「process defect」に関連した英語例文の一覧と使い方(10ページ目) - Weblio英語例文検索

To prevent a defect in electrostatic charging and the formation of a defective image by preventing variation in load on the rotary motion of a photoreceptor drum or stabilizing conditions under which a process means abuts against the photoreceptor drum.例文帳に追加

感光体ドラムの回転運動への負荷変動の発生を防止し、又は感光体ドラムへのプロセス手段の当接条件安定化を実現して帯電不良や不良画像を発生を防止する。 - 特許庁

When drying by vacuum heating is carried out after forming a pattern 3 of the organic layer of the organic EL element by using a non-vacuum process, the defect inspection of the pattern is carried out by using optical means 19 and 11.例文帳に追加

非真空プロセスを用いて有機ＥＬ素子の有機層のパターン３を形成した後の真空加熱乾燥を行う際に、光学的手段１９、１１を用いてパターンの欠陥検査を行うこと。 - 特許庁

To maintain adhesion and to improve wear resistance of a small-diameter member by avoiding defect and damage of a coating hard material at an edge due to plasma generated in a formation process of the coating hard material.例文帳に追加

被覆硬質材の形成プロセスで発生するプラズマによるエッジ部での被覆硬質材の欠陥やダメージを回避し、密着性を維持し、小径部材の耐摩耗性を改善することである。 - 特許庁

A threshold for detecting a defect is changed in accordance with a degree of risk on a process depending on a relative position relation of patterns formed in a plurality of layers adjacent in a vertical direction.例文帳に追加

上下方向に互いに隣接する複数層にそれぞれ形成されたパターン同士の相対的位置関係に依存するプロセス上の危険度に応じて欠陥検出のための閾値を変える。 - 特許庁

To provide a substrate for an electronic device, preventing a work from adhering to an upper level block, causing no flaw and defect in the work, and favorably separating the work from the upper level block in a polishing process.例文帳に追加

研磨工程において、ワークが上定盤に付着することなく、ワークに傷や欠陥を発生させずに、上定盤からのワークの剥離を良好に行うことができる電子デバイス用基板を提供する。 - 特許庁

Thus, a problem that a hole is made in the insulation protection film of a wiring arrangement except the bonding pad is solved in the etching process for opening the bonding pad is solved, and a defect of the insulation protection film is prevented.例文帳に追加

これにより、ボンディングパッドを開口するためのエッチング工程においてボンディングパッド上以外の配線配置部絶縁保護膜に穴が開く問題を解決し、絶縁保護膜の欠損を防止する。 - 特許庁

To eliminate such a defect that memory capacity increases since display data in a deforming process need to be all stored in a memory to smoothly display and erase a character on a display device.例文帳に追加

表示装置上に文字を滑らかに表示、および消去を行おうとする場合、変形過程の表示データをすべてメモリに記憶させる必要があるため、メモリ容量が増大するという欠点を有する。 - 特許庁

The change of characteristic amount of an object to be inspected is statistically analyzed to automatically change the threshold of the defect extraction, whereby the generation of false information due to variation in the manufacturing process can be restrained.例文帳に追加

検査対象物の特徴量の変化量を統計的に解析し、欠陥抽出のしきい値を自動的に変化させることで製造工程のバラツキによる虚報の発生をおさえた。 - 特許庁

To eliminate defect occurrence by a phosphor part edge sealing and a terminal part edge sealing of a flexible circuit board, to shorten the sealing process time, to enlarge pixel region, to eliminate image defects, and to enhance durability.例文帳に追加

蛍光体端部封止およびフレキシブル回路基板の端子部端部封止での欠陥発生をなくし、封止工程時間を短縮し、画素領域を拡大し、画像欠陥をなくし、耐久性を高める。 - 特許庁

To suppress the occurrence of deadline delay as little as possible concerning an ordered production system by performing scheduling by calculating the required time while considering the occurrence of any assembly defect in a production process.例文帳に追加

生産工程における組立不良の発生を考慮した所要時間算出をしてスケジューリングすることにより、注文生産方式において、納期遅れの発生を可及的に抑止すること。 - 特許庁

Because this method is free of generation of a large electric discharge during the sandblasting process, there is no risk of producing any defect in the electrode or barrier, and the patterning of the barrier can be conducted while the quality of the base board is well maintained.例文帳に追加

サンドブラスト加工中に大きな放電を起こすことがないことから、電極や障壁に欠陥を生じることなく、基板品質を良好に保って障壁のパターニングを行うことができる。 - 特許庁

To provide an electrophotographic photoreceptor capable of completely preventing the occurrence of filming and completely preventing a defect on an image, and an electrophotographic process cartridge and electrophotographic device using the photoreceptor.例文帳に追加

フィルミングの発生を十分に防止でき、画像上の欠陥を十分に防止できる電子写真感光体、これを用いた電子写真プロセスカートリッジ及び電子写真装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a film deposition method in which a defect repair process for structures by which both of projecting defects and recessed defects can flatly be repaired in accordance with the surface of a base board can be utilized.例文帳に追加

凸状欠陥或いは凹状欠陥のいずれであっても基板表面に合わせて平坦に修正することのできる構造体の欠陥修正プロセスで利用可能な成膜方法を提供すること。 - 特許庁

To obtain a silicon cast block in which the surface defect such as longitudinal crack and lateral crack as to develop on the surface of the silicon cast block, is not developed, in a cutting-off process of the silicon cast block.例文帳に追加

シリコン鋳塊の切断工程においてシリコン鋳塊表面に発生する縦割れや横割れといった表面欠陥が発生しないシリコンの鋳塊を得ることを目的としている。 - 特許庁

To provide a manufacturing process of paper using recycled pulp which reduces a loss of paper quality, operation trouble and machine defect caused by adhesive foreign materials and pitch of waste paper origin included in the recycled pulp.例文帳に追加

再生パルプを用いた紙の製造工程において、再生パルプに含まれる古紙由来の粘着性異物やピッチが原因となる紙の品質低下や操業トラブル、マシン欠陥を低減すること。 - 特許庁

After calculating the chain resistance R by two terminal resistance measuring process, the current wave form is observed by chain pattern while scanning a laser beams for calculating the defect numbers x by the positive-negative frequency of the current wave form.例文帳に追加

２端子抵抗測定法でチェーン抵抗Ｒを求めた後、レーザービームを走査しながらチェーンパターンでの電流波形を観測し、電流波形が正負に変化した回数から欠陥数ｘを求める。 - 特許庁

In one embodiment, the method includes a defect counting step of detecting impurities contained in the silica particles by optically counting defective parts on the surface of the precision component before the solving step after the cleaning process.例文帳に追加

ある態様では、洗浄工程後、溶解ステップ前に、精密部品の表面にある欠陥部位を光学的にカウントして、シリカ微粒子に含まれる不純物を検出する欠陥カウントステップを備えている。 - 特許庁

To provide a punching apparatus and method, and a laminating apparatus and method by which a normal optical disk is manufactured by separating previously a cover sheet having a defect and preventing a laminating process from being performed.例文帳に追加

欠陥のあるカバーシートについては予め分別して貼り合せ工程を施さないようにし、正常な光ディスクを製造する貼り合せ装置及び方法と貼り合せ装置及び方法を提供する。 - 特許庁

To provide an efficient defect inspection device that does not require a preparation process for special region detection for an inspection object conveyed continuously in a manufacture line, and can greatly shorten an inspection time.例文帳に追加

製造ラインを連続して搬送される被検査物に対して、特殊領域検出のために準備工程を必要とせず、検査時間の大幅な短縮が可能な、効率の良い検査装置を提供する。 - 特許庁

To improve wear resistance of a coated small-diameter member, by avoiding defect and damage of a hard film in an edge part due to plasma generated in a hard film coated process, and by maintaining adhesion of the film.例文帳に追加

硬質皮膜被覆プロセスで発生するプラズマによるエッジ部での硬質皮膜の欠陥やダメージを回避し、皮膜の密着性を維持し、被覆小径部材の耐摩耗性を改善することである。 - 特許庁

In a master roll 1 set in a platemaking device 75 of the stencil printing device, a defect part wherein fibers are aggregated is detected and a position corresponding to it is marked in the producing process.例文帳に追加

孔版印刷装置の製版装置７５にセットされたマスタロール１は、その製造過程において繊維が凝集した欠陥部分を検出されてそれに対応する位置にマーキングをされている。 - 特許庁

To provide a semiconductor package which can be manufactured at a simple process without producing a defect such as a chipping on the cutting surface of a substrate comprising a semiconductor, and to provide its manufacturing method.例文帳に追加

半導体からなる基板の切断面にチッピングなどの欠陥を生じさせること無く、かつ簡易な工程によって製造可能な半導体パッケージおよびその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a pattern defect correcting device, wherein stable operation is provided, regardless of operator, and process is stabilized for saving labor and improved correction level.例文帳に追加

作業者に関わりなく安定的に稼働させることができ、工程の安定化並びに省人化を図ることができ、かつ、修正品位を向上させることができるパターン欠陥修正装置を提供する。 - 特許庁

The electronic scan probe is used to freely change the angle and focus of ultrasonic beam, thereby, making an ultrasonic wave able to hit on a defect with an optimum angle and intensity to perform the flaw detection by the TOFD process.例文帳に追加

電子スキャンプローブを使用し自由に超音波ビームの角度，焦点を変化させることにより、最適な角度，強度で超音波を欠陥にあて、ＴＯＦＤ法で探傷することを可能にする。 - 特許庁

To form crystal in defect-free area in good yield by changing pulling velocity V and temperature gradient G of a single crystal grown by the Czochralski process according to dopant concentration and keeping V/G value in crystal interface within a prescribed range in the radial direction of the crystal.例文帳に追加

ＣＺ法によるシリコン単結晶の育成において、結晶中のドーパント濃度が変化した場合でも、無欠陥領域の結晶を、歩留良く製造する方法を提供する。 - 特許庁

To provide an electrostatic charging member which obviates the occurrence of the electrostatic charging defect occurring in the nonuniformity and residual stress in the local molding of double layer films as well as a process cartridge and electrophotographic device having this electrostatic charging member.例文帳に追加

複層膜の局所的な成形の不均一や残留ひずみに起因する帯電不良が生じない帯電部材、その帯電部材を有するプロセスカートリッジ及び電子写真装置の提供。 - 特許庁

To provide a manufacturing method which enables the detection of a wiring layer, the occurrence of a defect in an immediately after process, the removal of the defective layers until the wiring layer and the reconstruction of layers to shorten a feedback time.例文帳に追加

不良の発生した配線層を直後の工程で発見し、当該配線層まで除去し、その層を再構築することでフィードバック時間を短縮した製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an organic light-emitting display which is improved in reliability by saving the module process cost by previously detecting a longitudinal short defect of the pixel of an organic light-emitting display panel.例文帳に追加

有機電界発光表示パネルのピクセルの縦方向のショート不良を予め検出してモジュール工程コストを節減し、信頼性を高められる有機電界発光表示装置を提供する。 - 特許庁

To provide an injection valve mechanism which is in particular applicable to a highly reliable common rail system fuel injection mechanism to facilitate control of the injection process and cancel a defect of conventional devices in general.例文帳に追加

信頼性の大きいコモンレール方式の燃料噴射機構に特に適用可能な噴射弁機構を提供して、噴射過程の制御を容易にし、従来装置の欠点を概ね解消する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of seamless steel tube for a boiler and its piping, which does not cause a rolling defect on a product, even when a Mannesmann type skew rolling process is adopted.例文帳に追加

本発明は、マンネスマン方式の傾斜圧延法を採用しても、製品に圧延疵が出現しないボイラー及びその配管用継目無鋼管の製造方法を提供することを目的としている。 - 特許庁

To provide an optical disk recording and reproducing device accurately capturing audio data by detecting and correcting each defect of data such as the data deviation or data transformation of main data or sub-code Q in the buffering process.例文帳に追加

バッファリング処理時のメインデータまたはサブコードＱのデータズレまたはデータ化け等の各データ不良を検出して補正し、オーディオデータが正確にキャプチャできる光ディスク記録再生装置を提供する。 - 特許庁

To provide a pattern defect correcting device which can be used effectively for a correction object having a large variety of pattern shapes like a photomask used in a manufacturing process of a shadow mask.例文帳に追加

シャドウマスクの製造過程で用いるフォトマスクのように、多種多様なパターン形状を有する修正対象に対しても有効に利用することができるパターン欠陥修正装置を提供する。 - 特許庁

The electron beam test system analyzes faulty or breakdown caused by a process defect by irradiating an electron beam to a semiconductor integrated circuit device to be analyzed and obtaining a potential contrast.例文帳に追加

被解析対象物である半導体集積回路装置に電子ビームを照射して電位コントラストを取得することにより、プロセス欠陥に起因する不良又は故障を解析する電子ビームテストシステムである。 - 特許庁

To prevent occurrence of defective sounding and defect such as a short-circuit resulting from solder deposited on a yoke in a manufacture process in a small-size thin profile electromagnetic sounder of surface mount type.例文帳に追加

小型薄型の表面実装型等の電磁発音体において、その製造過程において半田がヨークに付着することによる発音不良、ショート等の不良の発生を防止することを課題とする。 - 特許庁

To obtain a method of estimating survival expectation rate by which survival expectation rates etc., can be estimated in the unit of chip based on a defect related to a prescribed step which is at least one step of a manufacturing process.例文帳に追加

製造処理の少なくとも一つの工程である所定の工程に関連した欠陥に基づくチップ単位での生存期待率等が推定可能な生存期待率推定方法を得る。 - 特許庁

The method of correcting the recessed defects on the overcoat layer 4 formed on the colored layer 3 of the color filter 5 includes a defect correction ink applying process to apply defect correction ink 7 to the recessed defects 6 found on the overcoat layer in the defect check carried out in advance and to correct them.例文帳に追加

カラーフィルタ５の着色層３上に形成されたオーバーコート層４に存在する凹部欠陥を修正するカラーフィルタの修正方法であって、予め実施された欠陥検出検査において検出された、上記オーバーコート層に存在する上記凹部欠陥６に欠陥修正用インキ７を塗布し、上記凹部欠陥を修正する欠陥修正用インキ塗布工程を有することを特徴とするカラーフィルタの修正方法。 - 特許庁

To provide a repair method and system that removes a defect of a half tone mask by using a laser, can efficiently form a block film in a defect area, adjusts a film thickness of the block film, enables the defect to be removed even after a pellicle film is formed, adjusts permeability in real time so as to carry out a repair process, and guarantees the uniformity of the permeability of a repaired section.例文帳に追加

本発明は、レーザを用いてハーフトーンマスクの欠陥を除去し、欠陥部領域に遮断膜を効率良く形成でき、遮断膜の膜厚を調節し、ペリクル膜が形成された後も欠陥の除去が可能な機能とともに、リアルタイムで透過率を調節してリペア工程を行うことができるようにし、リペア部位の透過率の均一性を保障できるリペア方法及びそのシステムに関する。 - 特許庁

This inspection method has a process S3 for extracting reference pattern information of an inspection object, a process S4 for forming a two-dimensional Fourier transform filter for canceling the reference pattern information based on the reference pattern information, and a process S5 for inspecting a defect pattern other than a reference pattern of the inspection object by using the two-dimensional Fourier transform filter.例文帳に追加

また、検査方法において、検査対象物の基準パターン情報を抽出する工程（Ｓ３）と、基準パターン情報に基づき、この基準パターン情報をキャンセリングする二次元フーリエ変換フィルタを形成する工程（Ｓ４）と、二次元フーリエ変換フィルタを使用し、検査対象物の基準パターン以外の欠陥パターンを検査する工程（Ｓ５）とを備える。 - 特許庁

This method comprises a first exposing process for exposing the substrate 12 via the mask 10 under the condition that a part of region including a defect D of the mask 10 is shielded from the light, and a second exposing process for drawing in direct a pattern with the exposure to the region on the substrate 12 corresponding to a part of region shielded in the first exposing process.例文帳に追加

この方法は、マスク１０の欠陥Ｄを含む一部領域を遮光した状態で、マスク１０を介して基板１２に対して露光を行う第１の露光工程と、第１の露光工程において遮光された一部領域に対応する基板１２上の領域に、直接露光により描画を行う第２の露光工程と、を備える。 - 特許庁

To keep flatness of a glass substrate surface, to remedy roughness of the glass substrate surface, and to remove defect on the glass substrate surface, in a polishing process of polishing the locally-worked glass substrate surface for remedying the roughness by the local working and removing the defect.例文帳に追加

局所加工が施されたガラス基板表面を、局所加工による面荒れの改善や表面欠陥の除去を目的として研磨するにあたり、この研磨工程において、ガラス基板表面の平坦度を維持しつつ、ガラス基板表面の面荒れを改善するとともに、ガラス基板表面の表面欠陥を除去する。 - 特許庁

Further, the neural network includes a neural network for a shot defocus defect for classifying the defocus defect produced in a shot unit in the exposure process of the object to be inspected and has an image size converting means for converting an image size corresponding to an input layer size as the preprocessing inputted to the neural network.例文帳に追加

また、ニューラルネットワークは被検物の露光工程においてショット単位で発生するデフォーカス欠陥を分類するショットデフォーカス欠陥用ニューラルネットワークを含み、ニューラルネットワークに入力する前処理として、入力層サイズに対応させて画像サイズの変換を行う画像サイズ変換手段を備える。 - 特許庁

To provide an image automatic sorting method and its device capable of outputting information required for a countermeasure to the cause of the generation of a fault and information required for predicting the yield of an examination wafer by using the image of a defective site concerning the defect generated in the manufacturing process of a semiconductor wafer detected by a defect examination device.例文帳に追加

欠陥検査装置で検出された半導体ウェハの製造工程で発生した欠陥について、その欠陥部位の画像を用いて、その欠陥の発生原因対策に必要な情報および、該検査ウェハの歩留まりの予測に必要な情報を出力できる画像自動分類方法及びその装置を提供する。 - 特許庁

The storage device (2) stores analysis data (21) with analysis information recorded therein about each of a plurality of failure modes pre-extracted in a product design or process design stage, and defect occurrence history data (22, 23) comprising defect information noted after the start of system operation and accumulated while associated with failure mode analysis information.例文帳に追加

記憶装置（２）には、製品設計又は工程設計の段階で事前抽出された複数の故障モードのそれぞれについての解析情報が記録された解析データ（２１）と、システム稼働後に知見される不良情報を故障モード解析情報と関連付けて累積してなる不良発生履歴データ（２２，２３）とを格納する。 - 特許庁

To provide a process cartridge and an image forming apparatus capable of highly precisely uniformizing and optimizing a gap between an image carrier and a developer carrier in the longitudinal direction without causing a defect of damaging the image carrier or a defect that the image carrier or the developer carrier cannot be positioned in the longitudinal direction.例文帳に追加

像担持体を傷つける不具合や、像担持体や現像剤担持体の長手方向の位置が定まらない不具合、を生じさせることなく、像担持体と現像剤担持体とのギャップが長手方向にわたって高精度に均一化かつ適性化される、プロセスカートリッジ、及び、画像形成装置を提供する。 - 特許庁

To provide an assembly method for a pair of aperture grill and glass panel, that can minimize loss by detecting a defective one before an added value is imparted and by ejecting it, can significantly reduced the defect occurrence rate, can efficiently implement the identification of a defect cause and the repair and adjustment of process, abnormality and can automate the work thereof.例文帳に追加

付加価値が付く前に不良品を検出し直ちに排出して損失を最小とするとともに不良発生率を大幅に低減しかつ不良要因の特定と工程異常の修復、調整を効率よく実施でき、またその作業を自動化するアパーチャグリル及びアパーチャグリルとガラスパネルのペア組立に関する。 - 特許庁