「process defect」に関連した英語例文の一覧と使い方(11ページ目) - Weblio英語例文検索

This carbon nanotube can be manufactured through a defect introducing process for introducing defects into a raw material carbon nanotube, and a heating process for heating the raw material carbon nanotube into which the defects have been introduced, to a temperature of 1,000 to 2,000°C in a vacuum or in an innert gas atmosphere.例文帳に追加

このカーボンナノチューブは、原料カーボンナノチューブに欠陥を導入する欠陥導入工程と、欠陥を導入された原料カーボンナノチューブを、真空中又は不活性ガス雰囲気中で１０００〜２０００℃に加熱する加熱工程と、を経て製造することができる。 - 特許庁

To provide a method for correcting a semiconductive belt which flattens a shape defect part more than a conventional correction method by heating process so as to perform correction with no practical problem and which can improve manufacturing yield more than the correction method by heating process.例文帳に追加

従来の加熱処理による修正方法よりも形状的な欠陥部分を平坦化して、実使用上問題の無い状態に修正でき、加熱処理による修正方法よりも製造の歩留まりを向上することができる半導電性ベルトの修正方法を提供することにある。 - 特許庁

To provide a production process of a tire mold, capable of abbreviating production steps, suppressing generation of a casting defect of the mold and improving dimensional accuracy of the mold obtained, in producing the tire mold by a casting production process using a transfer method.例文帳に追加

転写法を用いた鋳造製法によりタイヤ成形用金型を製造するに際し、製造工程を省略でき、金型の鋳造欠陥の発生を抑え、さらに得られる金型の寸法精度を高めることが可能なタイヤ成形用金型の製造方法を提供する。 - 特許庁

In electron beam type automatic defect inspection equipment comprising an X-ray detector, the X-ray spectrum and image of a dust generated on a wafer for process QC are registered as reference data and defects occurring on the process wafer are sorted with reference to the reference data.例文帳に追加

Ｘ線検出器を備えた電子線式自動欠陥検査装置において、プロセスＱＣ用ウエーハ上に生じた異物のＸ線スペクトルと画像とを参照用データとして登録し、前記参照用データを照会してプロセスウエーハ上に生じた欠陥を分類する。 - 特許庁

To provide a system for analyzing quality defect in a manufacturing process, that can compare a defective portion in a selling store with a checked result portion in a factory by a development to calculate a correlation ratio, and quickly specify the cause of the failure in a manufacturing process based on judgment from the correlation ratio.例文帳に追加

販売店からの不具合部位と工場での検査結果部位を展開図によって対比を行い、相関率を算出し、この相関率による判定に基づいて製造工程上での原因の特定を迅速に行うことができる製造工程品質不具合解析システムを提供する。 - 特許庁

The method contains a process for applying an adhesive layer 16 to a metal substrate 14 and a process for laminating a decorating metallic plate 12 on the metallic substrate 14 so as to substantially completely avoid a surface defect and a core reflection phenomenon along an outside face 13 of a decorating metal plate 12.例文帳に追加

接着剤層１６を金属基板１４に塗布する工程と、装飾金属板１２の外側面１３に沿った表面欠陥とコアうつり現象を実質的に完全に回避するように前記装飾金属板１２を前記金属基板１４にラミネートする工程とを有している。 - 特許庁

To provide a display panel defect inspection system which keeps a throughput of an inspection process even if the number of inspectors is reduced, and improving the throughput of the inspection process by dispersing a visual inspection work to the plurality of inspectors.例文帳に追加

本発明は、検査員の数を減らしたとしても、検査工程のスループットを維持することができ、更に、目視検査の作業を複数の検査員に分散させることで、検査工程のスループットを向上させることが可能なディスプレイパネル欠陥検査システムを提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a production control method capable of preventing occurrence of a problem wherein a mismatch between an attached document attached in a predetermined process prepared in advance and a product corresponding to the attached document is generated by lack or the like of a product due to a defect in a production process or the like.例文帳に追加

生産工程等で製品の不良等のために、製品の欠落等により予め準備されている所定工程で添付する添付書類とその添付する書類に対応する製品との不整合が生じるという問題が生じない生産管理方法を提供するものである。 - 特許庁

To provide an apparatus and a method for determining the shape of the end of a bead, which obtain the image of the bead in synchronism with a welding process to determine a hole defect in the end of the bead with high accuracy in an extremely short time immediately after the welding process.例文帳に追加

本発明の目的は、溶接プロセスと同期してビードの画像を取得し、溶接プロセス直後の極めて短い時間でビードの終端部の穴欠陥を高精度に判定することが可能なビードの終端部の形状を判定する装置及びその方法を提供することにある。 - 特許庁

To provide a visual inspection method which rationalizes and simplifies a setup process before a defect of an anti-reflection film is observed and a cleanup process after the observation, and to provide a visual inspection device which enables visual inspection of the total length of the anti-reflection film to be manufactured at a time.例文帳に追加

反射防止フィルムの欠陥を観察するに至るまでの段取り工程及び観察後の後始末工程を合理化・簡略化する外観検査方法を提供し、同時に製造した反射防止フィルム全長の外観検査が可能な外観検査装置を提供することを目的とした - 特許庁

To enable stress control on a channel region of a transistor without causing a defect or the like in a miniaturization process or in a device having both an Nch transistor and a Pch transistor.例文帳に追加

微細化プロセスにおいても、また、Ｎｃｈトランジスタ及びＰｃｈトランジスタの両方を持つデバイスにおいても、欠陥等を発生させることなく、トランジスタのチャネル領域に対する応力制御を行うことを可能にする。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a magnetic recording medium with excellent manufacturing efficiency by eliminating the problem of a traveling defect due to electrostatic charge in a process for manufacturing a vapor deposition type medium by using an aromatic PA film.例文帳に追加

芳香族ＰＡフィルムを用いた蒸着型媒体の製造工程における、帯電に起因する走行不良の問題を解消して、製造効率に優れた磁気記録媒体の製造方法を提供する。 - 特許庁

To repair, easily with high precision, the defect of a barrier rib that occurred in a manufacturing process of the plasma display panel barrier rib and thereby improve a manufacturing yield of a substrate having the barrier rib.例文帳に追加

プラズマディスプレイパネルの障壁の製造工程で生じた障壁の欠陥を容易に高精度で修復し障壁付き基板の製造歩留まりを向上できるプラズマディスプレイパネルの障壁の補修方法を提供する。 - 特許庁

To provide an ink-jet recording head in which a defect of recording like a wrinkle and nonuniformity does not occur in a recording result by obtaining a desired ink droplet size so that an impact position accuracy may not decrease and to provide its manufacturing process.例文帳に追加

着弾位置精度が低下することなく、所望のインク滴の径を得ることで、記録結果にヨレやムラといった記録の不具合が発生しないインクジェット記録ヘッドおよびその製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide an organic photoreceptor, an image forming method using the organic photoreceptor, and an image forming device, in which potential stability is satisfactory and an image defect such as black dot or void does not occur and a process cartridge.例文帳に追加

本発明は電位安定性の良好な、且つ黒ポチ、白抜け等の画像欠陥を発生しない有機感光体、該有機感光体を用いた画像形成方法、画像形成装置、プロセスカートリッジを提供することにある。 - 特許庁

The system has means for recognizing the part of the band substrate under machining and the recognizing means specifies the point of a defect generated in the continuous machining process as the distance from the mark.例文帳に追加

該装置は帯状基板のどの部分を加工しているかを認識する加工部位認識手段を有し、連続加工工程において発生した不良個所を、該認識手段により該印からの距離として特定する。 - 特許庁

To suppress wiring defect and reduce the malfunction or the power consumption during standby by forming a wiring layer, including bit lines and a dummy wiring layer which is electrically insulated from the wiring layer and underlies the wiring layer for reducing halation in the lithographic process.例文帳に追加

リソグラフィ工程におけるハレーションを低減することにより、配線の欠陥が抑制され、動作不良やスタンバイ時の消費電力が低減された半導体記憶装置およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

To prevent a difference from occurring in a sort recipe between sorting classes, in an automatic defect sorting function, even if a suitable processing parameter is different for each device but a plurality of devices are applied in the same process.例文帳に追加

自動欠陥分類機能では、装置毎に適切な処理パラメータが異なるが同一の工程において複数の装置が運用される場合でも、それぞれの分類レシピにおける分類クラスに差が発生しないようにする。 - 特許庁

To detect a defect such as conductor omission, short-circuit and foreign matter attachment on a wafer, including a normal conductor pattern having ruggedness with high probability in the process of film creating and etching, in manufacturing of a semiconductor device.例文帳に追加

半導体デバイスの製造における成膜やエッチング過程において、凸凹を有する正常な導体パターンが含まれたウエハ上の、導体欠落、短絡、異物付着などの欠陥を高い確率で検出する。 - 特許庁

To provide a wire feeder which hardly gives rise to feeding unevenness and can maintain good wire feedability, a welding equipment which hardly gives rise to a welding defect in consumable electrode process arc welding and a welding method.例文帳に追加

送給ムラが発生しにくくワイヤ送給性を良好に保つことができるワイヤ送給装置と、消耗電極式アーク溶接において溶接不良が発生しにくい溶接装置及び溶接方法を提供する。 - 特許庁

By the method for making mask pattern data, a proximity correction mask with high accuracy and no correction defect can be obtained in a short period of time while keeping the process margin in a complicated LSI pattern.例文帳に追加

以上のように、本発明のマスクパターンデータ作成方法によれば、複雑なＬＳＩパターンにおいて、プロセス余裕度を保ちながら補正欠陥の無い高精度な近接効果補正マスクを短時間で提供することができる。 - 特許庁

To realize a liquid crystal display element having no display defect by eliminating nonconformities in rubbing process which is liquid crystal molecular alignment processing, when the liquid crystal display element is manufactured in an overcoatless color filter having a resin black matrix.例文帳に追加

樹脂ブラックマトリクスを有するオーバーコートレスのカラーフィルタで、液晶表示素子作製時の液晶分子配向処理であるラビング工程での不具合をなくし、表示欠陥のない液晶表示素子の実現を目的とする。 - 特許庁

To form no development defect after a resist pattern as an upper layer is formed even when the percentage content of silicon (Si) of an intermediate film is made high in a multi-layer resist process, and thereby to improve the yield.例文帳に追加

多層レジストプロセスにおいて、中間層膜のシリコン（Ｓｉ）の含有率を高くした場合でも、上層のレジストパターンを形成した後の現像欠陥が発生せず、従って、歩留まりを向上できるようにする。 - 特許庁

When the methylpolysiloxane composed of hydrophobic groups of Si-CH_3 bonds is used as the interlayer dielectric, the surface of the interlayer dielectric is damaged in an etching process and the carbon concentration is decreased due to defect of methyl group.例文帳に追加

Ｓｉ−ＣＨ_3結合たる疎水基からなるメチルポリシロキサンを層間絶縁膜に用いた場合、エッチング工程等において前記層間絶縁膜表面がダメージを受け、メチル基の欠陥により炭素濃度が減少する。 - 特許庁

To provide a method for forming a light metal-made blank for forging having high quality and little internal defect by suitably setting the shape of the blank for forging and injection-forming condition in a casting process.例文帳に追加

鋳造工程において鍛造用素材の形状及び射出成形条件を適正に設定することで、内部欠陥の少ない高品質な軽金属製の鍛造用素材の成形方法を提供する。 - 特許庁

The insulating film 41 is formed to be able to secure the withstand voltage to the voltage applied to the resistor element 34 even when there occurs a defect in the second STI separating layer 33 in a manufacturing process.例文帳に追加

絶縁膜４１は、製造過程において第２ＳＴＩ分離層３３に欠陥が生じた場合であっても、抵抗素子３４に印加された電圧に対して耐圧を確保することが可能に形成されている。 - 特許庁

To provide a development device, a process cartridge and an image forming apparatus free from abnormal images, such as a white stripe images, void images or a spot defect image, without producing toner aggregates or developer aggregates.例文帳に追加

トナーの凝集体や現像剤の凝集体が形成されることなく、白スジ画像、白抜け画像、ポチ点画像等の異常画像が生じることのない、現像装置、プロセスカートリッジ、及び、画像形成装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method that can select only the necessary semiconductor packages by accumulating defects in each semiconductor package manufacturing process in the defect location recognition information, and reading the related board identification information.例文帳に追加

半導体パッケージの製造工程において工程毎に生じた不良箇所を不良位置認識情報に累積記録させ、基板識別手段の情報を読み取ることにより、必要とする半導体パッケージのみ選別する。 - 特許庁

A wafer data area 109 which stores information specifying a wafer and a manufacturing process is provided so that the defect information can be retrieved by only using the review data by similarly handling information on an inspection step and the information on a reviewing step.例文帳に追加

ウェハと製造工程を特定する情報を記憶するウェハデータ領域１０９を設け、検査工程とレビュー工程の情報を同様に扱うことでレビューデータのみで欠陥情報の検索を可能とする。 - 特許庁

To manufacture an aluminum based alloy member which eliminates the need for machining, or the like, for removing fine cracks and defects on the surface, does not remain the crack, let alone the defect and has more excellent mechanical characteristics by an inexpensive process.例文帳に追加

表層の微細クラックおよび欠陥を除去する機械加工等を不要にし、クラックはおろか欠陥すらも残留しない、機械特性により優れたアルミニウム系合金部材を安価な工程で製造可能にする。 - 特許庁

In the method for correcting the semiconductive belt, the shape defect part 1a of the semiconductive belt 1 containing a conductive material in a resin is subjected to a heating process, and is then flattened by polishing.例文帳に追加

本発明は、樹脂中に導電性物質を含有する半導電性ベルト１の形状的な欠陥部分１ａを加熱処理した後、研磨して平坦化させる半導電性ベルトの修正方法である。 - 特許庁

ETCHANT NOT CONTAINING CHROMIUM FOR Si SUBSTRATE AND SiGe SUBSTRATE, METHOD FOR REVEALING DEFECT BY USING THIS ETCHANT, AND PROCESS OF PROCESSING Si SUBSTRATE AND SiGe SUBSTRATE BY USING THIS ETCHANT例文帳に追加

Ｓｉ基板およびＳｉＧｅ基板用のクロムを含まないエッチング液、そのエッチング液を使用して欠陥を明らかにする方法、およびそのエッチング液を使用してＳｉ基板およびＳｉＧｅ基板を処理するプロセス - 特許庁

To provide a film forming apparatus capable of monitoring in-situ a thin film deposited on a substrate in the film forming apparatus, precisely managing the film deposition speed in a process and suppressing a product defect to the minimum.例文帳に追加

成膜装置内の基板に堆積した薄膜をｉｎ−ｓｉｔｕでモニターして、プロセス中の膜堆積速度を正確に管理し、製品不良を最小限に抑えることのできる成膜装置を提供する。 - 特許庁

By performing (b)-(e) operations (unit thinning process), the thickness of the slab 11 is reduced by about 0.11 nm, which varies the resonance wavelength of the point defect resonator 13 to shorter wavelength by 0.39 nm (if designed for 1.55 μm band).例文帳に追加

(b)〜(e)の操作（単位減厚工程）を行うことにより、スラブ１１の厚さは約0.11nm減少し、それにより点状欠陥共振器１３の共振波長は0.39nm（1.55μm帯用に設計された場合）だけ短波長側に変化する。 - 特許庁

If the bonding face has a vertical part 16i, the ultrasonic wave is allowed to enter obliquely against the vertical part 16i, and the reflected echo reflected by the vertical part 16i is detected (second defect detection process).例文帳に追加

また、接合面が垂直部１６_ｉを有している場合には、垂直部１６_ｉに対して斜めに超音波を入射し、垂直部１６_ｉで反射した反射エコーを検出する（第２欠陥検出工程）。 - 特許庁

To provide an array substrate capable of preventing a defect due to static electricity flowing in a manufacturing process, to provide a display device having the same and to provide a method of protecting a display area of the array substrate from static electricity.例文帳に追加

製造工程時に流れ込む静電気による不良を防止することのできるアレイ基板とこれを具備した表示装置及び静電気からアレイ基板の表示領域を保護する方法を提供する。 - 特許庁

To provide a solder connection method between the back electrode layer and the contact strip of a photovoltaic module which can be manufactured without a defect even within a process range which is not strict by using both of lead-free and lead-containing solders.例文帳に追加

鉛フリーおよび鉛含有ハンダの両方によって厳密でない工程範囲でも欠陥なく製造することのできる光起電モジュールの裏面電極層と接触片の間のハンダ接続を提供する。 - 特許庁

Dispersion of the additive 21 in the rubber band 16 at packing or unpacking is prevented and the occurrence of a surface defect such as a cissing failure or the like at coating in the next process caused by the additive 21 can be restrained.例文帳に追加

ゴムバンド１６中の添加剤２１が梱包時や開梱時に飛散することがなくなり、添加剤２１に起因する次工程での塗布時におけるハジキ故障等の面状欠陥の発生が抑えられる。 - 特許庁

To provide a glass cutter capable of suppressing the degradation in the yield in a glass cutting process step by preventing the rotation defect of wheel cutters in cutting glass substrates by using the wheel cutters, and a glass cutting method.例文帳に追加

ホイールカッターを用いてガラス基板を切断する際に、ホイールカッターの回転不良を防止し、ガラスの切断工程における歩留まり低下を抑制するガラス切断装置、及びガラス切断方法を提供する。 - 特許庁

To provide a positive resist composition having little developing defect such as bridging and having high stability of post coating delay (PCD) and post exposure delay (PED), and further, to provide a positive resist composition excellent in the process margin.例文帳に追加

ブリッジングなどの現像欠陥が少なく、塗布後の経時安定性（ＰＣＤ）、露光後の経時安定性（ＰＥＤ）が大きいポジ型レジスト組成物、更に加えてプロセスマージンにも優れたポジ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide an electrophotographic photoreceptor which is excellent in the uniformity of development, obtains high image quality without an image defect and is excellent in durability, and a process cartridge and an electrophotographic device having the electrophotographic photoreceptor.例文帳に追加

現像の均一性に優れ、画像欠陥のない高画質かつ耐久性に優れた電子写真感光体、その電子写真感光体を有するプロセスカートリッジ及び電子写真装置を提供することにある。 - 特許庁

To provide a packing method for a process cartridge capable of preventing detachment of a photoreceptor and a charging roll due to vibration and the like, during transportation and the like, and capable of restraining generation of stripe-like defect, and the like in image formation.例文帳に追加

輸送時等の振動等による感光体と帯電ロールとが離れることを防止し、画像形成時の筋状等の欠陥の発生を抑制することができるプロセスカートリッジの梱包方法を提供する。 - 特許庁

To provide production equipment and production process for BMC that can inhibit the glass fibers from tangling each other and pilling with no occurrence of the white spot defect in the formed product.例文帳に追加

ガラス繊維どうしがからまることなく、毛玉の発生を防止することができるとともに、成形品の白点不良を防止することができるＢＭＣ製造装置およびＢＭＣの製造方法を提供するものである。 - 特許庁

To provide constitution and facility which prevent the mispositioning of glass substrates and the defect of a panel sealing gap by improving the seal packing of a pressurization type UV irradiation device in a seal curing process step of a liquid crystal panel.例文帳に追加

液晶パネルのシール硬化工程における加圧式紫外線照射装置のシールパッキンを改善することにより、ガラス基板の位置ズレやパネルシールギャップ不良を防止した構成及び設備を提供する事を目的とする。 - 特許庁

Therefore, quality improvement in a selection process can be performed by discovering defect caused by interference of bit liners which is hard to discover at I/O compression test of a multi-bit DRAM hitherto.例文帳に追加

したがって、従来多ビットＤＲＡＭのＩ／Ｏ圧縮テスト時の発見が難しかったビット線の干渉による不良を従来のテスト効率を損なうことなく発見することで、選別工程における品質向上ができる。 - 特許庁