「process defect」に関連した英語例文の一覧と使い方(3ページ目) - Weblio英語例文検索

The substrate, similar to the layer defect distributions in the in-line inspection process 10e to the final defect distribution 26a, is extracted from the substrates through the in-line inspection process 10e.例文帳に追加

そのインライン検査工程１０ｅを経た基板の中から、その最終欠陥分布２６ａに対してそのインライン検査工程１０ｅでのレイヤ欠陥分布が類似しているような基板を抽出する。 - 特許庁

To facilitate specification of a trouble caused by an inspection equipment or process by performing defect distribution state analysis based on defect data detected by the inspection equipment in the production process of a semiconductor substrate.例文帳に追加

半導体基板の製造工程において、検査装置によって検出された欠陥データに基づいて欠陥分布状態解析を行い、装置あるいはプロセス起因の不良原因の特定を容易にする。 - 特許庁

To provide a semiconductor package preventing a defect from occurring easily in the formation process of a resin package.例文帳に追加

樹脂パッケージの形成過程で欠陥が生じにくい半導体パッケージの提供を課題としている。 - 特許庁

To detect a defect caused by interference of bit lines without decreasing the number of simultaneous measuring in a selection process.例文帳に追加

選別工程での同時測定数を減らすことなく、ビット線の干渉による不良を検出する。 - 特許庁

The unevenness defect detecting method has an unevenness component emphasizing processing process for applying an unevenness component emphasizing filter to each of the pixels of a photographed image to emphasizing unevenness components and an unevenness defect detecting process for detecting the uneven defect on the basis of the unevenness components emphasized value of each of the pixels obtained in the unevenness component emphasizing processing process.例文帳に追加

ムラ欠陥検出方法は、撮像した画像の各画素に対してムラ成分強調フィルタをかけてムラ成分を強調するムラ成分強調処理工程と、前記ムラ成分強調処理工程で得られた各画素のムラ成分強調値に基づいてムラ欠陥を検出するムラ欠陥検出工程とを有する。 - 特許庁

To prevent a process defect such as staining caused when a substrate is coated with a color filter composition.例文帳に追加

カラーフィルター組成物を基板に塗布するとき発生する染みなどの工程不良の発生を防止する。 - 特許庁

To provide a process cartridge in which the charging hysteresis of an image preserving body is suppressed and the image defect is suppressed.例文帳に追加

像保持体の帯電履歴が抑制され、画像欠陥が抑制されるプロセスカートリッジを提供する。 - 特許庁

To detect an existing defect on a substrate or a panel, a defect confirmed after a mounting process, or a possible future defect, and to correct them according to detected defect modes, in an active matrix substrate or an active matrix liquid crystal display panel.例文帳に追加

アクティブマトリクス基板、又はアクティブマトリクス液晶パネルにおいて、基板又はパネルに発生している欠陥、実装工程後に確認される欠陥、或いは将来欠陥となる恐れのある欠陥を検出し、検出した欠陥モードに応じた修正を行う。 - 特許庁

In this process, a defect is detected by comparing a basic inspection image obtained from the basic pattern formed in the basic pattern region of the mask for inspection of pattern defect detection sensitivity with a defect reference image produced by image processing based on the design data of the defect pattern.例文帳に追加

この際、パターン欠陥検出感度検査用マスクの基本パターン領域に形成された基本パターンから取得した基本検査画像と、欠陥パターンの設計データを基に画像処理により生成した欠陥参照画像とを、比較して欠陥を検出する。 - 特許庁

The edge defect enhancement process applies the edge defect enhancement filter in directions D1-D3, and considers the maximum of the enhancement calculation values obtained in the directions D1-D3 as a defect enhancement value at the object pixel A.例文帳に追加

エッジ欠陥強調工程は、方向Ｄ１〜Ｄ３毎にエッジ欠陥強調フィルタを適用し、方向Ｄ１〜Ｄ３毎に得られた強調算出値の最大値をその対象画素Ａにおける欠陥強調値とする。 - 特許庁

In this constitution, the electric defect position data at an IC memory obtained in a semiconductor IC tester, can be converted to the real coordination, and the defect position data can be compared with defect data of productive process.例文帳に追加

この構成により、半導体ＩＣ試験装置にて取得したＩＣメモリの電気的な不良位置の情報を実座標に変換することができ、製造プロセスの欠陥データと比較することが可能となる。 - 特許庁

To reduce manufacturing costs by simplifying the manufacturing process of a semiconductor element and to improve the reliability and process yield of the semiconductor element by preventing the defect in the process.例文帳に追加

半導体素子の製造工程を単純化することにより製造原価を節減し、工程の欠陥を防止することにより半導体素子の信頼性及び工程収率を向上させる。 - 特許庁

In this system, appearance defect information detected by the visual examination device and electrical defect information detected by a probe examination device are collated with a review process threshold and review- processed by an edition process means.例文帳に追加

外観検査装置で検出される外観的な欠陥情報およびプローブ検査装置で検出された電気的な欠陥情報を見直処理しきい値に照らして編集処理手段で見直処理すること。 - 特許庁

To reduce the overlook of a common defect in a die comparison system and a post-process due to double counting of the defect existing in a reference image after inspection and realize an efficient inspection.例文帳に追加

ダイ比較方式の共通欠陥の見逃し、及び参照画像に存在する欠陥のダブルカウントによる検査後処理を軽減し、効率的な検査を実現する。 - 特許庁

To provide a display device and a defect restoration method of display device, capable of surely restoring a defect by suppressing movement of air bubbles, when applying laser beams for defective pixel produced in a manufacturing process.例文帳に追加

製造工程中で発生した欠陥画素について、レーザ光を照射した場合の気泡の移動を抑制し、確実に欠陥を修復することを目的とする。 - 特許庁

To reduce the time and cost loss required for defect extraction by quickly specifying commodities using defective components in the case of the occurrence of a defect in a manufacturing process.例文帳に追加

生産工程で不良が発生した場合に、迅速に不良部品を使用した商品を特定し、不良を抽出する時間及び費用ロスの削減を図る。 - 特許庁

After the other process is completed, defects of the wafer W are observed so as to identify the defects again by the defect observation apparatus 3 based on the initial defect identification data.例文帳に追加

そして、別のプロセスが終了した後、欠陥観察装置３により初期欠陥識別データを基にしてウェハＷの欠陥を観察し、再び欠陥の識別を行う。 - 特許庁

To provide a system and a method for pattern defect inspection which can speed up detailed analysis of detected pattern defect in semiconductor circuit pattern formation process, by skipping visual reinspection through a review device.例文帳に追加

半導体回路パターン形成工程において、レビュー装置による目視再検査を省略して、検出したパターン欠陥の詳細な解析を迅速化する。 - 特許庁

In the temperature descending process, the zigzag defect 15c can be efficiently decreased by an interaction of an alignment regulating force with a peripheral normal part of the zigzag defect 15c.例文帳に追加

この降温過程で、ジグザグ欠陥部１５ｃの周辺正常部との配向規制力の相互作用によりジグザグ欠陥部１５ｃを効率良く減少させることができる。 - 特許庁

In a correction process S16, a position of the unit region including the defect in the second stage by position coordinate, is specified and the defect of the unit region is corrected.例文帳に追加

修正工程Ｓ１６では、位置座標によって第２のステージにおける欠陥を含む単位領域の位置を特定し、単位領域の欠陥を修正する。 - 特許庁

Record of an inspection result in the preceding process is displayed on the outside development displayed for the input, and the display of the input of the outside inspection result of the defect in the own process is made different from the display of the inspection result in the preceding process such that the operator can decide whether the defect inputted in the own process is generated in the own process or in the preceding process.例文帳に追加

入力用として表示してなる外観展開図上に、前工程における検査結果の記録を表示しておき、前記オペレータが自工程で入力する欠陥について、自工程で発生したものか、前工程で発生したものかを判別できるように、自工程での欠陥の外観検査結果の入力を、前工程での検査結果の表示とは異なる表示とする。 - 特許庁

To suppress the defect in a process caused by static electricity in the surface of a substrate by suitably controlling the electrified state of the substrate in accordance with the kind of a wet process.例文帳に追加

基板の帯電状態を、湿式プロセスの種類に合わせて適切にコントロールすることで、基板表面の静電気によるプロセス不良を抑制する。 - 特許庁

To reduce process defect of a refrigerant tube in a manufacturing process of the refrigerant tube, with respect to a heat exchanger having the bent refrigerant tube continuously meandering.例文帳に追加

連続蛇行曲げした冷媒チューブを有する熱交換器において、冷媒チューブの製造工程における冷媒チューブの工程不良を低減する。 - 特許庁

To provide a semiconductor memory device and its test method in which a defect relieving process using an anti-fuse and a time required for its test process can be shortened.例文帳に追加

アンチヒューズを用いた不良救済工程及びそのテスト工程に要する時間を短縮できる半導体記憶装置及びそのテスト方法を提供する。 - 特許庁

To manufacture a gallium nitride-based compound semiconductor substrate which eliminates a device process such as a transverse-direction growth process or the like to the substrate and whose defect is low.例文帳に追加

基板への横方向成長等のデバイス工程を無くした低欠陥である窒化ガリウム系化合物半導体基板を製造できるようにする。 - 特許庁

To provide a production method for capacitor, with which the yield of device is prevented from being lowered by reducing a defect caused by the complexity of process in a capacitor separating process.例文帳に追加

キャパシタ分離工程時に工程の複雑さによって発生する欠陥を減じ、素子の収率低下を防止したキャパシタの製造方法を提供する。 - 特許庁

To achieve a process without overetching or insufficient etching and a process with high accuracy in surplus defect correction of a photomask by using atomic force microscope techniques.例文帳に追加

原子間力顕微鏡技術を用いたフォトマスクの余剰欠陥修正でオーバーエッチや削り残しのない加工や高精度な加工を実現する。 - 特許庁

NG surface information obtained in the defect inspection process of a magnetic disk substrate is drawn onto the magnetic disk substrate to be discriminated in a subsequent film-forming process.例文帳に追加

磁気ディスク基板の欠陥検査工程で得られたＮＧ面情報を磁気ディスク基板に描画して後の成膜工程で判別できるようにする。 - 特許庁

If a defect is found, an inferiority signal is sent to a manufacturing packaging process of the package of the heat seal or the like.例文帳に追加

不良が認められると、不良信号をヒートシール包装体の製造包装工程などに発信する。 - 特許庁

To provide a defect inspecting device and method capable of reducing a lead time of manufacturing process.例文帳に追加

製造工程のリードタイムを短縮することができる欠陥検査装置および欠陥検査方法を提供する。 - 特許庁

The wall surface image is picked up by the image pickup device 6 and a defect determining process is carried out by the image processing device 7.例文帳に追加

この壁面像を撮像装置６で撮像して画像処理装置７で欠陥判定処理を行う。 - 特許庁

Thus, socket cover can be omitted so that frequencies of defect generation can be reduced in an automatic assembling process.例文帳に追加

従って、ソケットカバーを省略でき自動組立工程における不良発生頻度を減らすことができる。 - 特許庁

Defect is hard to generate in a film formed by a radical nitriding process in comparison with oxynitride film by CVD method.例文帳に追加

ラジカル窒化処理により形成された膜は、ＣＶＤ法による窒化膜に比べて、膜中に欠陥が生じにくい。 - 特許庁

To provide a manufacturing system and a method of a plasma display panel, capable of conquering a defect of a conventional manufacturing process.例文帳に追加

従来の製造工程の欠点を克服できるプラズマディスプレイパネルの製造システムと方法を提供する。 - 特許庁

To provide a level shift circuit capable of coping with the case of a manufacturing defect caused in a capacitive element in a manufacturing process.例文帳に追加

製造プロセスの容量素子に製造欠陥が生じた場合に対応可能なレベルシフト回路を提供する。 - 特許庁

A detection rate is calculated in every of the defects based on whether the same defect is detected in a plurality of differential images or not, based on a result in a process for detecting the defect on a surface of the silicon wafer, and the shape of the defect is identified in the every defect on the surface of the silicon wafer, according to the detection rate.例文帳に追加

シリコンウエハ表面上の欠陥を検出する工程の結果から、同一の欠陥が複数の差分画像から検出されたかにより欠陥毎に検出率を算出し、前記検出率に従って前記シリコンウエハ表面上の欠陥毎に該欠陥の形状を識別する。 - 特許庁

And the defect detecting operation to select a pixel with large dark output level as the defective pixel is carried out by analyzing image information after compensating the defect based on the initial defect data by the digital process 108.例文帳に追加

そして、初期欠陥データに基づいて欠陥補償された後の画像情報をディジタルプロセス１０８で解析することにより、暗出力レベルの大きい画素を欠陥画素として選択するための欠陥検出動作が実行される。 - 特許庁

To specify a process of generating a defect, or to detect the defect, even in an area that is not formed with a repeeated pattern on a wafer surface, when detecting the defect appearing on the semiconductor wafer surface by visual inspection.例文帳に追加

外観検査により半導体ウエハの表面に現れる欠陥を検出する際に、欠陥を生じた工程を特定する、或いはウエハ表面に繰り返しパターンが成形されていない領域においても欠陥を検出する。 - 特許庁

To provide a defect detector suitable for detecting a defect, such as a void on the bonded interface of transparent substrates composed of a compound semiconductor, which are bonded directly, and a defect detection system capable of surely removing the defect portion in a chip appearance inspection after chip process completion and a defect detection method.例文帳に追加

直接接合により貼り合わされた化合物半導体からなる透明基板の貼り合わせ界面のボイド等の欠陥を検出するのに好適な欠陥検出装置、更にチッププロセス終了後のチップ外観検査において該不良部を確実に取り除くことができる欠陥検出システムおよび欠陥検出方法を提供する。 - 特許庁

Moreover, as this method for inspecting water stain deposited on a transparent film, a water stain inspection method is used which is characterized by comprising a water stain imaging process for imaging the water stain, a contrast improvement process for improving the contrast of the water stain, and a defect determination process for determining the water stain to be a defect.例文帳に追加

また、透明フィルムに付着した水しみを検査する方法において、水しみを撮像する水しみ撮像工程、水しみのコントラストを改善するコントラスト改善工程、水しみを欠陥として判定する欠陥判定工程を有することを特徴とする水しみ検査方法を用いる。 - 特許庁

The manufacturing method of an electrophotographic photoreceptor includes at least the inspection process 101, and the inspection process includes at least a defect detection process 102 of detecting a defective part of an electrophotographic photoreceptor.例文帳に追加

電子写真感光体の製造方法は検査工程１０１を少なくとも含み、検査工程は電子写真感光体の欠陥部を検出する欠陥検出工程１０２を少なくとも含む。 - 特許庁

To achieve quality enhancement of defect information to be obtained and to calculate a shared expense for each process complying with a responsibility ratio obtained from the delay time of a defect measure.例文帳に追加

入手する不具合情報の質向上を図るとともに、不具合対策の遅延時間により求められる責任割合に応じた工程ごとの分担費用を算出する。 - 特許庁

A high defect density layer 12 having a high oxygen concentration is formed in the interior of a semiconductor substrate 11, simultaneously with which it is subjected to a hydrogen annealing process to form a non-defect layer 13 on the surface layer.例文帳に追加

半導体基板１１の内部に酸素濃度の高い高欠陥密度層１２を形成すると共に表面層に無欠陥層１３を形成するための水素アニール処理を行う。 - 特許庁

To provide a method and apparatus for inspecting defect of a resist pattern capable of easily detecting a defect caused only by a resist formation process by comparing the surface of a resist pattern efficiently.例文帳に追加

レジストパターン表面を効率よく比較し、レジスト形成工程に起因する欠陥のみを容易に検出するレジストパターンの欠陥検査方法及びその欠陥検査装置を提供する。 - 特許庁

To provide a semitransmission type liquid crystal display device which is free of an alignment defect of a rubbed-down oblique surface in a rubbing process and a display defect due to light absence and has a high contrast in transmission mode.例文帳に追加

ラビング処理時の擦り下げ斜面の配向不良や光抜けによる表示欠陥が無く、透過時に高コントラストを実現できる半透過型液晶表示装置を提供する。 - 特許庁