは、両者の重ね合わせ部の中心位置をピッチpで1列にリベット4により接合された1列リベット重ね継手構造を採っている。 - 特許庁
When the cutting machine 3 moves downward by its own weight, a band saw 35 of the cutting machine 3 cuts the pipe P received in the storage recess 26 into two front and rear equal parts.例文帳に追加
切断機3がその自重によって下方へ移動するとき、切断機3のバンドソー35が収容凹部26に収容された管体Pを前後に二等分するように切断する。 - 特許庁
A self-propelling device is provided with a saddle 3 provided with first clamps 1, 2 arranged on the lower side for gripping an existing pile P and a sliding unit 4 freely movable in the longitudinal direction and freely rotational in the lateral direction relative to the saddle 3.例文帳に追加
自走装置は、既設杭Pを掴む第一クランプ1,2を下側に備えたサドル3と、サドル3に対して前後に移動自在で、左右に回転可能なスライド部4を有する。 - 特許庁
Furthermore, a punch equal velocity shifting mechanism F for approaching the lower end part 9a of the upper punch 9 and the upper end part 10a of the lower punch 10 at the equal velocity to the mating face position P of the upper and the lower dies 3, 3 is arranged.例文帳に追加
さらに、上下の金型3,3の合わせ面位置Pに上パンチ9の下端9aと下パンチ10の上端10aを等速度で接近させるパンチ等速移動機構Fを設ける。 - 特許庁
A pickup roller 3 and a rotating plate 6 are fixed with an arm 5 such that the rotating plate 6 is moved along with the movement of the pickup roller 3 in accordance with the remaining quantity of the paper sheets P.例文帳に追加
ピックアップローラ3と回転板6とをアーム5に取り付けて、用紙Pの残量に応じてピックアップローラ3が移動すると、それに伴って回転板6が移動するように構成する。 - 特許庁
Lugs 3 are provided along the longitudinal direction on the shielding panel P fitting faces of vertical sash bars 2, 2, and hook-shaped notches 6a, 6b having recesses 7 on the lower faces are formed on the lugs 3.例文帳に追加
縦桟2,2の遮蔽パネルP取付面には、その長さ方向に沿って突起部3を設け、突起部3には鉤状で下面に凹部7を有する切欠部6a,6bを形成する。 - 特許庁
The irradiation unit 3 is a thin type in which the length in a rotation axis P line direction is short and a part having the maximum width of the irradiation unit 3 is arranged along the maximum width of the installation space 8.例文帳に追加
そして、照射装置3は、回転軸P線方向での長さが短い薄型とし、照射装置3の最大幅となる部分を設置スペース8の最大幅に沿って配置する。 - 特許庁
The elasticity is ≤90%, the twisted pitch p of the coiling wire 3 is 5.0-10.0 mm, and the carbon content of the steel material of the coiling wire 3 is 0.50-0.65%.例文帳に追加
エラスティシティーが90%以下であり、巻き付けワイヤ3の撚りピッチpが5.0〜10.0mmであり、かつ、巻き付けワイヤ3の鋼材の炭素含有量が0.50〜0.65%である。 - 特許庁
A plurality of band-shaped projections 6, which extend in the direction of 90±3° to a tire circumferential direction, are formed on the outer wall of a side wall part 3 at a predetermined interval P to the tire circumferential direction.例文帳に追加
サイドウォール部3の外壁にタイヤ周方向に対して90±3°の方向に延びる複数の帯状の突起6をタイヤ周方向に対して所定の間隔Pを隔てて形成した。 - 特許庁
This frothing inhibitor contains components selected from a group comprising benzyl acetate, linalool, sis-3-hexenol, phenylethyl alcohol (Rose P), cineol, sis-3-hexenyl acetate.例文帳に追加
ベンジルアセテート、リナロール、シス−3−ヘキセノール、フェニルエチルアルコール(Rose P)、シネオール、シス−3−ヘキセニルアセテートからなる群より選択される成分を含有することを特徴とする起泡抑制剤。 - 特許庁
The original P on the transparent plate 3 is attracted to the charged first and 2nd electrode patterns 31, 32 by the action of electrostatic induction and stuck and fixed on the transparent plate 3.例文帳に追加
透明板3上の原稿Pは、帯電された第1電極パターン31,第2電極パターン32に静電誘導の作用で吸い付けられ、透明板3上に吸着されて固定される。 - 特許庁
In pressing into a hose H a pipe P that is fixed to and supported by a holder 4 on a slider 3 in advance, the slider 3 is slid by the application of the pressing force.例文帳に追加
スライダ3上のホルダ4に予め固定支持されているパイプPに対してホースHを圧入するにあたり、その圧入力の付与によってスライダ3をスライド移動させる。 - 特許庁
The photovoltaic device is provided with an n-type layer 3, a photoelectric conversion layer 4 formed on the n-type layer 3, and a p-type layer 5 formed on the photoelectric conversion layer 4.例文帳に追加
この光起電力装置は、n型層3と、n型層3上に形成された光電変換層4と、光電変換層4上に形成されたp型層5とを備えている。 - 特許庁
This paper feeding cassette 1 is provided with a lift plate 3 mounted with paper P on an upper surface and a driving device 10 for pushing up a downstream end of the lift plate 3 to be displaced to a paper feeding position.例文帳に追加
給紙カセット1は、用紙Pが上面に載置されるリフト板3と、このリフト板3の下流端を押し上げて給紙位置に変位させる駆動装置10とを備える。 - 特許庁
In this thermoelectric conversion module 1, a serial circuit is constituted by alternately arranging p-type thermoelectric elements 2 and n-type thermoelectric elements 3 and successively connecting the thermoelectric elements 2 and 3 to each other through conductive members 4.例文帳に追加
熱電変換モジュール1は、p型の熱電素子2とn型の熱電素子3とを交互に配列し、導電性部材4で順次接続して直列回路を構成する。 - 特許庁
By this engagement, the stirring blades 5 are rotated so as to scratch and level the raw material powder p to the front part of the moving direction of the shoe box 3 in both the cases of the progress/retreat of the shoe box 3.例文帳に追加
この噛み合いにより、撹拌羽5は、シューボックス3の前進・後退いずれの場合においても、シューボックス3の移動方向前方に原料粉末pを掻き均すように回転する。 - 特許庁
An n-well NW1 is formed on the surface of a p-type substrate PSub and a gate insulating film 2 as well as a gate electrode 3 are formed thereon, then, the gate electrode 3 is connected to a gate terminal Vg.例文帳に追加
P型基板PSubの表面にNウエルNW1を形成し、その上にゲート絶縁膜2及びゲート電極3を形成し、ゲート電極3をゲート端子Vgに接続する。 - 特許庁
An n-type diffusion layer 3 is formed on the optical receiver surface side of a p-type silicon substrate 2, while an anti-reflective coating 4 and a silver electrode 7 for the optical receiver surface are attached on the diffusion layer 3.例文帳に追加
p型のシリコン基板2の受光面側にn型の拡散層3が形成され、この拡散層3の上に反射防止膜4と受光面銀電極7が設けられている。 - 特許庁
In addition, the irradiation device 3 is a thin type having a length short in the direction of a rotation-axial line P and the portion with the maximum width of the irradiation device 3 is arranged along the maximum width of the installation space 8.例文帳に追加
そして、照射装置3は、回転軸P線方向での長さが短い薄型とし、照射装置3の最大幅となる部分を設置スペース8の最大幅に沿って配置する。 - 特許庁
A space charge zone 10 is expanded vertically to the region 3 of the second conductivity type, and laterally to an epitaxial layer 2 in a p/n junction 11 as well as to the region 3.例文帳に追加
空間電荷ゾーン10の拡大は、垂直方向では第2の伝導型の領域3へ行い、横方向では領域3だけでなくエピタクシー層2へもpn接合11で行う。 - 特許庁
The light-path control pattern P totally reflects incident light toward a metal reflecting film 3 side, and totally reflects reflected light from the reflecting film 3 toward the light-emitting face 2c.例文帳に追加
この光路制御パターンPは、入射光を金属反射膜3側へ向けて全反射させ、反射膜3からの反射光を光出射面2cに向けて全反射させる。 - 特許庁
When the donor impurities are doped to the p-base area, a dose x of the donor impurities is set according to a formula, 1×1011 cm-3<x<5QB/q (QB =4ε0εSΦBNA)1/2.例文帳に追加
pベース領域へのドナー不純物の注入による場合は、ドナー不純物のドーズ量xを 1×10^11cm^-3<x<5Q_B /q Q_B =(4ε_0 ε_S Φ_B N_A )^1/2 とする。 - 特許庁
At the drilled part Q, the flange part 4 of the repair pipe 1 is abutted on the inner surface of the main pipe P, and the cylindrical body 3 of the repair pipe 1 is heated and pressurized from its inside to expand the cylindrical body 3.例文帳に追加
穿孔部Qにおいては補修管1のフランジ部4を本管Pの内面に当接させ、補修管1の筒体3内より加熱及び加圧して筒体3を拡径膨張させる。 - 特許庁
The lateral blade 30 is curved at a curvature radius R2 toward the backside of the rotating direction of the rotary shaft 3 according to the increase of the distance L from the rotary center P of the rotary shaft 3.例文帳に追加
横刃30は、回転軸3の回転中心Pからの距離Lが大きくなるに従って回転軸3の回転方向後側に曲率半径R2を有して湾曲する。 - 特許庁
As a result, the combustion performance of the cookstove burner 3 is improved, and a distance h between the cookstove burner 3 and a cooking pan P is reduced to enhance the heat efficiency.例文帳に追加
この結果、こんろバーナ3の燃焼性能は向上させられるので、こんろバーナ3と調理鍋Pとの距離hを縮めて熱効率を向上させることが可能となる。 - 特許庁
In this semiconductor device 1, a base layer part of an epitaxial layer 3 forms an N^- type region 4, and a P-type body region 5 in contact with the N^- type region 4 is formed in the epitaxial layer 3.例文帳に追加
半導体装置1では、エピタキシャル層3の基層部がN−型領域4をなし、エピタキシャル層3には、N^-型領域4に接するP型のボディ領域5が形成されている。 - 特許庁
Where, M expresses a transition metal, A^a+ expresses a metal ion, a proton, or an onium ion, a expresses 1-3, b expresses 1-3, p expresses b/a, m expresses 1-4, n expresses 1-8, and q expresses 0 or 1.例文帳に追加
(但し,Mは,遷移金属等,A^a+は,金属イオン,プロトン,又はオニウムイオン,aは1〜3,bは1〜3,pはb/a,mは1〜4,nは1〜8,qは0又は1を表す) - 特許庁
To provide a nitride semiconductor element for obtaining a p-type nitride semiconductor layer with low resistance having holes at concentrations of ≥10^18/cm^3 without the need for annealing and substrate processing.例文帳に追加
窒化物半導体素子において、アニーリングや基板の加工を必要としないで、ホール濃度が10^18cm^-3以上ある低抵抗のp型窒化物半導体層を可能にする。 - 特許庁
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