「pattern for」に関連した英語例文の一覧と使い方(539ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a method for housing an electronic part, especially, an integrated circuit in a cured plastic case, capable of bonding a substance to the case of the electronic part as an entire or partial coating and capable of providing a pattern of every kind on the outer surface of the part.例文帳に追加

物質を全面的または部分的被覆として電子部品のケースに付着でき、部品の外面にあらゆる種類のパターンを設けることができる、電子部品とくに集積回路を硬化プラスチックのケースに納める方法を提供する。 - 特許庁

To adjust production by ascertaining contract situations with each customer, past delivery patterns, and the manufacturing situation in a manufacturing department, and by automatically selecting an optimum delivery pattern of a product for a customer.例文帳に追加

従来は、顧客を平等に扱い、製品一式を納入する固定的な納入形態に対して生産調整を行うので、顧客の重要度や突発的な事態における納入形態への希望などが考慮されておらず、柔軟な対応がとれない。 - 特許庁

To provide a method for grinding a substrate capable of preventing the substrate from being broken by solving such a problem with a substrate having a diameter of as large as 300 mm or more that grinding waste penetrates into a clearance between a film and a device pattern face together with grinding fluid and the substrate is broken.例文帳に追加

直径が３００ｍｍ以上と大きい基板の研削時に、研削屑がフィルムとデバイスパタ−ン面間に研削液とともに浸透して基板が破損することがあるので、該破損が生じないように基板を研削する方法の提供。 - 特許庁

To provide a light proximity effect correcting device for a semiconductor production process, capable of performing the sufficient light proximity effect correction even under various conditions in the size and shape of a design pattern and the space width and positioning relationship between the design patterns.例文帳に追加

設計パターンの大きさ・形状や、設計パターン同士のスペース幅や位置関係が多様な状況下においても、十分な光近接効果補正を行うことのできる、半導体製造プロセスの光近接効果補正方法を提供する。 - 特許庁

A two-dimensional coordinate calculation section 310 calculates two-dimensional coordinates (frame coordinates) of a plurality of reference positions on a position code pattern on an image of a board 100 for correction and a reference position identification section 320 identifies a plurality of the reference positions with each other.例文帳に追加

二次元座標算出部３１０は、校正用ボード１００の画像について、位置コードパターン上の複数の基準位置の二次元座標（フレーム座標）を算出し、基準位置識別部３２０は、複数の基準位置を互いに識別する。 - 特許庁

To provide a method for mold releasing an inorganic green board without using a mold release oil wherein the green board molded product wherein an irregular pattern is formed on a surface can be uniformly and smoothly released from a mold, and deformation, breakage and the like are not generated.例文帳に追加

表面に凹凸模様を形成した生板成形品を、成形型から均一かつスムーズに離型させることができ、変形や破損等の発生がない、離型油を使用しない無機質板生板の離型方法を提供する。 - 特許庁

Letting the number of the disk-shaped coils laminated on the outer radius side or inner radius side of a conductor pattern 2 be n, at least n-1 through-holes 7 for lamination are similarly provided adjacently to one another in aggregate in each disk-shaped coil.例文帳に追加

積層用スルーホール７は、導体パターン２の外周側または内周側に積層されるディスク型コイルの枚数ｎに対して少なくともｎ−１となる個数が各ディスク型コイルで共通して近接集合されて設けられている。 - 特許庁

When the stop time ta is 5 seconds or more and less than 25 seconds (S128: Yes), a stop message M1 indicating that launching is stopped and an urge message M2 for urging resumption of launching are displayed in a pattern display device 32a (S130).例文帳に追加

そして停止時間ｔａが５秒以上２５秒未満になると（Ｓ１２８：Ｙｅｓ）、発射が停止していることを示す停止メッセージＭ１および発射の再開を促す催促メッセージＭ２を図柄表示器３２ａに表示する（Ｓ１３０）。 - 特許庁

To exactly calculate a point of time when a succeeding material is extracted from a heating furnace for catching up with a preceding material in the target catching-up position on the hot rolling line from the pattern of conveying speed of the preceding material and the succeeding material until the completion of catching up after the extraction from the heating furnace.例文帳に追加

先行材と後行材の、加熱炉抽出から追付き完了迄の搬送速度のパターンから、熱間圧延ライン上における追付目標位置にて追付くための、後行材の加熱炉抽出時点を正確に計算する。 - 特許庁

The mold 10 for molding the synthetic resin product is constituted by applying a soft wax paste 17, which is prepared by kneading powdery soft wax and pasty flux, to a base material 11 by screen printing and heating, cooling and washing the same to form the uneven pattern comprising a large number of projections 13.例文帳に追加

粉末状の軟ろうとペースト状のフラックスを混練してなる軟ろうペースト１７で基材１１にスクリーン印刷し、加熱、冷却、洗浄して多数の突起１３よりなる凹凸パターンを形成して合成樹脂製品の金型１０とする。 - 特許庁

To provide an authenticity discriminating medium which can solve various shortcomings such as the difficulty to shorten manufacturing time, a large number of processes for manufacturing an embossing die and the difficulty to change a pattern of a judgement part, when the judgement part is formed by an embossing hologram.例文帳に追加

判定部をエンボスホログラムで形成する際に、製造時間の短縮が困難である点、エンボス型の製造時の工程数が多く、判定部のパターンの変更が困難な点を解消可能な真偽判定用媒体を提供することである。 - 特許庁

To provide a foreign matter removing method and its apparatus which are preferable for cleaning a substrate on which a fine pattern is formed, and which have high removing efficiency of foreign matters by laser heating, and further which do not depend on the thickness of a liquid film and the kind, size, and shape or the like of foreign matters.例文帳に追加

微細パターンが形成された基板の洗浄等に好適であって、レーザー加熱による異物の除去効率が高く、液膜の厚さや異物の種類、大きさ、形状等に依存しない異物除去方法及びその装置を提供する。 - 特許庁

On the other hand, when the probability variation mode is not acquired, the display is controlled so that a character figure is the winner except for the character figure among the special figures making up the jackpot pattern defined, stopped and displayed at S353 (S377).例文帳に追加

一方、確率変動モードを獲得しなかった場合には、Ｓ３５３で確定停止して表示された大当たり図柄を構成する各特別図柄のキャラクタ図柄以外のキャラクタ図柄が勝者となるように表示制御される（Ｓ３７７）。 - 特許庁

A thin film made of only a Cr is formed on the entire surface of a crystal wafer for which outer shape forming is completed and a pattern is formed by photolithographic work, and a film of (Cr+Au) is newly formed on the Cr thin film on only a mount pad portion and weight portion which need an Au film.例文帳に追加

外形形成が終了した水晶ウエハの全面にＣｒのみの薄膜を成膜してホトリソ加工でパターンを形成後、Ａｕ膜が必要なマウントパッド部と錘部のみに、Ｃｒ薄膜の上にあらたに（Ｃｒ＋Ａｕ）膜を成膜する。 - 特許庁

To provide a solid-state image pickup device which can cancel solid- state pattern noise by generating dispersion caused in an output signal, due to circuit configuration of the solid-state image pickup device at random for at every pixel.例文帳に追加

本発明は、固体撮像装置の回路構成などに起因してその出力信号に生じるバラツキを、各画素毎にランダムに生じさせることにより、固体パターンノイズをキャンセルすることが可能な固体撮像装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a high-quality pattern form and a method for manufacturing it which provide only the objective area with high and fine liquid-repellent properties, in forming lyophilic and liquid-repellent patterns utilizing plasma irradiation.例文帳に追加

本発明は、プラズマ照射を利用して、親液性および撥液性のパターンを形成する際、目的とする領域のみ、高精細に撥液性とされた、高品質なパターン形成体、およびその製造方法を提供することを主目的としている。 - 特許庁

To manufacture a shaped body for an optical sheet having an embossed layer with a concave-convex pattern formed by a roll forming method continuously at a low cost by avoiding a transfer defect resulting from a joint of a flat mold.例文帳に追加

ロール成形法により凹凸パターンが形成されたエンボス層を有する光学シート用成形体を製造する場合に、平板状金型の継ぎ目部に起因する転写欠陥を回避し、低コストで連続的に光学シート用成形体を製造する。 - 特許庁

To provide a high-accuracy, short-time, low-environmental-load and economical circuit board manufacturing method in forming a pattern of a wiring circuit provided in a circuit board regarding a circuit board manufacturing method for an electronic tag or the like.例文帳に追加

本発明の課題とするところは電子タグ等の回路基板の製造方法において、回路基板が備える配線回路のパターンの形成に当たり、高精度、短時間、低環境負荷かつ経済的な回路基板の製造方法を提供することである。 - 特許庁

To provide a symbol timing detecting circuit and a receiver for a multilevel phase modulated signal in which a symbol timing can be detected in a short period of time without depending on eccentricity in the pattern of a demodulated symbol in a demodulation circuit using a multilevel phase modulating system.例文帳に追加

多値位相変調方式を用いた復調回路において、短時間でシンボルタイミングを検出でき、かつ、復調シンボルのパターン偏りに依存しないシンボルタイミング検出回路及び多値位相変調信号の受信装置を提供する。 - 特許庁

Polarization (alpha) (an angle (alpha) from s polarization) of light to be emitted on a sample which is an object for performing defect detection is calculated by substituting a condition of a circuit pattern of the sample, an azimuth angle and an incident angle of irradiation light in a predetermined formula.例文帳に追加

欠陥検出を行なう被対象物である試料に照射する光の偏光（アルファ）（ｓ偏光からの角度（アルファ））を、試料の回路パターンの条件、照射光の方位角及び入射角を所定の計算式に代入して算出する。 - 特許庁

A partially missing part is formed on a surface of an n+ emitter region 9 on surfaces between gate electrodes 7 of a MOS gate structure to form a surface pattern for expanding a surface area of a p+ contact region 9 surrounded by a surface of the n+ emitter region 9.例文帳に追加

ＭＯＳゲート構造のゲート電極７間の表面で、ｎ^+エミッタ領域９表面に一部欠落部を設け、このｎ^+エミッタ領域９表面に囲まれたｐ^+コンタクト領域９の表面積を拡張させる表面パターンとする。 - 特許庁

The method comprises obtaining a resist material 250 with predetermined resist properties, using the resist material for providing a resist layer 4 on the device to be processed lithographically, and illuminating the resist layer according to a predetermined pattern to be obtained.例文帳に追加

該方法は、所定のレジスト特性を有するレジスト材料２５０を取得し、リソグラフィー処理されたデバイスにレジスト層４を設けるため上記レジスト材料を使用し、及び、得るべき所定パターンによって上記レジスト層を照明することを備える。 - 特許庁

To provide a transparent conductive layer which has both of high conductivity and excellent transparency and moreover has a film strength for enduring cleaning and pattern-forming processing while keeping conductivity with an electronic device layer arranged on the transparent conductive layer.例文帳に追加

高い導電性と良好な透明性を併せ持ち、かつ、透明導電層上に設けられる電子デバイス層との導通を確保しながら、洗浄やパターン形成処理にも耐えることのできる膜強度を持った透明導電層を提供。 - 特許庁

In a method for molding a patterned molded product by press-molding a polyester type SMC material, the pattern material of the same kind as the SMC material different in color is sprinkled over the product surface side of a press mold before the SMC material is placed to be press-molded.例文帳に追加

ポリエステル系のＳＭＣ材料をプレス成形して柄付成形品を成形する方法において、色の異なるＳＭＣ材料と同種の柄材を、プレス金型の製品面側に散布した後にＳＭＣ材料を載置してプレス成形する。 - 特許庁

Second etching treatment is then performed using a second mask pattern 12 for the etching removal of a wide face with an outline 13 in a position away from the structure side face 20 farther from the width of the groove 10.例文帳に追加

次いで前記第１のエッチング処理により形成される溝１０の幅より構造体側面２０から離れた位置に輪郭１３を備えた広い面をエッチング除去するための第２マスクパターン１２を用いて第２のエッチング処理を行う。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor substrate, which can improve design flexibility for formation of a wiring pattern in the upper conductive layer by reducing the plane size of a pad to be formed in a via position; and to provide the semiconductor substrate.例文帳に追加

ビア位置に形成されるパッドの平面寸法を小さくすることにより、上層の導電層における配線パターン形成の設計自由度を向上させることができる半導体基板の製造方法および半導体基板を提供する。 - 特許庁

In the piezoelectric vibration chip, the excitation electrode 30 is provided on main surfaces 12a, 12b of a piezoelectric element plate 12, and the electrode pattern 32 conducted to the excitation electrode 30 is provided at the side of a base end 18 for supporting the piezoelectric element plate 12 in cantilever.例文帳に追加

圧電振動片は、圧電素板１２の主面１２ａ，１２ｂに励振電極３０を設けるとともに、圧電素板１２を片持ち支持する基端１８側に励振電極３０に導通した電極パターン３２を設けたものである。 - 特許庁

An image area separating device for separating a character portion and a pattern portion of an image is provided with an SIMD (single instruction-stream multiple data-stream) type processor, and a table converter 81 performing table conversion using data of a register 53 of a register file 43 of the SIMD type processor as an address.例文帳に追加

画像の文字部と絵柄部とを像域分離する像域分離装置は、ＳＩＭＤ型プロセッサと、ＳＩＭＤ型プロセッサのレジスタファイル４３のレジスタ５３のデータをアドレスとするテーブル変換を行なうテーブル変換器８１とを備えている。 - 特許庁

To provide a polishing liquid for metal whereby the high polishing speed of a metal film is so maintained, and its etching speed is so reduced enough, and further, the generation of its dishing is so suppressed as to be able to form its highly reliable buried pattern and to provide a polishing method.例文帳に追加

本発明は、高い研磨速度を維持し、エッチング速度を十分に低下させディシングの発生を抑制し、信頼性の高い金属膜の埋め込みパタ−ン形成を可能とする金属用研磨液及び研磨方法を提供するものである。 - 特許庁

To provide a radiation sensitive composition for a color filter which causes neither chipping nor peeling on a pattern even when the discharge pressure of a developing solution is increased and can prevent the occurrence of residue and surface stain on a substrate in an unexposed area and on a light shielding layer.例文帳に追加

現像液の吐出圧を上げても、パターンに欠けおよび剥がれを生じることがなく、未露光部の基板上および遮光層上に残渣および地汚れが発生するのを防止しうるカラーフィルタ用感放射線性組成物を提供する。 - 特許庁

For the period of [2] in the figure 4 (c), the starting point is the connected one immediately after the [1], and, in the end point, e.g., laser light output from a laser diode is almost coincident with falling, and, during this period, a recording pattern is displayed in the space light modulator 123.例文帳に追加

図４（ｃ）の「２」の期間は始点が「１」の直後に連続した点で終点が例えばレーザダイオードから出力されるレーザ光は立ち下がりにほぼ一致しており、この期間の間に空間光変調器１２３に記録パターンが表示される。 - 特許庁

A metal foil 1, which is provided not with adhesive agent layer but with a large number of fine projections on its adhesive surface 1a, is punched out with a heating die 2, and the metal foil 1 is pressed and attached on a resin member 3 for attaching a metal foil electric circuit pattern to a resin member through an attaching structure.例文帳に追加

接着剤層をもたず接着面１ａに多数の微小突起を有する金属箔１を加熱金型２で打ち抜くと同時に樹脂部材３に押し付け付着させた金属箔電気回路パターンの樹脂部材への付着構造。 - 特許庁

To provide a control device for an internal combustion engine improving drivability by making an output torque of an internal combustion engine coincide with a demand torque in any changeover pattern of the respective combustion modes in changeover of a combustion mode.例文帳に追加

燃焼モードの切換時に、各燃焼モードの切換パターンにおいても、内燃機関の出力トルクを要求トルクに良好に一致させることができ、それにより、ドライバビリティを向上させることができる内燃機関の制御装置を提供する。 - 特許庁

The carbon electrode includes carbon powder having a wood tar as a raw material and a diffraction line near 2θ=26° and 2θ=44° in a powder X-ray diffraction pattern using CuK_α for a line source as a claim 1.例文帳に追加

本発明の炭素電極は、請求項１として、木タールを原料とし、線源にＣｕＫαを用いた粉末Ｘ線回折パターンにおいて、２θ＝２６°付近と２θ＝４４°付近に回折線を有する炭素粉末を含有することを特徴とする。 - 特許庁

As for each pixel of image data, one of those corresponding relations is selected corresponding to the pixel position of a pattern matrix, and the output tone level corresponding to the input tone level of the pixel is calculated based on the selected corresponding relation.例文帳に追加

そして、画像データの各画素について、パターンマトリクスの画素位置に応じて前記対応関係のうちの一つを選択し、前記選択した対応関係に基づいて該画素の入力階調レベルに対応する出力階調レベルを求める。 - 特許庁

With respect to the nearly transparent bathtub whose back is colored for representing a pattern, its materials are composed of a transparent resin layer, a transparent or translucent gelcoat layer with grains, a colored gelcoat layer and a reinforcing resin layer.例文帳に追加

透明調浴槽の裏面に着色を行ない模様を表現する浴槽において、浴槽の材料構成が 透明な樹脂層と、透明又は半透明の粒入りゲルコート層と、着色ゲルコート層と、補強樹脂層からなることを特徴とする浴槽。 - 特許庁

To provide a fiber treatment agent for forming a three-dimensional pattern on a thermoplastic fiber fabric by expansion of a thermally expandable microcapsule, which has excellent removability of expanded microcapsule and obtains a fabric having excellent appearance qualities.例文帳に追加

熱膨張性マイクロカプセルの膨張により熱可塑性繊維布帛に立体模様を形成するための繊維処理剤であって、膨張済みマイクロカプセルの除去性が良好で、外観品位に優れた布帛を得ることが可能な繊維処理剤を提供する。 - 特許庁

When ashing is performed for a resist pattern 14 under the above conditions, conventionally formed copper oxide layer is not formed at the exposed part in an opening part 12a of a copper wiring 13, with the copper wiring 13 surely exposed.例文帳に追加

この条件下で、レジストパターン１４に対してアッシングを行なうと、銅配線１３における開口部１２ａに露出する露出部分には従来のような酸化銅層が形成されることがなく、銅配線１３を確実に露出させることができる。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a patterned body with which a patterned body subjected to a vacuum UV light irradiation treatment in a high-definition pattern using vacuum UV light can be manufactured with high sensitivity.例文帳に追加

本発明は真空紫外光を用いて高精細なパターン状の真空紫外光照射処理が施されたパターン形成体を高感度で製造できる、パターン形成体の製造方法を提供することを主目的とするものである。 - 特許庁

To provide a positive type photoresist composition for exposure with far UV excellent in density dependence of a contact hole pattern.例文帳に追加

遠紫外光、とくにＡｒＦエキシマレーザー光を使用する上記ミクロフォトファブリケ−ション本来の性能向上技術の課題を解決することであり、具体的には、コンタクトホールパターンの疎密依存性に優れた遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

In a method for inspecting reliability of distance data computed based on a stereo image, a pair of pickup images are obtained by photographing a test chart 21 disposed in an image pickup direction and having a luminance pattern drawn on it by a stereo camera.例文帳に追加

ステレオ画像に基づき算出された距離データの信頼性を検査する方法において、ステレオカメラの撮像方向に配置されていると共に輝度パターンが描かれたテストチャート２１を、ステレオカメラで撮影することによって一対の撮像画像を得る。 - 特許庁

Three base band demodulators DEMO1-3 in a BB 2 are provided corresponding to local frequencies f1, f2, f3 suited to a frequency hopping pattern for demodulating signals received by an RF unit 1 using corresponding local frequencies.例文帳に追加

ＢＢ部２の３つのベースバンド復調器ＤＥＭＯ1〜３は、周波数ホッピングパターンに応じたローカル周波数ｆ１，ｆ２，ｆ３にそれぞれ対応付けて設けられ、対応するローカル周波数を用いてＲＦ部１で受信された受信信号を復調する。 - 特許庁

The plurality of Peltier elements 4 are sectioned into a plurality of Peltier element groups 4A and 4B, wherein the first insulating substrate or the second insulating substrate 3 is provided with a wiring pattern 3c for connecting the plurality of Peltier element groups in units of Peltier element group.例文帳に追加

複数のペルチェ素子４は、複数のペルチェ素子群４Ａ，４Ｂに区分され、第１絶縁基板又は第２絶縁基板３は、複数のペルチェ素子群を各ペルチェ素子群単位で電気接続する配線パターン３ｃが設けられている。 - 特許庁

Correcting means 42 corrects the nonuniformity of each pixel data read out from the solid-state image pickup device on the basis of the correction value for the corresponding pixel data in the arrangement pattern of a predetermined number of pixels constituting each set.例文帳に追加

補正手段４２は、固体撮像素子からの画素データのそれぞれについての不均一性を、各１組みを構成する所定の複数個の画素の前記配列パターン内において対応する画素位置の画素データについての補正値に基づいて補正する。 - 特許庁

As a basic digital code padding technology, a structure for padding extra information in an image by using a machine readable code arranged to represent digital data by the difference of arrangement pattern between two adjacent pixel groups of different gradation is utilized.例文帳に追加

ベースとなるデジタルコード埋込み技術としては、階調の異なる隣接した２つの画素群の配置パターンの違いによってデジタルデータを表わすようにした機械可読コードを使って付加情報を画像中に埋め込む仕組みを利用する。 - 特許庁