「pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(950ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a method for forming a resist pattern, with which the reciprocal problem between the resolution and the depth of focus can be solved and a microresist pattern be accurately formed at a sufficiently practical depth of focus than a line width which is sufficient to obtain the depth of focus.例文帳に追加

解像度と焦点深度の相反する問題を解決し、充分に焦点深度が得られる線幅よりも微細なレジストパターンを十分な実用焦点深度をもって高精度に形成することができるレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

At least one kind selected from a means 7 for bringing an adhesive roller into contact with a wiring pattern surface, a means 8 for spraying air to the wiring pattern surface or an attraction means 9 by magnetism can be used for removal operation of deposited contaminations.例文帳に追加

付着異物の除去操作のためには、粘着ローラーを配線パターン面に接触させる手段７、エアーを配線パターン面に噴き付ける手段８又は磁力による吸着手段９のうちから選ばれた少なくとも一種を用いることができる。 - 特許庁

To obtain a process for producing a semiconductor product in which pattern dimensions are brought close to the target dimensions when a resist pattern is formed by a double exposure method, and light exposure is corrected individually for two sheets of masks by correcting the light exposure while relating respective correction quantities with each other.例文帳に追加

半導体製品の製造方法に関し、二重露光法でレジスト・パターンを形成する場合、２枚のマスクに対する露光量を別個に補正する際、それぞれの露光量に於ける補正量を関連させて補正し、パターン寸法を目標に近付ける。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor device which avoids damaging a conductive pattern containing a metal material such as Cu wirings, etc. and a layer insulation film having the material buried therein, and removes a natural oxide film on the conductive pattern.例文帳に追加

Ｃｕ配線などの金属材料を含有する導電性パターンとこれを埋め込む層間絶縁膜に対してダメージを生じさせることなく、導電性パターン表面の自然酸化膜を除去することが可能な半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

A control pattern determiner 13 automatically determines the control pattern of a cooling water pump 26 so as to enlarge the temperature difference ΔT when the temperature difference ΔT is small, and so as to raise the generation efficiency when the temperature difference ΔT is large, based on the temperature difference ΔT.例文帳に追加

制御パターン決定部１３は、温度差ΔＴに基づいて、温度差ΔＴが小さい時には温度差ΔＴを大きくするように、温度差ΔＴが大きい時には発電効率を高めるように、冷却水ポンプ２６の制御パターンを自動的に決定する。 - 特許庁

When forming is conducted to a work W by striking a punch P with a ram 15 in cooperation with a die D, an elevation control means 39 elevates and lowers the ram 15 by an elevating means 17 in accordance with a working pattern stored in a working pattern memory part 43.例文帳に追加

ラム１５によりパンチＰを打撃してダイＤとの協働によりワークＷに成形加工を行う際に、昇降制御手段３９は加工パターン記憶部４３に記憶されている加工パターンに従って昇降手段１７によりラム１５の昇降を行う。 - 特許庁

The optical image of the mask is acquired and the shift quantity of the best focus position from the center of the focus of the halftone mask part 10a when the center of the focus of the light shielding pattern parts 10b as an origin is derived and the evaluation of the phase difference in the real pattern is executed.例文帳に追加

そして、このマスクの光学像を取得し、遮光膜マスク部１０ｂのフォーカスの中心を原点としたときの、ハーフトーン膜マスク部１０ａのフォーカスの中心からのベストフォーカス位置のシフト量を導出して、実パターンでの位相差の評価を行う。 - 特許庁

The color image forming apparatus includes a phase control means for changing the phase of a pattern image forming position for every rotating cycle of a rotating body 5, regarding the pattern image forming position between papers on the rotating body 5, that is, in a gap between an image processing area on a preceding page and an image processing area on a succeeding page.例文帳に追加

先行ページの画像処理エリアと後行ページの画像処理エリアとの間となる回転体５上の紙間におけるパターン画像の形成位置について、その位相を回転体５の回転周期毎に異ならせる位相制御手段を備える。 - 特許庁

In a reflective lithographic projection apparatus, shifts of a mask pattern image in the scanning direction, which are caused by changes in the position of the mask pattern surface along the optical axis, are corrected by shifting the relative position(s) of the mask and/or a substrate in the scanning direction.例文帳に追加

反射型リソグラフィ投影機器において、光軸に沿ってマスクのパターン表面の位置が変動することによって生じるマスクのパターン像の走査方向のシフトを、マスクおよび／または基板の相対位置を走査方向にシフトすることによって補正する。 - 特許庁

To provide a negative type resist composition which is used to manufacture a circuit board of a semiconoductor element such as an IC, a liquid crystal display device, a thermal head, etc., and further for lithography processes of other photofabrication, and is not apt to have film reduction and pattern collapse, and a pattern forming method.例文帳に追加

ＩＣ等の半導体素子、液晶表示装置、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにはその他のフォトファブリケーションのリソグラフィ工程に用いられる、膜減りしにくく、パターン倒れしにくいネガ型レジスト組成物およびパターン形成方法の提供。 - 特許庁

Namely, the CPU for display control stores a varying pattern from the timing of (1) to the timing of (5) and when the CPU for display control receives one display controlling command instructing the start of varying, the varying pattern from the timing of (1) to the timing of (5) is realized.例文帳に追加

すなわち、表示制御用ＣＰＵは のタイミングから のタイミングまでの間の変動パターンを記憶し、表示制御用ＣＰＵが、変動開始を指示する１つの表示制御コマンドを受信すると、 のタイミングから のタイミングまでの間の変動パターンを実現する。 - 特許庁

When there is nondefect in the first and second transfers 150a, 150b, a specified pattern is displayed on the liquid crystal panel, however, when there is defect in the first or second transfer 150a or 150b, a pattern different from that in the normal state is displayed.例文帳に追加

第１及び第２のトランスファー１５０ａ，１５０ｂに欠陥がないときには液晶パネルに特定のパターンが表示されるが、第１のトランスファー１５０ａ又は第２のトランスファー１５０ｂに欠陥がある場合は、正常時と異なるパターンが表示される。 - 特許庁

This method for manufacturing the stamper comprises a step of making the surface of a positive photoresist layer insolubilize, on which a latent image having the prescribed pattern is formed by exposing it to a laser beam, by treating it with a low-concentration alkaline developer and a step to furthermore develop the latent image by using the alkaline developer to form the prescribed pattern.例文帳に追加

レーザー光の露光により所定パターンの潜像が形成されたポジ型フォトレジスト層の表面を低濃度のアルカリ現像液で処理することにより、フォトレジスト層の表面を難溶化した後、さらにアルカリ現像液で現像してパターン形成を行う。 - 特許庁

An FPC 1 is so formed that a wiring pattern 12 including an earth wire is formed on one surface of a flexible insulating film 11, and a hole 13 for mounting them to the support 2 is formed through the wiring pattern 12 and the flexible insulating film 11.例文帳に追加

ＦＰＣ１は、可撓性絶縁フィルム１１の一方の面にアース線を含む配線パターン１２が形成されると共に、支持体２への取付用の穴１３が配線パターン１２及び可撓性絶縁フィルム１１を貫通するように形成されたものである。 - 特許庁

METHOD AND DEVICE FOR LEARNING VOICE PATTERN MODEL, COMPUTER READABLE RECORDING MEDIUM WITH VOICE PATTERN MODEL LEARNING PROGRAM RECORDED, METHOD AND DEVICE FOR VOICE RECOGNITION, AND COMPUTER READABLE RECORDING MEDIUM WITH ITS PROGRAM RECORDED例文帳に追加

音声パターンモデル学習装置、音声パターンモデル学習方法、および音声パターンモデル学習プログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体、ならびに音声認識装置、音声認識方法、および音声認識プログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体 - 特許庁

To speedily and highly precisely draw a pattern by improving drawing quality without increasing the quantity of drawing data when a pattern is drawn on a substrate by performing a multiple exposure using a spatial optical modulator in which a plurality of mirrors are arrayed in two directions orthogonal to each other.例文帳に追加

複数のミラーを直交する二方向に配列した空間的光変調器を用い、多重露光を行って基板にパターンを描画する際、描画データの量を増やすことなく描画品質を向上させて、高速かつ高精細にパターンの描画を行う。 - 特許庁

When password step-out is recognized and the re-transmission processing of a password synchronous pattern for password re-synchronism is executed on a reception side, the reception side outputs password pattern data to a communication line 7 instead of sound encoding data which is transmitted till then.例文帳に追加

また、タイマーを起動して、一定時間内に音声フレーム同期が再確立したかを判定することで、送受信側双方の回線で暗号同期外れが発生しても、一定時間後に、双方の暗号再同期を確立して、暗号通話を再開する。 - 特許庁

The photomask includes: a pattern of a light transmission part 31 formed on an emission surface side of a transparent substrate; inclined planes 21 and 22 formed on the transparent substrate part corresponding to the pattern on an irradiation surface; and further a gray scale film formed on the light transmission part.例文帳に追加

透明基板の出射面側に、光透過部３１のパターンが形成され、照射面の前記パターンに対応した透明基板部位に斜面２１、２２が形成され、あるいは、さらに光透過部に、グレースケール膜が形成されていることを特徴とするフォトマスク。 - 特許庁

As an alternative means to employ an infusion port of a fixed transdermal proximity pattern, a prescribed system to modulate the stream of the saline solution of a complete implant pattern can depend on carrying out pump supply in two orientations of fluid from a prescribed transplanting device.例文帳に追加

一定の経皮的接近型の注入ポートを使用する代替手段として、完全に移植型の塩類溶液の流れを調節するための一定のシステムは一定の移植装置からの流体を二方向にポンプ送給することに依存できる。 - 特許庁

The search unit 13 searches the image including the mark WM by using the template created by the creating unit 9, and determines whether there is a pseudo pattern, other than the pattern of the mark WM, whose degree of matching with the template is higher than a reference value.例文帳に追加

サーチ部１３は、検出すべきマークＷＭを含む画像を生成部９によって生成されたテンプレートを用いてサーチし、検出すべきマークＷＭのパターン以外にテンプレートとのマッチング度が基準値より高い偽パターンが存在するか否かを判断する。 - 特許庁

In this image processor 20, a pattern sheet 80 having a plurality of patches obtained by varying a quantity of each element color is formed under a condition of constant brightness in each gradation of a plurality of gradations and the pattern sheet is output by an image output device 30.例文帳に追加

本発明による画像処理装置２０によれば、まず、複数階調の各階調において、明度一定の条件の下で、各要素色の量を変化させた複数のパッチを有するパターンシート８０が生成され、画像出力装置３０によって出力される。 - 特許庁

In the printed matter 1 in which a face image 2 being a multiple value image, a letter 3 and a pattern 4 are respectively printed, the face image 2 is printed by embedding the pattern 4 printed on the printed matter 1 as a binary image 5 so as to be hardly perceived by a human being.例文帳に追加

多値画像である顔画像２、文字３、および、模様４をそれぞれ印刷した印刷物１において、顔画像２は、人間に知覚され難いように、当該印刷物１に印刷される模様４を２値画像５として埋め込んで印刷されている。 - 特許庁

As a result, since a slight difference between the peaks of the standard pattern and the measurement pattern, and the acuities of the peaks, are used as information, this method can identify the material of the object with higher accuracy than conventional material identification methods which use only the positions of the peaks as information.例文帳に追加

この結果、標準パターンおよび測定パターンのピークの若干のずれ、また、ピークの鋭敏度などを情報とするので、ピークの位置のみを情報とする従来の材質識別方法と比較して、さらに正確に対象物の材質を識別することができる。 - 特許庁

When the negative pattern is superposed on a plurality of shot positions on the wafer and exposure is carried out, mark positions at a plurality of specific shot positions among the plurality of shot positions are measured, and correction amounts are computed based on the statistical treatment of the measured values to carry out the alignment between the negative pattern and the wafer.例文帳に追加

原板パターンをウエハ上の複数ショット位置に重ね合わせ露光する際、複数のショット位置のうち複数の特定ショット位置におけるマーク位置を計測し、計測値の統計処理から補正量を計算し原板とウエハの位置合わせを行う。 - 特許庁

By displaying the stored number of actuations in a predetermined index area D of a display screen of a pattern display device 6, it is possible to display the stored number of actuations in a display area of the pattern display device 6 which is gazed with the most interest by a player during a play.例文帳に追加

図柄表示装置６の表示画面の所定指標領域Ｄに始動記憶数を表示することにより、遊技者が遊技中に最も注視する図柄表示装置６の表示領域に始動記憶数を表出することが可能となる。 - 特許庁

A Robochan (a robot) that is a character is indicated and carries out performance movement relating to pattern fluctuation when the pattern fluctuation becomes ready-to-win wings 10b are opened synchronized with the Robochan performance movement for opening wings 10b in a pachinko game by a player.例文帳に追加

遊技者がパチンコ遊技において、図柄変動がリーチとなった場合に、キャラクタであるロボちゃんが表示され図柄変動に関する演出動作を行ない、さらに、ロボちゃんが羽根１０ｂを開放する旨の動作を行なうことに同期して、羽根１０ｂが開放する。 - 特許庁

By consolidating all calculations for balance maintenance of the robot into a single walking pattern calculation, a walking pattern generating function and an adaptive control function can efficiently work together and also the consistency of dynamic models is assured and the interference between the respective dynamic models is removed.例文帳に追加

機体のバランス維持に係るすべての計算を単一の歩行パターン演算に集約させることにより、歩容生成機能と適応制御機能を効率的に両立させるとともに、力学モデルの一貫性を保証し、各力学モデル間の干渉を取り除く。 - 特許庁

An arbitrary design pattern is copied on the surface side of a fabric 1 by a copying machine 2 using a toner, a transparent transfer foil 7 is piled on a fabric 1A after copy processing and the foil is transferred by a hot-stamping method by using the toner of copied design pattern as a binder.例文帳に追加

布帛１の表面側に、トナーを使用する複写機２で任意の意匠模様を複写し、この複写加工後の布帛１Ａに透明転写箔７を重ね合わせ、複写意匠模様のトナーをバインダーとして、ホットスタンピング法により箔を転写する。 - 特許庁

Since the permissible range of the energy is narrow with the photosensitive material, such as the X-ray film 12, the formation of the dot pattern at the point of the time the transient period is past by the previous irradiation with the laser beam LB is extremely effective in forming the dot pattern of the adequate shape.例文帳に追加

Ｘレイフィルム１２等の感光材料では、エネルギーの許容範囲が狭いため、予めレーザービームＬＢを照射して過渡期を過ぎた時点でドットパターンを形成することは、適正な形状のドットパターンを形成する上で非常に有効である。 - 特許庁

The first inspection pattern 210 is set to three connection verification electrodes 211-213 that are arranged at an equal pitch with a group of connection electrode terminals 10 and 20, and the connection verification electrodes 211 and 213 being located at both the left and right ends are connected by a connection wiring pattern 214.例文帳に追加

第１検査パターン２１０は、接続電極端子群１０，２０と等ピッチに配列された３本の接続確認電極２１１〜２１３とし、その左右両端に位置する接続確認電極２１１，２１３間を接続配線パターン２１４で接続する。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition having no coloring but high transmittance for visible light and easily forming a transparent hardened resin pattern of the objective feature, and to provide a transparent hardening resin pattern with high controlling property of the profile formed by using the above composition.例文帳に追加

着色がなく可視光に対する高い透過率を有し、目的とする形状の透明硬化樹脂パターンを容易に形成できる感放射線性樹脂組成物と、それを用いて形成された、プロファイル制御性のよい透明硬化樹脂パターンを提供する。 - 特許庁

The sub-control device 29 is used as a pattern display/voice/lamp control means for performing pattern display control, lighting control of the display lamp and an LED arranged at a game board surface, and voice control in response to the control command transmitted from the main control device 28.例文帳に追加

サブ制御装置２９が、メイン制御装置２８から送られた制御指令に応じて、図柄表示制御と、遊技盤面に配備した表示ランプ及びＬＥＤの点灯制御と、音声制御とを行う図柄表示・音声・ランプ制御手段とする。 - 特許庁

This stencil mask is provided with: a support formed with an opening; an etching stopper layer pattern-formed on the support; and a thin film formed with a transfer penetration pattern on the etching stopper layer wherein the surface or the whole surface of the support part and the thin film is oxidized.例文帳に追加

開口部が形成された支持部と、支持部上にパターン形成されたエッチングストッパ層と、エッチングストッパ層上に転写貫通パターンが形成された薄膜層と、を備え、支持部及び薄膜層の表面もしくは全面が酸化されたことを特徴とするステンシルマスク。 - 特許庁

To provide a method and an apparatus for checking capable of uniformly illuminating a image pickup range, when picking up image and checking a stereoscopic pattern to be checked by a one-dimensional CCD image pickup element and obtaining a proper image of the pattern to be checked on a work.例文帳に追加

立体的な検査対象パターンを１次元ＣＣＤ撮像素子で撮像して検査する際に、撮像範囲に対して均等に照明できてワーク上の検査対象パターンの適正な画像を得ることができる検査方法及び装置を提供する。 - 特許庁

In the master model wherein a tread pattern is formed to the surface of a model substrate and a large number of uneven parts are formed to the surfaces of the blocks or ribs of the tread pattern, a large number of uneven parts are provided by bonding a molding tape 3 having uneven parts to the surfaces of the blocks or ribs.例文帳に追加

モデル基材の表面にトレッドパターンを形成すると共に、該トレッドパターンのブロック又はリブの表面に多数の凹凸を形成したマスターモデルであり、前記多数の凹凸を該凹凸を有する成形テープ３を前記ブロック又はリブの表面に貼着する。 - 特許庁

This single steel filament 1 longitudinally having wave pattern kinks in about spiral or flat form has 0.25-0.40 mm filament diameter, 2,900-4,000 N/mm^2 tensile strength and 150-180 GPa Young's modulus after imparting the above wave pattern kinks.例文帳に追加

長手に亘り略螺旋状あるいは略平面状の波形くせを有する単線１において、線径が０．２５〜０．４０ｍｍで引張強度が２９００〜４０００Ｎ／ｍｍ^２であり、かつ上記波形くせを施した後の縦弾性係数が１５０〜１８０ＧＰａである。 - 特許庁

In the hologram master plate 10 for duplication which has an interference fringe pattern 3 consisting of a light shielding material on the surface of a transparent substrate and which has a transmittance controlling layer 5 on the interference fringe pattern 3, a metal thin film is used as the transmittance controlling layer 5.例文帳に追加

透明基板１の表面に遮光材料からなる干渉縞パターン３が設けられ、その干渉縞パターン３上に透過率調整層５が設けられた複製用ホログラム原版１０において、透過率調整層５として金属薄膜が用いられている。 - 特許庁

The silicon mask M for depositing a thin film having a prescribed pattern for a substrate to be formed with the film has an opening 20 corresponding to the prescribed pattern and a detection section 15 where the forming state when forming the opening 20 is detectable on a silicon base material S.例文帳に追加

被成膜基板に対して所定パターンを有する薄膜を形成するためのシリコンマスクＭが、シリコン基材Ｓ上に、所定パターンに対応する開口部２０と、開口部２０を形成する際の形成状態を検知可能な検知部１５と、を備える。 - 特許庁

A comparison pattern calculating section 6 extracts a first specific portion and a second specific portion on a captured image outputted from a camera 2 and calculates a comparison pattern by modeling a positional relation between these extracted first and second specific portions.例文帳に追加

比較パターン算出部６は、カメラ２から出力された撮像画像上において、第１の特定部位と第２の特定部位とを抽出し、これらの抽出された第１の特定部位と第２の特定部位との位置的関係をモデル化した比較パターンを算出する。 - 特許庁

The occurrence frequency of combinations of document data occurring after the execution of sequential pattern extraction is determined (especially, only the occurrence frequency of patterns of length 2 in the sequential pattern extraction is determined), and similarity between the document data is calculated according to the determination.例文帳に追加

そして、シーケンシャルパターン抽出を実行した結果出現する文書データの組み合わせの発生回数を判定（特に、シーケンシャルパターン抽出において、長さ２のパターンの発生回数のみを判定）し、判定結果に基づいて、各文書データ間の類似度を計算する。 - 特許庁

A detection block determines whether the digital audio signal includes a predetermined frequency band, depending on whether the change pattern of the sampling data of the input digital audio signal matches a predetermined pattern, and the determined result is output to a switching section.例文帳に追加

一方、検出ブロックは、入力されるデジタルオーディオ信号のサンプリングデータの変化パターンが所定のパターンと一致するか否かにより、そのデジタルオーディオ信号が所定の周波数帯域を含むものであるか否か判定し、判定結果を切換え部に出力する。 - 特許庁

A comparison section 103 outputs a match signal s103a when a syndrome pattern matching the syndrome S101 exists in a syndrome table 102, and outputs a no-match signal S103b when no syndrome pattern matching the syndrome S101 exists.例文帳に追加

比較部１０３は、シンドロームテーブル１０２の中にシンドロームＳ１０１に一致するシンドロームパターンが存在する場合には一致信号Ｓ１０３ａを出力し、シンドロームＳ１０１に一致するシンドロームパターンが存在しない場合には不一致信号Ｓ１０３ｂを出力する。 - 特許庁

In order to obtain a high acceleration and high traveling speed of a pattern support or a substrate table of a lithography apparatus, one of the pattern support and the substrate table is supported by an actuator for relatively larger displacement, and the actuator for accurately positioning is dispensed with.例文帳に追加

リソグラフィ装置のパターン支持又は基板テーブルの高い加速度及び高い移動速度を可能にするために、パターン支持と基板テーブルの一方が比較的大きい変位用のアクチュエータによって支持され、正確に位置決めするためのアクチュエータが省かれる。 - 特許庁

The projector 1 as the master gathers enlarged images of divided test patterns from the slave projectors 2 to 4 and puts the gathered images of test patterns and the image of a test pattern that the master projector 1 itself take partial charge of together into an image of one test pattern.例文帳に追加

マスタのプロジェクタ１は、分割されたテストパターンを拡大した画像を、スレーブのプロジェクタ２乃至４から収集し、収集したテストパターンの画像と、マスタのプロジェクタ１自身が担当するテストパターンの画像とを合成して、一つのテストパターンの画像とする。 - 特許庁

A laser beam detection means is provided for a laser beam generation means for forming the forgery prevention tracking pattern or a laser beam generation means for simultaneously scanning by using the same surface of the rotary polygon mirror with the laser beam generation means for forming the forgery prevention tracking pattern.例文帳に追加

レーザビーム検出手段を、偽造防止追跡パターンを生成するレーザビーム生成手段、又は偽造防止追跡パターンを生成するレーザビーム生成手段と同じ回転多面鏡の面によって同時に走査するレーザビーム生成手段に対して設ける。 - 特許庁