「pattern model」に関連した英語例文の一覧と使い方(6ページ目) - Weblio英語例文検索

Utilizing coordinates of each of a plurality of characteristic points extracted from the objective captured image acquired by imaging the object and the model characteristic area image group 4 within the standard model, a deviation value indicating a deviation between the standard pattern and an objective pattern is calculated to align the object.例文帳に追加

対象物を撮像して取得した対象撮像画像から抽出された複数の特徴点それぞれの座標と、基準モデル内のモデル特徴箇所画像群４とを利用して、基準パターンと対象パターンのずれを表すずれ量を算出して対象物に関する位置合わせ処理を行うことが可能である。 - 特許庁

Further, a mathematical model representing the relation between the operation variables and the quality is derived as overlapping of the local areas having the local relational expression and the activity function, and the minimum error mathematical model is selected among a plurality of mathematical models of a division pattern.例文帳に追加

更に局所関係式と活性性度関数を有する局所領域の重ね合せとして操業変数と品質との関連を表す数式モデルを導出し、複数の分割パターンの数式モデルのうち最小誤差数式モデルを選択する。 - 特許庁

A polygon color data calculation means 8 gives the color of the smoothed picture to each of unit polygons constituting the fabric model, and the fabric model which is three-dimensional polygon data is projected to a two-dimensional plane by a rendering means 9, thus obtaining a picture having the fabric pattern.例文帳に追加

ポリゴン色データ算出手段８では、布モデルを構成する各単位ポリゴンに平滑化された画像の色を与え、レンダリング手段９により、三次元ポリゴンデータである布モデルを二次元平面に投影して、布柄模様を有する画像を得る。 - 特許庁

The optical image intensity distribution formed on a resist disposed on the side of a lower layer of a diffraction pattern by performing whole image exposure from the side of an upper surface of the diffraction pattern formed by lines L and spaces S on a substrate at a predetermined pattern pitch is calculated by using a multi-mode waveguide path analytic model or fractional Fourier transform for the diffraction pattern.例文帳に追加

ラインＬとスペースＳによって所定のパターンピッチで基板上に形成された回折パターンの上面側から全面露光を行なうことによって回折パターンの下層側に配置されたレジストに形成される光学像強度分布を、回折パターンに対してマルチモード導波路解析モデル又はフラクショナルフーリエ変換を用いることにより算出する。 - 特許庁

To solve a problem that when transmitting a test pattern from an LSI tester in the LSI tester or an LSI tester simulation model, which range of an address area in a DUT memory is accessed can not be known and a defect of the test pattern cannot be previously detected.例文帳に追加

ＬＳＩテスタ又はＬＳＩテスタシミュレーションモデルでは、ＬＳＩテスタ側からテストパターンを送信する際に、ＤＵＴメモリのどの範囲のアドレス領域をアクセスしたかを知ることはできず、テストパターンの不備を事前に検出できない。 - 特許庁

A first step (a step 32) is to apply a shield to the vertical edge of a target pattern by using a model base OPC (Optical Proximity Correction) in order to delineate the lateral mask and to apply a shield to the lateral edge of the target pattern in order to delineate the vertical mask.例文帳に追加

第１ステップ（ステップ３２）は、横のマスクを画定するために、モデルベースＯＰＣを用いてターゲット・パターンの縦のエッジにシールドを施すこと、ならびに縦のマスクを画定するためにターゲット・パターンの横のエッジにシールドを施す。 - 特許庁

To provide a diagnosis system for electrical installation, capable of diagnosing a winding section from the shape of waveform pattern to which the hidden Markov model has been applied to the waveform pattern of characteristic quantity obtained by impressing a specific impulse in the winding section of electrical installation, and determining.例文帳に追加

電気設備の巻線部に所定のインパルスを印加して得られた特徴量の波形パターンに、隠れマルコフモデルを適用した波形パターンの形状から巻線部を診断し、判定できる電気設備診断システムを提供する。 - 特許庁

Specifically, when it is raining, or when an atmospheric temperature of a threshold or lower is determined, an object is determined to be the pedestrian if matching with the model image of pattern A is successful.例文帳に追加

具体的には、降雨有り、或いは、外気温が閾値以下と判定された場合はパターンＡのモデル画像にマッチングするのであれば歩行者であると判定する。 - 特許庁

The model time-series data is divided into sections Y_i (i=1, ..., n) of an individual pattern at predetermined places in time series in advance, and feature quantity time series y_i (i=1, ..., n) by the sections are extracted.例文帳に追加

模範時系列データは予め時系列上の所定箇所で個別パターンの区間Y_i(i=1,…,n)に分割され、区間ごとに特徴量時系列y_i(i=1,…,n)を抽出しておく。 - 特許庁

To provide a color filter substrate which includes a black matrix layer, a color pattern layer and an electrode layer and has an identified mark for identifying a manufacturer or a product model.例文帳に追加

ブラックマトリックス層、カラーパターン層および電極層を含み、製造業者または製品モデルを識別するための識別標識を有する、カラーフィルタ基板を提供する。 - 特許庁

Then a metal thin film 7 is vapor deposited on the resist film 5 of the master model 6, electrically joined to an electrode plate 8 to obtain an upper mold 11 for molding having the reverse pattern.例文帳に追加

そして、マスターモデル６のレジスト膜７に金属薄膜７を蒸着した後、電極板８と電気接合し、反転パターンを備えた成型用の上金型１１を得る。 - 特許庁

A feature extraction matrix is obtained from the prepared model pattern vector and from the feature extraction matrix, its representative feature amount vector is obtained to be stored in a learning means 4.例文帳に追加

作成したモデルパターンベクトルから特徴抽出行列を求め、前記特徴抽出行列からその代表特徴量ベクトルとを求め学習手段４に蓄積する。 - 特許庁

Pattern height H, bottom width BCD and tapering angle Θ are acquired, by analyzing the wavelength depending characteristic of intensity of diffracted light obtained using a standard model (S2).例文帳に追加

そして、取得した回折光強度の波長依存特性を標準モデルを用いて解析し、パターン高さＨ、ボトム幅ＢＣＤおよびテーパー角Θを取得する（Ｓ２）。 - 特許庁

An overlapping error accompanying reticle thermal deformation due to the exposure is corrected by using the corrected model, and then a pattern is transferred to a wafer to be exposed.例文帳に追加

修正された前記モデルを用いて露光によるレチクル熱変形に伴う重ね合わせ誤差を補正し、その上で次の露光対象のウエハにパターンを転写する。 - 特許庁

First, the system systematically retrieves and selects the player candidate suitable for a new business model by selecting the player candidate names for every business pattern based on the requisite fitness.例文帳に追加

その要件適合度に基づいてビジネスパターン毎にプレイヤ候補名を選択することにより、まず、新しいビジネスモデルに適したプレイヤ候補を体系的に検索し選択する。 - 特許庁

Middleware environment defining information for each server and a job execution program component operated on the middleware are generated based on the model pattern and the logical job designing information.例文帳に追加

そして、モデルパタンと論理ジョブ設計情報に基づき、サーバ毎のミドルウェア環境定義情報とミドルウェア上で動作するジョブ実行プログラム部品を生成する。 - 特許庁

The language model is generated from the fixed-form pattern of utterance including character information obtained at the site specified by a URL of the organization that the speaker belongs to.例文帳に追加

言語モデルは、話者が属する組織のＵＲＬによって特定されるサイトから取得された文字情報を含む発話の定型パターンから生成されている。 - 特許庁

To provide Model Based Optical Proximity Correction (MOPC) biasing techniques for optimizing a mask pattern, which takes into account the influence of neighboring features with respect to the mask.例文帳に追加

マスクに対する近傍の特徴構造の影響を考慮するマスク・パターンの最適化のためのモデル・ベースの光学的近接効果補正（ＭＯＰＣ）バイアス技術を提供する。 - 特許庁

A data-storing part 10 stores data on the form of a human body which represents the model form of a human body and a texture pattern consisting of thermographies which were read out from different orientations.例文帳に追加

データ格納部１０は、人体モデルの体型を示す人体形状データと、複数の方位から読み取られたサーモグラフィからなるテクスチャパターンとを記憶している。 - 特許庁

The remaining weight is computed from the read data and screen coordinates of line points are found from the three vertexes of the polygon model and the weight representing their position relations to plot a pattern.例文帳に追加

読み出されたデータから残りの重みを演算し、ポリゴンモデルの３頂点と、その位置関係を表す重みからライン点のスクリーン座標を求め、模様を描画する。 - 特許庁

The method includes calculating the image obtained when a calculating model of the sphere 10 in which the position for drawing the pattern is marked, is photographed at a specified position by the camera 12.例文帳に追加

次に、模様を描画する位置がマークされた球１０の計算用モデルを、特定した位置においてカメラ１２で撮像したときに得られる画像を計算する。 - 特許庁

Then, the pattern model is cut along the cutting lines and the resulting cut pieces are three-dimensionally assembled in accordance to the folding lines and the parts to be stuck to each other whereby the objective figure in the Kimono is produced.例文帳に追加

その後、この雛形を上記切取線で切断し、折曲線や貼合部に従って立体的に成形することで、立体の和装着姿を製作する。 - 特許庁

To reduce occurrence of a mesh pattern from an endoscope pictured photographed by a TV camera in accordance with a period of a core part depending on combination between a fiber scope and a model of the TV camera.例文帳に追加

ＴＶカメラで撮像した内視鏡画像に対し、ファイバスコープとＴＶカメラの機種の組み合わせによって異なるコア部の周期に応じて網目模様を軽減する。 - 特許庁

When the female mold is heated, the wax pattern model 10 and the plate 11 will be melted and dewaxed, consequently a space for the shape of the moving vane which serves as a product will be formed inside the female mold.例文帳に追加

雌型を加熱するとろう型模型１０及びプレート１１が溶けて脱ろうし、雌型の内部には製品となる動翼の形状の空間が形成される。 - 特許庁

The system and method enumerate a set of variables and pattern intervals to construct (109) an inspection structure and analyze a series of layout patterns according to design rules by simulation (115) using a lithography model to obtain a partition of the pattern spaces into one portion 133 that requires only rule-based OPC and another portion 131 that requires model-based OPC.例文帳に追加

本システムおよび方法は、パターン空間の、ルールベースＯＰＣのみを必要とする部分１３３と、モデルベースＯＰＣを必要とする別の部分１３１との区分を得るために、リソグラフィ・モデルを用いたシミュレーション１１５によって、設計ルールしたがって変数値とパタン間隔の集合を列挙して検査構造を構築し１０９、一連のレイアウト・パターンを分析する。 - 特許庁

A two-dimensional blade cross section model design section 112 determines a two-dimensional blade cross section model by defining a two-dimensional cross section at each blade height with a fourth NURBS curve using information on a flow pattern obtained through a thermal design as well as a design variable held in a design variable section.例文帳に追加

二次元翼型設計部１１２は、熱設計からフローパターンの情報及び設計変数部に保持された設計変数を用いて、それぞれの翼高さ位置での二次元断面を４次のＮＵＲＢＳ曲線で定義して、二次元翼型を決定する。 - 特許庁

Further, the behavior estimation model to be collated with the detection characteristic point is converged into a basic pattern in which the carried-in article is not used when executing the specified behavior, and the behavior estimation model corresponding to the specified behavior executable by using the carried-in article present in the cabin (S250).例文帳に追加

さらに、特定行動の実行時に持込品を使用しない基本パターンと、車室内に存在する持込品を用いて実行可能な特定行動に対応する行動推定モデルとに、検出特徴点と照合する行動推定モデルを絞り込む（Ｓ２５０）。 - 特許庁

In synchronization with this, an area 303 on the terrain model 23, on which color representing water and an image pattern having a design are projected by a projector 22 is expanded so as to be matched with an area where the three-dimensional model goes below the surface of water in the virtual three-dimensional world (a2 and a3).例文帳に追加

また、これに同期して、仮想三次元世界中の三次元モデルの水没領域に整合するように、投影装置２２によって水を表す色、模様を有する画像パターンを投影する地形模型２３上の領域３０３を拡大する（ａ２、ａ３）。 - 特許庁

Then, the two-dimensional feature detection model is compared with the configuring part of a pattern, in an image inputted from a signal inputting part 1000, and a featured value corresponding to the configuring part of the two-dimensional feature detection model is calculated by a two-dimensional feature detecting part 1002.例文帳に追加

２次元特徴検出モデルと信号入力部１０００から入力された画像中のパターンの構成部分とを比較して、２次元特徴検出モデルの構成部分に対する特徴量を２次元特徴検出部１００２が算出する。 - 特許庁

Also, in a model in which the temperature adjustment control of the fixing unit is performed by changing over the output pattern in a specified time period, an ON waveform on the negative side of the same phase angle as the phase angle on the AC positive side is generated for the output pattern within the specified time period.例文帳に追加

また定着器の温調制御を一定時間周期で出力パターンの切り換えを行う機種において、出力パターンをＡＣ＋側の位相角と同じ位相角の−側のＯＮ波形を一定時間周期内に生成する。 - 特許庁

Time-series sequence learning parts 11 and 13 as a plurality of learning means having a plurality of learning modules for learning a pattern learning model for learning a time-series pattern are connected in such a manner as to constitute a hierarchical structure.例文帳に追加

時系列パターンを学習するパターン学習モデルの学習を行う複数の学習モジュールを有する複数の学習手段としての時系列シーケンス学習部１１及び１３が階層構造を構成するように接続されている。 - 特許庁

The business model design support system calculates requisite fitness to each player requisite of any business pattern from business unit characteristic of each player candidate, using business pattern DB (Database) 111 which records beforehand player type names of a business pattern and player requisites for every player type and player list DB (Database) 112 which memorizes beforehand player candidate names and business unit characteristics.例文帳に追加

ビジネスパターンのプレイヤタイプ名とタイプ毎のプレイヤ要件とを予め記録したビジネスパターンＤＢ１１１と、プレイヤ候補名とその事業体特性値とを予め記憶したプレイヤリストＤＢ１１２とを用い、各プレイヤ候補の事業体特性値から任意のビジネスパターンの各プレイヤ要件への要件適合度を算出する。 - 特許庁

When an input design data is subjected to rule-base proximity correction in the process of forming a pattern based on the design data of an electronic device on a substrate to be exposed, the pattern is moved by calculating a correction amount by using a pattern side as a unit and then subjected to the model-base proximity correction to create an exposure data.例文帳に追加

被露光基板上に電子デバイスの設計データに基づいてパターンを形成する工程において、入力した設計データに対し、ルールベースの近接効果補正を行う際に、パターンの辺を単位に補正量を算出して移動した後、モデルベースの近接効果補正を行って露光データを作成する。 - 特許庁

Variation amount of exposure conditions is calculated by obtaining an electron beam image of a first pattern part and a second pattern part, which are different in change tendency of a dimensional feature amount to variation of exposure conditions, calculating the dimensional feature amount of a first pattern part and a second pattern part and applying the dimensional feature amounts to a model which correlates exposure conditions and a dimensional feature amount.例文帳に追加

露光条件の変動に対する寸法特徴量の変化傾向が互いに異なる第１パターン部と第２パターン部の電子線像を取得し、第１パターン部および第２パターン部の寸法特徴量を算出し、これら寸法特徴量を露光条件と寸法特徴量を関連付けるモデルに当てはめることによって露光条件の変動量を算出するようにした。 - 特許庁

In detail, a usage lelel UL is obtained from a model name and a port name of a printer (S310), and a pattern out of the basic screens is selected and displayed (S330, S430, S530) according to the usage level.例文帳に追加

詳細には、プリンタの機種名とポート名より使用レベルＵＬを求めて（Ｓ３１０）、その使用レベルに応じて、基本画面のパターンを選択表示する（Ｓ３３０，Ｓ４３０，Ｓ５３０）。 - 特許庁

Pattern matching is performed on the linearly substituted image by comparing with a character image of a preliminarily registered model to specify the characters by the matching degree, whereby reading of characters is performed.例文帳に追加

直線状に置換された画像で、予め登録されているモデルの文字画像と比較してパターンマッチングを行い、その一致度によって文字を特定して、文字の読み取りを行う。 - 特許庁

To solve the problem that the mold to be exclusively used can be made only after a model of the same shape as the shape of the sublimation pattern of a prescribed three-dimensional shape is formed and this mold is inverted many times.例文帳に追加

専用の型を作るには所定の三次元形状の消失模型と同形状のモデルを作って、何度も反転してからでないとできないという問題を解決する。 - 特許庁

An interruption expected value collation part 10 collates an output result obtained when a hardware interruption is generated in a simulation model 1 with a previously stored interruption expected value pattern 9.例文帳に追加

シミュレーション・モデル１でハードウェア割り込みが生じているときの出力結果は、割り込み期待値照合部１０によって予め記憶されている割り込み期待値パタン９と照合される。 - 特許庁

A learning data construction part 34 and a time series node pattern extraction part 35 learn a hidden Markov model to obtain the change of a node label in the time series of the text data of the argument.例文帳に追加

学習用データ構築部３４および時系列ノードパターン抽出部３５は、隠れマルコフモデルの学習を行って、議論のテキストデータの時系列でのノードラベルの変化を得る。 - 特許庁

At the end of the scans, the control part 8 specifies the scanning position, where the nonconformity matching the threshold at that time is obtained, as the position of a contour pattern resembling the model image.例文帳に追加

走査が終了すると、制御部８は、その時点でのしきい値に相当する不一致度が得られた走査位置をモデル画像に類似する輪郭パターンの位置として特定する。 - 特許庁

To substantially reproduce a pattern of all minute defects observed in a silicon signal crystal grown by a CZ method with a couple of model constants against practical growth conditions.例文帳に追加

ＣＺ法により成長したシリコン単結晶に観察される全ての微小欠陥のパターンを実際の成長条件に対して、一組のモデル定数で実質的に再現する。 - 特許庁

A design information storage means 104 stores design information including a module arrangement pattern being information including the model of a solar cell module to be arranged and the arrangement position.例文帳に追加

設計情報記憶手段１０４には、配置する太陽電池モジュールの種類と配置する位置とを備える情報であるモジュール配置パターンを備える設計情報が記憶される。 - 特許庁

The stencil reference value determined is collated with an element value of the stencil pattern, and based on the color mask determined and using the one component, a three-dimensional model is drawn at a pixel which corresponds to matching values.例文帳に追加

そして、決定されたステンシル参照値とステンシルパターンの要素値を照合し、一致した値に対応する画素に、決定されたカラーマスクに基づき１成分で立体モデルを描画する。 - 特許庁

The work recognizing process by the image processor includes a comparison between container bottom images, and a registration of the whole bottom as an image recognizing model or pattern.例文帳に追加

画像処理装置によるワーク認識処理を入れ物の底面画像との比較で行うこと、底面全体を画像認識モデルや図柄として登録してワーク認識処理することも含む。 - 特許庁

In an embodiment, this model defines a pattern of the attenuated sub-band energy of each sub-band moving from the highest level of wavelet decomposition to the lowest level thereof.例文帳に追加

ある実施形態において、このモデルは、ウェーブレットデコンポジションの最も高いレベルからそのデコンポジションの最も低いレベルに動く各サブバンドについての減衰サブバンドエネルギーのパターンを定義する。 - 特許庁