「process defect」に関連した英語例文の一覧と使い方(9ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a coaxial connector for an electronic endoscope capable of suppressing the generation of the failure such as defect of watertightness and flowing in of an adhesive in an assembling process and excellent in production efficiency because there is not much part disposed as defect articles when there is the failure.例文帳に追加

組み立て工程における水密性不良や接着剤流れ込み等の不具合の発生を大幅に抑制することができ、しかも不具合があった場合には不良廃棄する部分が少なくて製造効率のよい電子内視鏡の同軸コネクタを提供すること。 - 特許庁

To provide a surface defect-determining method, in a continuous casting process in which a molten metal within a mold is cast while being whirled horizontally by a moving magnetic field, which can judge the occurrence of the defect in the surface of a slab on-line based on the measured value of the temperature in each mold copper plate.例文帳に追加

鋳型内の溶鋼を移動磁場によって水平方向に旋回させながら鋳造する連続鋳造工程において、鋳型銅板温度の測定値に基づいてオンラインで鋳片表面の欠陥の発生を判定することのできる表面欠陥判定方法を提供する。 - 特許庁

To provide a defect marking method and device for a sheet like product capable of positively detecting a marking applied to a defect portion of a sheet like product in a latter process and suppressing deterioration of a yield when cutting the sheet like product and cutting out a partition portion of a certain shape.例文帳に追加

シート状製品の欠陥部分に施されたマーキングを後工程で確実に検出でき、さらにシート状製品をカットして一定の形状の区画部分を切り出す際に、歩留まりの低下を抑制することができるシート状製品の欠陥マーキング方法および装置を提供することである。 - 特許庁

To provide a fixing belt having a surface layer which is free of a surface defect such as a stripe or trail causing an image defect when the fixing belt is manufactured through a process of forming the surface layer on the outer peripheral surface of a base material by using a resin solution.例文帳に追加

定着ベルトが基材の外周面に樹脂溶液を利用して表面層を形成するプロセスを経て定着ベルトを作製される場合において、画像欠陥の原因となるスジやダレ等の表面欠陥の無い表面層を有する定着ベルトを提供すること。 - 特許庁

To provide a process for producing a mask in which a mask blank having a black/white defect is not discarded but utilized, managing method, program and system of the mask blank for making it possible, and a process for fabricating a semiconductor device employing the process for producing a mask.例文帳に追加

黒／白欠陥が存在するマスクブランクスを廃棄せずに利用することを可能にするマスクの製造方法と、これを可能にするマスクブランクスの管理方法、マスクブランクスの管理プログラムおよびマスクブランクスの管理装置、並びに上記マスクの製造方法を用いた半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

The defect detection method of an SOI substrate at least has: a process for preparing an SC1 solution as an etching solution; a process for dipping the SOI substrate into the SC1 solution for etching; and a process for observing the defects of the etched SOI substrate by a detector.例文帳に追加

少なくとも、エッチング溶液としてＳＣ１溶液を準備する工程と、ＳＯＩ基板を前記ＳＣ１溶液に浸漬してエッチングする工程と、前記エッチングしたＳＯＩ基板の欠陥を、検出装置で観察する工程とを有することを特徴とするＳＯＩ基板の欠陥検出方法を提供する。 - 特許庁

A silicon substrate processing method, wherein hydrogen is introduced from the surface of a silicon substrate to inactivate the defect of the silicon substrate, comprises a process for heating the silicon substrate, a process for quickly cooling the silicon substrate, and a process for irradiating hydrogen against the surface of the silicon substrate.例文帳に追加

本発明のシリコン基板の処理方法は、シリコン基板の表面から水素を導入し、シリコン基板の欠陥を不活性化する処理方法であって、シリコン基板を加熱する工程と、シリコン基板を急冷する工程と、シリコン基板の表面に水素を照射する工程とを含むことを特徴とする。 - 特許庁

To provide a process for producing a film while avoiding the occurrence of a defect in the film or breakage of the film during annealing, and to provide ceramic particles suitable for producing such a film.例文帳に追加

アニール処理時における膜の欠陥の発生や破壊を回避できる膜の製造方法、およびこのような膜の製造に好適なセラミックス粒子を提供することにある。 - 特許庁

To provide a substrate processing device capable of excellently preventing defect caused by a process liquid dropping from a nozzle, when the nozzle is moved between a processing position and a stand-by position.例文帳に追加

ノズルが処理位置と待機位置との間を移動する際にノズルから落下する処理液によって生じる不具合を良好に防止することができる基板処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a highly reliable semiconductor device having resistance to external stress and electrostatic discharge while reducing thickness and size, or a semiconductor device for preventing defect in shape and characteristics due to external stress or electrostatic discharge in a manufacturing process, to manufacture a semiconductor device with a high yield.例文帳に追加

薄型化及び小型化を達成しながら、外部ストレス、及び静電気放電に耐性を有する信頼性の高い半導体装置を提供することを目的の一とする。 - 特許庁

Further adsorption slip-resisting effect can be applied by making a surface of the glass plate uneven by sandblasting process, to get rid of a defect that the glass is slippery when the water penetrates therethrough.例文帳に追加

また、水の進入時に硝子が滑りやすいという欠点を克服する為に、硝子板表面にサンドブラスト処理を施し凸凹を設けることにより吸着防滑効果を付与した。 - 特許庁

To provide a defect detecting device for a metallic sheet for detecting the existence of a defective shape to remove a cut piece in accordance with the defective shape, in a cutting process for the metallic sheet.例文帳に追加

金属シートの切断工程中で、形状不良の有無を検出し、形状不良に対応する切断片を除去することのできる金属シートの不良検出装置を提供する。 - 特許庁

To provide a thermopile infrared sensor capable of detecting a defect in a wafered condition such as short-circuiting of a wiring to prevent delivery to a subsequent process, and a method of inspecting with the sensor.例文帳に追加

配線のショート等の不良をウェハ状態で検出して後工程に流出することを防ぐことができるサーモパイル式赤外線センサおよびその検査方法を提供する。 - 特許庁

To provide an image signal processing apparatus to process an image signal from an imaging element which eliminates noise of the defect correction or the like and conducts both a resolution maintenance and an outline correction properly.例文帳に追加

撮像素子からの画像信号を処理する画像信号処理装置において、欠陥補正等のノイズ除去と、解像度維持や輪郭補正との両方を好適に行うことが難しい。 - 特許庁

To obtain a manufacturing method or the like, capable of detecting a cord having a defect in a coil or the like, without depending on a visual sense in the process of manufacturing a non-contact type IC card on a substrate in a multiple way.例文帳に追加

基材に非接触型ＩＣカードを多面で製造する工程において、コイル等に欠陥のあるカードを視覚によらず検知できる製造方法等を提供する。 - 特許庁

To avoid increase in inter-gate capacity and to prevent a defect such as a junction leak due to a failure in etching an end of an L-shaped spacer in a silicide forming process for a fine transistor.例文帳に追加

微細トランジスタのシリサイド形成工程において、ゲート間容量の増大がなく且つＬ字状スペーサの端部がエッチングされず接合リーク等の不良を防止できるようにする。 - 特許庁

To provide a metal work formed product having projecting part avoided to form shrinkage defect and recessed part on the back side of the projecting part and desirably, with one time of forging process.例文帳に追加

凸部の裏側にヒケ不良や窪みが形成されることを避けるとともに、好ましくは一回の鍛造工程によって、凸部を有する金属加工成形品を提供する。 - 特許庁

In so doing, a conventional process of manually taking out a glass substrate from the line and visually confirming a defect to make a final judgment is omitted to enable to perform in-line final judgment.例文帳に追加

このようにすることで、従来人手でガラス基板をラインから取り出し、欠陥を目視確認して最終判断を行っていた工程を省き、インラインでの最終判定を可能とする。 - 特許庁

To provide a base which is free of a defect in resist coating, has proper slipping property and superior resist coating process adaptability, and is superior in resist resolution and releasing from the resist.例文帳に追加

レジスト塗布時の欠陥がなく、適度な滑り性でレジスト塗布工程適正にも優れ、レジスト解像性やレジストとの離型性に優れたドライフォトレジスト用の支持体を提供する。 - 特許庁

To solve the problem that since the coplanarity test for solder balls is conducted before the final process, defect of ball coplanarity occurs frequently caused by the camber of a BGA board due to resin sealing, etc.例文帳に追加

最終工程前で半田ボールのコプラナリティー検査が行われるため、この検査工程で樹脂封止等によるＢＧＡ基板の反りが原因でボールコプラナリティー不良が多発する。 - 特許庁

To provide a method for fabricating a semiconductor device capable of preventing a bunker shaped defect from being caused during performing a wet dip-out process employed during fabricating a capacitor having a cylinder type TiN storage node.例文帳に追加

ＴｉＮストレージノードを有するシリンダ構造のキャパシタを製造するためのウェットディップアウト時に、バンカー欠陥の発生を防止できる半導体メモリ装置の製造方法を提供すること。 - 特許庁

To remove a substrate defect present in an SiC substrate by removing the SiC substrate by an appropriate thickness portion before a device formation process in manufacturing a semiconductor element.例文帳に追加

半導体素子を製造する際のデバイス作成プロセスに先立ち、ＳｉＣ基板を適切な厚み分だけ除去することで、ＳｉＣ基板に存在する基板欠陥を除去できるようにする。 - 特許庁

An ultrasonic wave is allowed to enter vertically to the taper part 14i of the metal pipe bonded body 10, and reflected echo reflected by the taper part 14i is detected (first defect detection process).例文帳に追加

金属管接合体１０のテーパ部１４_ｉに対して垂直に超音波を入射し、テーパ部１４_ｉで反射した反射エコーを検出する（第１欠陥検出工程）。 - 特許庁

To provide a defect correction method for a distortion occurring in a reed screen type part of a thin metal sheet with very narrow slit type apertures manufactured by a photo-etching process.例文帳に追加

フォトエッチング法にて製造された微細なスリット状開口部を有する金属製薄板における簾部分に生じる変形を修正するための欠陥修正方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a spark plug hardly causing a flow or a defect such as a scar or a chip on a central electrode during a preliminary bending process and capable of attaining a high yield.例文帳に追加

予備曲げ工程において中心電極に傷や欠けなどの欠陥不良が発生しにくく、高歩留まりの達成が可能となるスパークプラグ製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus capable of carrying out a refresh process on an image carrier surface for the purpose of removing a corona product while suppressing the striking occurrence of an image defect.例文帳に追加

画像不良の顕著な発生を抑制しながら、放電生成物を除去するための像担持体表面のリフレッシュ工程を遂行することが可能な画像形成装置を提供する。 - 特許庁

To prevent a continued substituting process sequence due to the defect of a substitute area by preliminarily grasping the quality of the substitute area before the data recording or reproducing operation is requested from the outside.例文帳に追加

外部からのデータ記録又は再生要求がある前に予め交替領域の品質を把握しておき、交替領域の欠陥による連続した交替処理シーケンスを防止する。 - 特許庁

To provide a method of detecting abnormalities of a chip and a chip take-out apparatus, capable of easily and surely detecting the abnormality of the chip and preventing a defect from flowing to a subsequent process.例文帳に追加

簡単かつ確実にチップ異常を検出することができ、後工程への不良流出を防止することができるチップ異常検出方法及びチップ取り出し装置の提供。 - 特許庁

Thereby, a conventional process of manually taking out a glass substrate from a line and visually checking a defect to make a final judgment is eliminated, so that in-line final determination can be made.例文帳に追加

このようにすることで、従来人手でガラス基板をラインから取り出し、欠陥を目視確認して最終判断を行っていた工程を省き、インラインでの最終判定を可能とする。 - 特許庁

To restrain the generation of defect in a process for forming a phosphor of a plasma display(PDP), improve the yield ratio of material of the phosphor and decrease the generation of waste.例文帳に追加

プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）の蛍光体形成工程における不良発生を抑制し、蛍光体材料の歩留を向上するとともに、廃棄物の発生量を低減すること。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a laminated piezoelectric actuator not generating an internal defect in the hot-press process of the same laminated piezoelectric actuator on the occasion of holding a laminated material to be pressed with an elastic material.例文帳に追加

積層型圧電アクチュエータの熱プレス工程において、加圧する積層体を弾性体にて挟持する場合に、内部に欠陥が生じることのない製造方法を提供する。 - 特許庁

With the two- layer PZT film lamination process, a Pb concentration in the interface between the electrode 6 and the film 4b is restrained, and the generation of a by oxygen defect due to Pt catalytic action is restrained.例文帳に追加

二層のＰＺＴ膜積層工程により、上部電極６とＰＺＴ膜４の界面でのＰｂ濃度が抑えられ、Ｐｔ触媒作用による酸素欠陥の発生が抑えられる。 - 特許庁

To provide an optical inspection apparatus capable of identifying a defect of optical characteristics, removing foreign matters from a panel surface during an inspection process, and supplying power to a panel being inspected.例文帳に追加

光学特徴の欠陥を識別でき、かつ検査工程においてパネル表面の異物を除去でき、また検査中のパネルに電力が供給できる光学検査装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a defect factor countermeasure device which selectively outputs countermeasures on the basis of a person in charge of process improvement considering a balance between permanent countermeasures and tentative countermeasures.例文帳に追加

恒久的な対策と暫定的な対策とのバランスを考慮した、工程改善員の立場に立った対策を選択可能に出力する、不良要因対策装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a method for reducing pitch that is a cause of troubles such as a papermaking defect and a contamination by a simple addition method in a papermaking process of paper and paperboard.例文帳に追加

紙及び板紙の製紙工程において、簡易な添加方法で製紙欠陥や汚れ発生等のトラブルの要因となるピッチの低減方法を提供することを課題とする。 - 特許庁

To reduce surface defect by reducing the density of dislocation of a crystal layer in a process for forming a crystal layer of a nitride semiconductor using a lateral growth technology of seed crystal.例文帳に追加

種結晶による横方向成長技術を用いて窒化物半導体の結晶層を形成する工程において、結晶層の転位密度を低減し、表面欠陥を少なくする。 - 特許庁

To provide a method of improving productivity of a semiconductor device, in a manufacturing technique of a semiconductor device having a process of detecting a crystal defect occurring in a semiconductor substrate.例文帳に追加

半導体基板に発生する結晶欠陥を検出する工程を有する半導体装置の製造技術において、半導体装置の生産性を向上させる方法の提供。 - 特許庁

To improve yield by calculating the optimal dividing point of a coil from the information of defect of a steel sheet in a process for manufacturing the coil and dividing the coil at this calculated optimal dividing point.例文帳に追加

コイルの製造プロセスにおいて鋼板の欠陥情報からコイルの最適分割点を算出し、この算出した最適分割点で分割することにより、歩留を改善させる。 - 特許庁

The defect-free layer 16 is formed by diffusing oxygen and the oxygen precipitated nucleus to the outside from the surface layer of the wafer 10 through the reduction process of the ion-implanted hydrogen.例文帳に追加

無欠陥層１６は、イオン注入された水素の還元作用によりウエハ１０の表面層から酸素及び酸素析出核が外方拡散されることによって形成される。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a polyester film of which the defect such as a scratch, a stickiness stain, a crater-shaped spot or the like to be generated in a stretching process is eliminated.例文帳に追加

本発明は、延伸工程で発生するスリ傷、粘着汚れ、クレータ状の斑点などの欠点が解消されたポリエステルフィルムの製造方法を提供せんとするものである。 - 特許庁

The method for monitoring quality of laser machining process includes operations of: comparing parameters representing the machining quality with reference parameters representing a given machining quality to obtain one set of regulated process parameters; making available a plurality of statistical models θ_k that identify respective states of the machining process 500, the states including states of defect; and executing an operation of recognition of membership with respect to one set of process observation acquired in real time.例文帳に追加

加工品質を表すパラメータを所定の加工品質を表す基準パラメータと比較して、１セットの調整された処理パラメータを取得し、加工処理５００の欠陥の状態を含むそれぞれの状態を特定する複数の統計モデルθ_ｋを提供し、リアルタイムで獲得された１セットの処理観測に対してメンバーシップの認識の動作を実行する。 - 特許庁

This phosphor powder is obtained by preparing a core material through a solution preparation and its reaction process, then mixing the core material with an activator and a co-activator, subjecting it to a burning process and a removing process in which a surface crystalline defect layer or a surface strain layer formed in the burning process is removed, and then carrying out a surface treatment.例文帳に追加

このような蛍光体粉末は、溶液の調整工程及び反応工程を経てコア材を製造した後、該コア材を付活剤及び共付活剤と混合し、次いで焼成工程後、焼成品の表面に形成された表面結晶欠陥層あるいは表面歪み層を除去する除去工程を設け,その後表面処理することにより製造される。 - 特許庁

To provide a reflection-type mask blank and a reflection-type mask for EUV exposure that eliminate the need for a low-reflection layer made of TaBO etc., which is difficult to work, are adaptive to a shorter wavelength of inspection light, and have a black defect corrected without requiring any complicated process even when the black defect is found through process inspection, and to provide a manufacturing method and an inspecting method thereof.例文帳に追加

本発明は、加工の困難なＴａＢＯ等からなる低反射層を不要とし、検査光の短波長化にも対応可能で、工程検査で黒欠陥が見つかった場合でも、複雑な工程を要することなく欠陥修正が可能なＥＵＶ露光用の反射型マスクブランクス及び反射型マスク、その製造方法、並びに検査方法を提供することを目的とするものである。 - 特許庁

To enable to eliminate products having lower reliability out of initial good products by testing margin for a reference potential of a bit line in the case that storage data is read out from a memory cell in a ferroelectric memory, improving reliability of products shipped, and to perform efficiently analysis of defect by making easy to discriminate whether defect of an initial defective product is caused by margin defect or by defect of a manufacturing process.例文帳に追加

強誘電体メモリに関し、メモリセルからビット線に記憶データが読み出された場合におけるビット線の電位の基準電位に対するマージンを試験し、初期良品からの信頼性の低い製品の除去を可能とし、出荷する製品の信頼性の向上を図ると共に、初期不良品については、その不良がマージン不良を原因とするものなのか、あるいは、製造プロセスの欠陥によるものなのかの識別を容易にし、不良解析の効率化を図る。 - 特許庁

To provide the manufacturing method of a semiconductor substrate, which is high in productivity, by optimizing BMD (bulk micro defect) forming process inside of a wafer and interface oxide film removing process, in the manufacturing method of the semiconductor substrate consisting of two sheets of semiconductor wafers joined directly.例文帳に追加

２枚の半導体ウェーハが直接接合した半導体基板の製造方法であって、ウェーハ内部のＢＭＤ形成プロセスと、界面酸化膜除去プロセスを最適化することにより、生産性の高い半導体基板の製造方法を提供する。 - 特許庁