「process defect」に関連した英語例文の一覧と使い方(5ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a manufacturing method of an electrooptical device capable of suppressing an appearance defect generated when an insulating film is formed using a liquid phase process and suppressing a display defect caused thereby.例文帳に追加

液相法を用いて絶縁膜を形成する際に発生する外観不良を抑制し、これに起因する表示不良の発生を抑制することができる電気光学装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for inspecting a mask defect by which delay caused by pseudo-error occurrence can be prevented and decrease in the accuracy of defect inspection can be prevented in the process of inspecting a mask defect carried out for the pattern obtained by optical proximity effect correction of a designed pattern.例文帳に追加

設計パタンを光近接効果補正して得たパタンに対して実施されるマスクの欠陥検査工程において、擬似的なエラー発生による遅延を防止出来ると共に、欠陥検査精度の低下をも防止出来るマスク欠陥検査方法の提供。 - 特許庁

In this method for manufacturing a member for a plasma display panel including a process for repairing a broken-wire defect part of an electrode formed on a substrate, a needle with a conductive paste deposited thereon is brought into contact with the broken-wire defect part, thereby applying the conductive paste to the broken-wire defect part.例文帳に追加

基板上に形成された電極の断線欠陥部を修復する工程を含むプラズマディスプレイパネル用部材の製造方法であって、導電性ペーストを付着させた針を断線欠陥部に接触させ導電性ペーストを断線欠陥部に塗布する。 - 特許庁

To provide a wiring board which enables to get a circuit board with no defect in a bonding process under the influence of heat by a reflow furnace and the like, and also provide an equipment using a circuit board with such a reduced defect in a bonding process caused by heating.例文帳に追加

リフロー炉等での熱の影響を受けても接合不良の発生していない回路基板が得られるような配線基板を提供すること、および、そのような熱変形による接合不良が低減された回路基板を用いた電気機器を提供すること。 - 特許庁

To prevent a defect from occurrence by an air pocket and/or reactive shrinkage and/or thermal shrinkage in a process for producing polyurethane moldings by a RIM process.例文帳に追加

ＲＩＭプロセスによりポリウレタン成形品を製造する方法において、空気ポケット並びに／又は反応性収縮及び／若しくは熱的収縮によって生じる欠陥を防止すること。 - 特許庁

Consequently, moisture and additives causing gasification in the subsequent anneal process are evaporated beforehand and removed and thereby defect and breakage of a piezoelectric film 3 can be avoided in the anneal process.例文帳に追加

これにより、後のアニール工程においてガス化の原因となる水分や添加物を予め気化させて除去し、アニール工程における圧電膜３の欠陥、破壊を回避することができる。 - 特許庁

As a result, ΔCD and X-phenomena are prevented from arising or are minimized, by which the process step margins during the production process are widened and the occurrence of opaque defect sources is substantially prevented.例文帳に追加

これにより、ΔＣＤ及びＸ−現象が生じないか、あるいは最小化され、製造工程時の工程マージンが広くなり、かつ不透明欠陥源が生じなくなる。 - 特許庁

To improve wear resistance of a small-diameter member, by avoiding defect and damage of a coated hard material in an edge part due to plasma generated in a forming process of the coating hard material process, and by maintaining adhesion of a film.例文帳に追加

被覆硬質材の形成プロセスで発生するプラズマによるエッジ部での被覆硬質材の欠陥やダメージを回避し、密着性を維持し、小径部材の耐摩耗性を改善する。 - 特許庁

To provide a test pattern with which a circuit pattern can be inspected for defects with high sensitivity in a semiconductor manufacturing process, a method for detecting defect, and a method for managing manufacturing process both of which use the test pattern.例文帳に追加

半導体製造プロセスにおける回路パターンの不良を高感度に検査可能なテストパターンと、これを用いた不良検出方法および製造プロセス管理方法を提供する。 - 特許庁

To provide a display device for which a more practical method for correcting a defect is easily and certainly applied and the method for correcting the defect by omitting a drawing process of an insulating film, preventing another short-circuitting in a wiring drawing process, making a drawn pattern a simple shape and preventing a wiring performance from lowering when correcting the defect.例文帳に追加

絶縁膜の描画工程を省略し、配線の描画工程で新たな短絡の発生を抑止し、描画パターンを単純な形状として欠陥修正による配線性能の低下を防止して、より実用的な欠陥修正を容易且つ確実に行うことを可能とする表示装置及び欠陥修正方法を提供する。 - 特許庁

The use of the historical defect list enables to obtain accurately within a short period of time, a selection of each manufacturing process with defects, a variation of defects in the manufacturing process, and the analysis result of a growth process and the like.例文帳に追加

従って、かかる欠陥来歴リストを用いることにより、欠陥の発生した製造工程毎の選別や製造プロセスでの欠陥の変化，成長過程などの解析結果を短時間でかつ正確に得ることが可能となる。 - 特許庁

To improve safety of data recorded on a magnetic disk by conducting an alternation processing from the sector having large defect in an automatic alternation process.例文帳に追加

自動交代処理において欠陥の大きいセクタから交代処理し、磁気ディスクに記録されているデータの安全性を向上する。 - 特許庁

To compensate a panel defect with electric data during a manufacturing process.例文帳に追加

本発明は、製造工程中、パネル欠陥を電気的なデータに補償するようにした平板表示装置の製造方法及び装置に関する。 - 特許庁

Further, if this defect determination is not made, the charging is carried out up to the final stage in the second constant current and constant voltage charging process.例文帳に追加

また、この不良判定がなされない場合には、第２の定電流定電圧充電工程により最後まで充電を行う。 - 特許庁

When a defect is found in a battery block 10 or a circuit block 20 in a manufacturing process, only the blocks with defects are to be replaced.例文帳に追加

製造工程で電池ブロック１０または回路ブロック２０に不具合が生じた場合に、不具合の生じたブロックだけを交換する。 - 特許庁

To provide HVAC system for an automobile having no defect of a conventional device and controlling by a left/right independent type process.例文帳に追加

従来装置の欠点を有さない、左右独立式プロセスにより制御する自動車用ＨＶＡＣシステムを提供することである。 - 特許庁

Thus, defect and damage of the coated hard material at the edge part due to plasma generated in the forming process of the coating hard material, is prevented.例文帳に追加

これにより被覆硬質材の形成プロセスで発生するプラズマによるエッジ部での被覆硬質材の欠陥やダメージを回避する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a card with built-in electronic component reducing defect rate with a simple process.例文帳に追加

本発明の課題は、簡便工程による、かつ、不良率を低減させる電子部品内蔵カードの製造方法を提供することである。 - 特許庁

To provide a technique capable of assuring the flatness of pixel electrodes with a simple process and eliminating the light dropout occurring in an alignment defect.例文帳に追加

簡単な工程で画素電極の平坦性を確保し、配向不良に起因する光抜けをなくすことができる技術の提供。 - 特許庁

To provide a method and device detecting a fine defect which exist in a pipe, continuously and accurately during a manufacturing process of the pipe.例文帳に追加

管に存在し得る微小欠陥を管の製造工程中で連続的に精度良く検出可能な方法及び装置を提供する。 - 特許庁

A known standard defect 9 is provided in a sample 2, the defect appearing on a surface of the sample 2 is detected, and prescribed processing recipe evaluation information that varies in response to difference in a processing recipe used in the prescribed production process is acquired, based on a detection result of the standard defect 9.例文帳に追加

試料２に既知の標準欠陥９を設けて、試料２の表面に現れる欠陥を検出し、所定の製造プロセスで使用された処理レシピの相違に応じて変化する所定の処理レシピ評価情報を、標準欠陥９の検出結果に基づいて取得する。 - 特許庁

To provide a printing method having an inspecting and modifying technique which does not require a high-level defect discrimination system, can easily correct a high-precision defect and hardly causes the loss of a substrate to be printed when forming a defect-free image pattern on the substrate to be printed by using a printing process.例文帳に追加

印刷法を用いて被印刷基板に欠陥のない画像パターンを形成するに当たり、高度な欠陥識別システムが不要で、容易に高精度な欠陥修正が可能で、被印刷基板のロスが少ない検査・修正技術を備える印刷方法を提供する。 - 特許庁

To provide a defect inspection method and a defect inspection device of a laminate, capable of detecting a defect of the laminate in a nondestructive/noncontact manner, regardless of the material of the laminate, and utilizable, for example, for deterioration diagnosis of for a solid oxide type fuel cell or process inspection at manufacturing.例文帳に追加

積層体の材質に左右されることなく、積層体の欠陥を非破壊・非接触で検出しることができ、例えば固体酸化物形燃料電池の劣化診断や、製造時の工程検査などに利用することができる積層体の欠陥検査方法及び欠陥検査装置を提供する。 - 特許庁

In other words, when a defect occurs in the wiring 20 due to stress such as patterning in a wafer process, the defect causes resistance for increasing the value of the resistance of the wiring 20, and the defect in the wiring 20 is easily and highly sensitively detected.例文帳に追加

すなわち、ウェハ工程においてパターニング等によるストレスによって欠陥検査用配線２０内に欠陥が発生すると、その欠陥が抵抗となって、欠陥検査用配線２０の抵抗値が増大するため、欠陥検査用配線２０内の欠陥を容易に、かつ、高感度に検出することができる。 - 特許庁

Thus, the outer appearance of the end surface portion of the wafer W in the dry etching which is highly relevant to the occurrence of a defect in the device process is observed, so that it can be suitably evaluated whether the wafer W has a high possibility of defect occurrence in the device process.例文帳に追加

デバイスプロセスの欠陥の発生と関連性が強い、ドライエッチングを行った際のウェーハＷの端面部の外観を観察するようにしているので、ウェーハＷがデバイスプロセスにおいて欠陥を発生させる可能性が高いか否かを適切に評価することができる。 - 特許庁

To provide a coating method and a coating device of a resin composition, which reduces the generation of the soiling of the tip of a nozzle, the cobwebbing of the resin composition or coating shape defect due to the scattering, or the like, in a coating process of the resin composition to decrease unsoldering defect in the post process.例文帳に追加

樹脂組成物の塗布工程におけるノズル先端の汚れ、樹脂組成物の糸引き、飛び散り等による塗布形状不良の発生を低減し、後の工程における未はんだ不良等を低減させることができる樹脂組成物の塗布方法および塗布装置を提供する。 - 特許庁

To shorten the access processing time when a defect region exists between a current position of a pickup and a target position, by omitting a process resetting from defocusing and tracking drift in the defect region.例文帳に追加

ピックアップ現在位置と目標位置の間にディフェクト領域が存在した場合、ディフェクト領域におけるフォーカス外れおよびトラッキング流れからの復帰処理を省略することにより、アクセス処理時間を短縮すること。 - 特許庁

To easily determine whether a defect left on a mask substrate after cleaning processing is carried out on the mask substrate is caused by the cleaning processing process or an internal defect of the mask substrate itself.例文帳に追加

マスク基板に対して洗浄加工を行なった場合の洗浄加工後にマスク基板に残る欠陥が洗浄加工プロセスによるものなのか、マスク基板自体の内部欠陥によるものなかを容易に判定する。 - 特許庁

In the process of peeling the imprint mold and the resin pattern, a part wherein the defect of the resin pattern occurs can selectively be made to be uncured, so that the occurrence of the defect of the transfer pattern can be made possible.例文帳に追加

よって、インプリントモールドと樹脂パターンを剥離する工程において、樹脂パターンの欠陥が発生する部位を選択的に未硬化とすることが出来、転写パターンの欠陥の発生を抑制することが可能となる。 - 特許庁

For example, if there is a defect increasing in the same manner from an average value in both of the area lithographed under the safe condition and the area lithographed under the acceleration condition, it is assumed that the defect depends on the process.例文帳に追加

例えば、安全条件で描画した領域と加速条件で描画した領域の双方において、平均値から同じように数が増加する欠陥があれば、この欠陥はプロセスに依存するものと推測できる。 - 特許庁

By using laser annealing which is a relatively low temperature process, only the minute defect of the surface of the mold can be annealed, so that only the minute defect can be corrected without deforming the pattern shape of the mold.例文帳に追加

比較的低温プロセスであるレーザアニールを用いることで、モールド表面の微小欠陥のみをアニールが可能となり、モールドのパターン形状を変形させることなく、微小欠陥のみを修復することが出来る。 - 特許庁

To provide a process management apparatus that can reduce the number of questions necessary to identify a defect factor, in any situation, when estimating the defect factor from a user's answers.例文帳に追加

ユーザからの回答を利用して不良要因を推定する場合に、どのような状況においても、不良要因を特定する際に必要とされる質問数を低く抑えることを可能とする工程管理装置を提供する。 - 特許庁

To surely prevent problems, such as the damage of a cell, a deaeration defect and the flow-out of a film in a sealing process at the time of manufacturing a solar battery.例文帳に追加

太陽電池作製時の封止工程におけるセルの損傷や脱気不良、フィルムの流出等の問題を確実に防止する。 - 特許庁

To form a structure by which a connection defect in a wire bonding part with reference to an inherent high-temperature heating operation can be reduced in an oscillator manufacturing process.例文帳に追加

発振器製造工程において固有の高温加熱に対してのワイヤボンディング部分での接続不良を低減できる構造とする。 - 特許庁

To provide a method of easily detecting a defect of a silicon carbide single crystal at a low cost with high precision in a manufacturing process through alkali etching.例文帳に追加

アルカリエッチングにより、製造プロセス中で容易かつ安価に炭化珪素単結晶の欠陥を高精度で検出する方法を提供する。 - 特許庁

To minimize thermal deformation to a laminating ceramic capacitor during a press-bonding process so as to reduce a fraction defect ratio with respect to a manufacturing method.例文帳に追加

積層セラミックキャパシタの製造方法に関し、圧着工程時に積層体に与える熱変形を最少化して不良率を低減する。 - 特許庁

This can make the metal dopant existing in a SOI layer 10A be caught by the crystal defect R at the heat treating time in the device process.例文帳に追加

これにより、デバイス工程での熱処理時、ＳＯＩ層１０Ａに存在する金属不純物を結晶欠陥Ｒに捕獲することができる。 - 特許庁

To provide a process cartridge and image forming apparatus that suppress charging unevenness in the initial period of use, compared with the conventional art, and prevent an image defect.例文帳に追加

従来に比べ、使用初期の帯電ムラが抑制され、画像欠陥が防止されるプロセスカートリッジ及び画像形成装置を提供する。 - 特許庁

To provide an electronic component which can be manufactured in a simple process inexpensively while preventing defect such as cracks of a chip-type component.例文帳に追加

チップ型部品におけるクラック等の不具合の発生を回避しつつ、簡便な工程且つ低コストで製造可能な電子部品を提供する。 - 特許庁

A wafer defect inspecting device is built in a positioning device for positioning a wafer 1 which is a substrate to be treated in a semiconductor manufacturing process.例文帳に追加

ウェハ欠陥検査装置は、半導体製造プロセスにおいて、被処理基板であるウェハ１の位置決めを行う位置決め装置に組み込まれる。 - 特許庁

To obtain fail pattern data in a spare area on a must repair line without spending much time in the process of the defect relief and analysis processing of a memory.例文帳に追加

メモリの不良救済解析処理の過程において、マストリペアライン上のスペア領域のフェイルパターンデータを時間を掛けることなく取得する。 - 特許庁

METHOD OF FEATURING DEFECT ON SILICON SURFACE, ETCHING COMPOSITE FOR SILICON SURFACE AND PROCESS OF TREATING SILICON SURFACE BY ETCHING COMPOSITE例文帳に追加

シリコン表面上の欠陥を特徴付ける方法、シリコン表面用のエッチング組成物、およびシリコン表面をエッチング組成物で処理するプロセス - 特許庁

To provide a process for manufacturing a silicon semiconductor wafer by which the defect density can be made very low and the silicon semiconductor wafer containing satisfying GOI can be produced.例文帳に追加

欠陥密度を可能な限り小さくでき、かつ満足されるＧＯＩを含むシリコン半導体ウェーハを製造できるプロセスを提供する。 - 特許庁

To provide a perimeter which enables a subject to easily recognize his or her own visual field defect concretely in the process of a visual field examination and clearly shows a result of examination.例文帳に追加

被検者が視野検査の過程で自らの視野欠損を具体的に容易に自覚でき、検査結果が分り易い視野計を提供する。 - 特許庁

Performing defect inspection with the TFT substrate that is set in the temperature condition when it is actually operating in the array inspection in the array process allows defects, which are usually detected in and after the cell process, to be detected in the early stages of the array process.例文帳に追加

アレイ工程でのアレイ検査において、ＴＦＴ基板を実際に駆動したときの温度状態として欠陥検査を行うことによって、通常、セル工程以降で検出される欠陥をアレイ工程の早い段階で検出する。 - 特許庁