「pattern of damage」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a vacuum chuck wherein the fallout of a work caused by the vacuum break of the whole of its sucking pattern is prevented and failure caused by the damage of the work or by the positional discrepancy of the held work can be eliminated.例文帳に追加

吸着パターン全体の真空破壊によるワークの脱落を防止し、ワークの破損や保持位置のずれによる不良をなくすことができる真空チャックを提供する。 - 特許庁

To provide a printed substrate which resolves a peeling problem of a circuit pattern by widening an area adhered to an insulation layer, minimizes the occurrence of damage to the circuit pattern due to under cut, and realizes the fine circuit pattern, and to provide a manufacturing method of the printed substrate.例文帳に追加

絶縁層との密着面積を広くすることにより、回路パターンの剥離問題を解決し、アンダーカットによる回路パターンの損傷発生を最小化するうえ、微細な回路パターンを実現することができるプリント基板およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

To reflect a result of inspection of damage due to cleaning treatment on manufacture of a semiconductor device by providing a TEG (Test Element Group) having an easy-to-collapse pattern for a semiconductor device having a TEG for inspecting damage due to a cleaning treatment.例文帳に追加

洗浄処理によるダメージを検査するためのＴＥＧを有する半導体装置において、倒壊しやすいパターンを有するＴＥＧを提供し、洗浄処理によるダメージ検査の結果を半導体装置の製造に反映する。 - 特許庁

To provide a pattern forming method and a droplet discharging device capable of avoiding positional deviation of a discharged droplet and thermal damage of a substrate and improving film thickness uniformity of a pattern made from droplets, and to provide a liquid crystal display device using liquid crystal discharged by the droplet discharging device.例文帳に追加

吐出した液滴の位置ズレや基板の熱的損傷を回避させるとともに、液滴からなるパターンの膜厚均一性を向上させたパターン形成方法、液滴吐出装置及び液晶表示装置を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a semiconductor memory element capable of preventing damage of etching by protecting a tunnel insulating film exposed upon a gate pattern etching process.例文帳に追加

ゲートパターンエッチング工程の際に露出するトンネル絶縁膜を保護してエッチング損傷を防止することが可能な半導体メモリ素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a shape monitoring apparatus for monitoring, within a short period of time, a shape of sample having fine pattern such as a semiconductor device with less amount of damage applied to the sample.例文帳に追加

半導体装置のような微細なパターンを有する試料の形状を短時間で観察でき、試料に与えるダメージが小さい形状観察装置を提供する。 - 特許庁

To provide lithography apparatus in which possibility of damage is reduced in the case that a support structure of a substrate and/or a device having a pattern formed thereon are/is collided with an edge of a support surface.例文帳に追加

基板の支持構造および／またはパターン形成デバイスが支持面の縁部に衝突した場合の損傷の危険を低減したリソグラフィ装置を提供すること。 - 特許庁

In the method for evaluating the creep damage of annealed martensite steel, it is evaluated that the life of the annealed martensite steel becomes short as the pattern quality of an electron beam back scattering image becomes high.例文帳に追加

焼戻しマルテンサイト鋼のクリープ損傷評価法として、電子線後方散乱像のパターンクオリティが高くなるほど寿命が短いと評価することを特徴とする。 - 特許庁

To provide etching equipment which is capable of uniformizing the treatment over a fine pattern part and reducing the damage and superior in productivity.例文帳に追加

微細パターン部分についての処理の均一化やダメージを低減させることができ、生産性にも優れるエッチング装置を提供することである。 - 特許庁

To provide an X-ray fluorescence analyzer for semiconductor capable of analyzing a semiconductor sample at a low cost without incurring damage to a circuit pattern.例文帳に追加

低コストで、回路パターンに損傷を与えることなく、半導体試料を分析できる半導体用蛍光Ｘ線分析装置を提供する。 - 特許庁

To provide a pattern correction device with which stable laser welding to eliminate the peeling phenomenon of electrodes and to lessen the damage on a liquid crystal layer is made possible.例文帳に追加

電極の剥離現象がなく、液晶層へのダメージも少ない安定したレーザウエルディングを可能としたパターン修正装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method of dry-etching a low-permittivity interlayer insulating film which brings forth a small CD loss, causes no damage to the film, and is set less pattern-dependent than usual.例文帳に追加

ＣＤロスが小さく、膜ダメージもなく、また、パターン依存性の抑制された低誘電率層間絶縁膜のドライエッチング方法の提供。 - 特許庁

To provide a composition for peeling a photo-resist capable of reusing without the reduction of an essential peeling capability or a damage of a metallic pattern and capable of reducing an expense in a photoetching process.例文帳に追加

実質的な剥離性能の減少や金属パターンの損傷無しに再使用できて、写真エッチング工程の費用を減少させることができるフォトレジスト剥離組成物を提供する。 - 特許庁

To improve plating property for a conductive pattern by removing glass constituent lifted on a conductive pattern on the surface of a substrate accompanying the calcination of a low-temperature calcination ceramic substrate while avoiding damage on the substrate due to chemical treatment.例文帳に追加

化学処理による基板への損傷を回避しつつ、低温焼成セラミック基板の焼成に伴い基板表面の導体パターンに浮き出すガラス成分を除去し、該導体パターンへのめっき性を良好にする。 - 特許庁

To prevent a short circuit with metal lines which ought not be connected by constituting a dummy pattern in a position proximate to the outline of the pattern of the wiring concentrated with a charge and inducing a charge damage by a a charge difference with the adjacent metal lines to the dummy pattern.例文帳に追加

本発明は、チャージが集中する配線のパターン外廓と近接された位置でダミーパターンを構成して隣接されたメタルラインとのチャージディファレンスによるチャージダメージをダミーパターンへ誘導することによって連結してはならないメタルラインとの短絡を防止する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a compact printed wiring board by which damage such as cracking, foil flotation and peeling of a wiring pattern during blanking processing and damage such as breaking and cracking of a projection portion are reduced or eliminated, and to provide the compact printed wiring board.例文帳に追加

打ち抜き加工における配線パターンのクラック、箔浮き、剥がれ等の損傷の発生や、突起部の折れ、割れ等の損傷の発生を軽減又は解消可能な小型プリント配線板の製造方法、及び、小型プリント配線板を提供する。 - 特許庁

To provide a protective film forming material which has low environmental impact, substantially avoids damage to a photoresist pattern, and enables formation of a photoresist pattern having good rectangular geometry, and a photoresist pattern forming method using the protective film forming material.例文帳に追加

環境に与える影響が小さく、かつ、ホトレジストパターンへのダメージが少なく、良好な矩形形状のホトレジストパターンを形成可能とする保護膜形成用材料、及びこの保護膜形成用材料を用いたホトレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

Or else, both end parts of the narrow wiring pattern 43 are used in common with an electric component leg connecting portion of the electric circuit board 2, thereby only the narrow wiring pattern 43 is fused, thus preventing burnout of the other electric components and damage of the other portions.例文帳に追加

あるいは、前記細い配線パターン４３の両端の部分を電気回路基板２の電気部品の脚接続部分と共用することにより細い配線パターン４３のみを溶断し、他の電気部品の焼損や他部の損傷を防止する。 - 特許庁

To provide a functional film pattern forming method in which thermal damage to a substrate is suppressed by attaining reduction of the amount of radiation energy of an electromagnetic wave and equipment of a required light source is made small in size, and to provide a functional film pattern, and electronic equipment.例文帳に追加

電磁波の照射エネルギー量の低減を図り、基板に与える熱のダメージを抑制することができ、必要な光源の設備の小型化を図った機能性膜パターン成膜方法、機能性膜パターン、および電子機器を提供する。 - 特許庁

Since a soluble layer 2 which continuously covers the circumference of a two-layer resist pattern 5 and the whole body of a first thin film 17Z in an area other than the area covered by the two-layer resist pattern 5 is formed, the mold damage of the resist pattern 5 can be suppressed at the time of performing dry etching and the depositing amount of redeposits 9 can also be reduced.例文帳に追加

２層レジストパターン５の周囲と、この２層レジストパターン５によって覆われた領域以外の領域における第１の薄膜１７Ｚとの全体を連続的に覆う可溶層２を形成するので、ドライエッチング時に２層レジストパターン５の型くずれを抑制でき、再付着物９の付着量も低減できる。 - 特許庁

To provide a method for forming a mask including a pattern forming process by lift-off, the method by which a film is accurately patterned while the occurrence of damage to a resist is suppressed.例文帳に追加

リフトオフによるパターンの形成工程を含むマスクの形成方法に関し、膜を精度良くパターニングし、しかもレジストのダメージ発生を抑制すること。 - 特許庁

To obtain a good-quality cast product by preventing the deformation and damage of a lost foam pattern at the embedding time.例文帳に追加

埋設時における消失模型の変形や損傷を防いで良好な品質の鋳造品を得ることができる消失模型鋳造方法を提供する。 - 特許庁

The physical force resulting from a cavitation phenomenon of vapor in the processing solution is relatively small, so damage is suppressed to the fine pattern.例文帳に追加

一方、処理溶液中の水蒸気のキャビテーション現象に起因した物理力は比較的小さいため、微細パターンの損傷の発生が抑制される。 - 特許庁

To provide a method for fabricating electronic apparatus for controlling shape and thickness of fine pattern in higher accuracy with less amount of damage on a device with a simplified process.例文帳に追加

簡単なプロセスで、かつデバイスへのダメージも少なく、微細化されたパターンの形状および膜厚を高精度に制御できる電子装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a defect correction method capable of correcting easily a micro pattern omission defective part, without imparting a damage in the vicinity of the defective part and without generating contamination.例文帳に追加

欠陥部の近傍にダメージを与えたり、汚染することなく、微細なパターン抜け欠陥部を容易に修正することが可能な欠陥修正方法を提供する。 - 特許庁

To provide a molding imprint method capable of stably forming a pattern having a microstructure of a nano order on a substrate with less damage to a mold.例文帳に追加

金型を傷めることが少なくナノオーダーの微細な構造のパターンを基材上に安定して形成することができる注型インプリント法を提供することを目的としている。 - 特許庁

The plasma damage evaluating wafer has a plurality of element forming parts, disposed in a squares pattern on a surface; and one or a plurality of evaluation patterns in the element forming parts.例文帳に追加

プラズマダメージ評価ウェハは、表面に碁盤目状に配置された複数の素子形成区画と、上記素子形成区画に１ないし複数の評価パターンを有する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a magnetic recording medium by which a projecting defect on a substrate surface is reduced and obstruction of pattern formation of a magnetic recording layer and damage of a stamper is prevented.例文帳に追加

基体表面の凸状欠陥を低減し、磁気記録層のパターン形成の阻害、およびスタンパの損傷を防ぐことが可能な磁気記録媒体の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a substrate processing method and a substrate processing apparatus capable of cleaning the surface of a substrate well while minimizing damage on a pattern formed on the surface of the substrate.例文帳に追加

基板表面に形成されたパターンへのダメージを抑制しながら基板表面を良好に洗浄処理することができる基板処理方法および基板処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a printed wiring board which allows easy formation of an upper face pattern and prevents the damage of a bottom section at the time of making a blind via hole by laser and also provide a printed wiring board manufactured by such a method.例文帳に追加

上面パターンの形成が容易で，レーザによるブラインドビアホール開口時の底部の損傷を抑制することができる，プリント配線板及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a master carrier for magnetic transfer, which has a soft magnetic layer free from bridging even in a minute pattern and enables magnetic transfer of high transfer quality with a structure which lessens damage of a pattern edge part and secures the durability.例文帳に追加

微細パターンであってもブリッジングのない軟磁性層を有すると共に、パターンエッジ部の破損が少なく耐久性を確保した構造で、かつ転写品質の高い磁気転写が行える磁気転写用マスター担体を提供する。 - 特許庁

To provide a pattern forming method by which positional deviation of a discharged liquid drop and thermal damage of a substrate are avoided and film thickness uniformity of a pattern comprising a liquid body having high viscosity is enhanced, to provide a liquid drop discharging device and to provide a liquid crystal display device.例文帳に追加

吐出した液滴の位置ズレや基板の熱的損傷を回避して、高い粘度の液状体からなるパターンの膜厚均一性を向上させたパターン形成方法、液滴吐出装置及び液晶表示装置を提供する。 - 特許庁

To provide a liquid drop discharge device which avoids the mispositioning of a discharged liquid drop and thermal damage of a substrate and improves the uniformity of a film pattern consisting of liquid drops, and a liquid crystal display device.例文帳に追加

吐出した液滴の位置ズレや基板の熱的損傷を回避するとともに、液滴からなる膜パターンの均一性を向上させた液滴吐出装置及び液晶表示装置を提供する。 - 特許庁

To provide a circuit board that can avoid damage, shortcircuiting and earth fault of a circuit pattern due to a memory card by a simplified structure even if a through hole is made in an attachment area to form the circuit pattern.例文帳に追加

簡略化された構成により、装着領域にスルーホールを設けて回路パターンを形成しても、メモリカードによる当該回路パターンの損傷並びに短絡及び地絡を回避することができる回路基板を提供する。 - 特許庁

To obtain a TEG(test element group) pattern for evaluating plasma damage which can eliminate the defective blowing out of all fuses and, at the same time, can make all gates to be able to be measured under the same condition without giving any damage to the gates.例文帳に追加

本発明は、すべてのヒューズの切断不備を解消するとともに、測定前のゲートにはほとんどダメージを与えることをなくしてすべて同一の条件下で測定ができるようになるプラズマダメージ評価用ＴＥＧパターンを得る。 - 特許庁

Also, because the end edge part 1a of the TFT array substrate 1 is not directly in contact with the circuit pattern 6 of the TCP 4, the end edge part 1a of the substrate is not scratched, and the damage and the disconnection of the circuit pattern 6 of the TCP 4 produced by stress in folding the TCP 4 is prevented.例文帳に追加

また、ＴＦＴアレイ基板１の端縁部１ａがＴＣＰ４の回路パターン6に直接触れないため、基板端縁部１ａで傷を付けられることも無く、ＴＣＰ４を折り曲げる際の応力により発生するＴＣＰ４の回路パターン６の損傷や断線を防止することができる。 - 特許庁

To provide a pattern drawing apparatus that checks and stocks a mask without conveying it out of the apparatus, whereby contamination and damage of the mask accompanying its conveyance can be prevented.例文帳に追加

マスクを装置の外部に搬送することなく検査及び収納し、それにより、搬送に伴うマスクの汚れや損傷を防止することができるパターン描画装置を提供する。 - 特許庁

A surface temperature distribution of the photographed investigation objective portion 21 is analyzed, and a damaged state of the actual investigation objective portion 21 is judged based on a corresponding damage pattern.例文帳に追加

そして、撮影した調査対象部位２１の表面温度分布が解析され、対応する損傷パターンにより実際の調査対象部位２１の損傷状態が判断される。 - 特許庁

To provide a substrate processing apparatus and a substrate processing method which can remove contaminants adhering to a substrate while preventing the generation of damage such as collapse of finer pattern.例文帳に追加

微細化の進んだパターンの倒壊のようなダメージの発生を防いで、基板に付着した汚染物質を除去することができる基板処理装置および基板処理方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a semiconductor device in which a pattern consisting of a silicone nitride film beyond capability of lithography can be formed by a small heat budget, and without causing plasma damage.例文帳に追加

小さな熱バジェットで、かつプラズマダメージを招くことなく、リソグラフィの能力を超えたシリコン窒化膜からなるパターンを形成することができる半導体装置の製造方法を提供すること。 - 特許庁

To prevent damage on an antenna and prevent a bedside doctor or a patient from being injured by strengthening the entire heating pattern of the antenna by cooling the cautery probe of a microwave apparatus.例文帳に追加

マイクロ波装置の焼灼プローブを冷却することによって、アンテナの全体的な加熱パターンを強化し、アンテナの損傷を防止し、臨床医または患者に対する危害を防止する。 - 特許庁

To perform highly accurate processing in which punch-through of resist and striation due to resist damage are suppressed, in pattern formation by dry etching using a resist after the generation of ArF lithography as a mask.例文帳に追加

ＡｒＦリソグラフィー世代以降のレジストをマスクとしたドライエッチングによるパターン形成において、レジストダメージに起因するレジスト突き抜け及びストライエーションを抑制した高精度加工を行う。 - 特許庁

Thus, a pulse pattern of compression/decompression can be applied to each patient at each different step of treatment, and it herewith conduces the improvement of treatment efficiency in association with the optimization of blood flow and avoidance of the damage inside of the body.例文帳に追加

このようにして、圧迫／減圧のパルスパターンを治療の異なる段階で個々の患者に適応させることができ、これにより、血流の最適化と身体内部損傷の回避の両方に関する治療効果の改善が導かれる。 - 特許庁

To reduce the damage on an insulating film at the periphery and lower part of a short-circuit defective part, when the short-circuit defective part in a wiring pattern is removed, using a focused ion beam.例文帳に追加

集束イオンビームを用いて配線パターンにおける短絡欠陥部を除去した場合における短絡欠陥部の周辺や下部の絶縁膜受けるダメージを低減する。 - 特許庁

To provide a pattern correction method in which an electrode disconnection part or the like can be corrected with a fine line of around 10 μm and a damage and contamination around the defective part are small.例文帳に追加

１０μｍ前後の細線で電極断線部などを修正することができ、かつ、欠陥部周辺のダメージや汚染が小さなパターン修正方法を提供する。 - 特許庁