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process defectの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 840



例文

To provide an evaluation method of a silicon substrate where surface defect observation due to etching after device film peeling is facilitated, by creating a clear surface for observing crystal defects on a semiconductor substrate and surface defects due to a device process, and it can be made clear that defects on the surface are caused by crystal itself or stress and contamination due to the process.例文帳に追加

半導体基板上の結晶欠陥やデバイスプロセス起因の表面欠陥を観察するための綺麗な表面を作成することによってデバイス膜剥離後のエッチングによる表面欠陥観察がし易くなり、表面にある欠陥が結晶起因の欠陥か、又はプロセス起因のストレスや汚染による欠陥なのかを明らかにすることができるようにしたシリコン基板の評価方法を提供する。 - 特許庁

To provide an electrophotographic photoreceptor having high sensitivity especially in the wavelength region of a semiconductor laser and capable of supplying an image with little image defect such as ghost not only under ordinary temperature and humidity conditions but also under low temperature and humidity conditions, and to provide a process cartridge and an electrophotographic device having the electrophotographic photoreceptor.例文帳に追加

常温常湿下だけでなく、低温低湿下であっても、高感度、特に半導体レーザー波長領域で高感度であり、なおかつ、ゴーストなどの画像欠陥の少ない画像を供給可能な電子写真感光体、該電子写真感光体を有するプロセスカートリッジおよび電子写真装置を提供する。 - 特許庁

To enhance reliability and productivity of semiconductor devices by preventing anomalous electrostatic charging of a circuit pattern, and controlling electrostatic charge voltage to a desired value uniformly in an electron-beam irradiation region in a method of inspecting the position and the type of defect on a wafer having a circuit pattern using a charged-particle beam during a semiconductor manufacturing process.例文帳に追加

荷電粒子線を用いて、半導体製造工程途中の回路パターンを持つウエハ上の欠陥の位置や種類を検査する方法において、回路パターンの異常な帯電を防ぎ、電子線照射領域を均一に、所望の帯電電圧に制御し、半導体装置の信頼性および生産性を高める。 - 特許庁

To provide a method and equipment for evaluating the life time and process damage of a semiconductor substrate on the basis of the intensity of haze light by aiming at the haze light being scattering light emitted from an area in which strong scattering body does not exit when the crystal defect of a semiconductor substrate surface layer is evaluated by light scattering.例文帳に追加

半導体基板表層の結晶欠陥を光散乱で評価する際、強い散乱体が存在しない領域から発せられる散乱光であるヘイズ光に着目し、このヘイズ光の強度に基づいて半導体基板のライフタイムおよびプロセスダメージを評価する方法及び装置を提供する。 - 特許庁

例文

To provide a developing device which can be easily designed, by which developer inside a developer container can be stably circulated by first and second stirring means, and a density irregularity, fogging and density defect, etc., can be prevented, a process cartridge and an image forming device provided with the developing device.例文帳に追加

本発明は、設計が容易で、第一撹拌手段及び第二撹拌手段によって現像剤容器内の現像剤を安定して循環させ、濃度ムラ、カブリ、濃度不良等を防止することのできる現像装置及びこの現像装置を備えるプロセスカートリッジ並びに画像形成装置の提供を目的とする。 - 特許庁


例文

To eliminate trouble such as image defect or back surface stain caused by toner or paper powder adhered to a conductive guide member arranged in a conveyance path from a paper feeding device to a fixing device via an image process device, in an image forming apparatus using an electrophotographic system.例文帳に追加

電子写真方式を採用した画像形成装置において、給紙装置から画像プロセス装置を経て定着装置に至るまでの搬送経路中に配置され且つ導電性を呈するガイド部材に、トナーや紙粉が付着していたために生ずる画像汚れや裏面汚れ等の問題を解消する。 - 特許庁

To provide a silicon semiconductor substrate exhibiting excellent electric characteristics and having high gettering power by reducing not only grown-in defect in crystal but also oxygen deposit remaining in the OSF region and becoming the nucleus of OSF growth while growing the crystal under growth conditions becoming the OSF region, and to provide its production process.例文帳に追加

結晶をOSF領域となる育成条件で育成したうえで、結晶中のグロウンイン欠陥を低減するのみならず、OSF領域に残存していたOSF成長の核となる酸素析出物をも低下させ、電気特性に優れ、かつ高いゲッタリング能を持つシリコン半導体基板とその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an organic photoreceptor which exhibits stable moire generation prevention effect even in image exposure using interference light of a laser etc. and also generates no image defect such as a black spot and to provide an apparatus and a method for image formation and a process cartridge which use the organic photoreceptor.例文帳に追加

本発明は、レーザ等の干渉光を用いた像露光でも安定したモアレ発生防止効果を有し、且つ黒ポチ等の画像欠陥を発生しない有機感光体を提供することであり、且つ該有機感光体を用いた画像形成方法、画像形成装置、プロセスカートリッジを提供することにある。 - 特許庁

To provide a retardation film which comprises RM or LC having a low optical retardation, does not have a defect of the conventional technique, in particular does not require many additional process steps or high-temperature steps, and is manufactured relatively at a low cost, and also to provide a method and a material advantageous for manufacturing such a film.例文帳に追加

従来技術の欠点を有しない、特に、多くの別個のプロセス段階または高温段階を必要とせず、製造するのが比較的安価である、低い光学的遅延を有するRMまたはLCを含む遅延フィルム並びに、このようなフィルムの製造のための有利な方法および材料を提供する。 - 特許庁

例文

To provide an organic photoreceptor which exhibits stable moire generation prevention effect even in image exposure using interference light of a laser etc. and also generates no image defect such as a black spot and to provide an apparatus and a method for image formation and a process cartridge which use the organic photoreceptor.例文帳に追加

本発明の目的は、レーザ等の干渉光を用いた像露光でも安定したモアレ発生防止効果を有し、且つ黒ポチ等の画像欠陥を発生しない有機感光体を提供することであり、且つ該有機感光体を用いた画像形成方法、画像形成装置、プロセスカートリッジを提供することにある。 - 特許庁

例文

To provide an electrophotographic photoreceptor excellent in mechanical durability, sensitivity and oxidation resistance of the surface, suppressing an image defect caused by deposition of a discharge product, and maintaining the characteristics at a high level with time, and to provide a process cartridge and an image forming apparatus using the photoreceptor.例文帳に追加

表面の機械的耐久性や耐酸化性に優れ、放電生成物の付着に起因する画像欠陥も抑制できると共に感度にも優れ、さらに、これらの特性を経時的に高いレベルで維持することが容易な電子写真用感光体、並びに、これを用いたプロセスカートリッジ及び画像形成装置を提供することである。 - 特許庁

To provide a mold for blow molding which eliminates the defect that the process for separating the molded product part from the flash part is indispensable after blow molding.例文帳に追加

解決しようとする課題は、従来のブロー成形用金型の食切り刃が、型締めされたパリソンの成形品部とバリ部との境部分を薄く押し潰すだけで該成形品部と該バリ部を該食切り刃が切り離すわけではなく、成形後に該成形品部と該バリ部を分離するための工程を欠かすことができないという点である。 - 特許庁

After a polishing process ends, a top surface of the glass substrate is observed using an optical microscope after a pit defect which has an easy-to-observe size is obtained through 5 μm etching using an acid etching solution including hydrogen fluoride, nitric acid, etc., and then isotropic etching of a processing deformed layer (a flaw etc.) remaining at a chamfer part.例文帳に追加

研磨工程終了後、ガラス基板の表面を、フッ酸や硝酸等を含む酸性のエッチング溶液を用いて5μmエッチングし、面取り部に残留する加工変質層(キズなど)を等方的にエッチングして観察しやすい大きさのピット欠陥にした後、光学顕微鏡を用いて観察する。 - 特許庁

To provide a device and a method for machining a thin film, and a method for manufacturing a photoelectric converter, wherein defect such as a state that a part of a layer is peeled and floats or a state that electrical division of the layer is not sufficient is suppressed in a division process of each layer of the photoelectric converter or the thin film using a laser.例文帳に追加

レーザを使用する薄膜や光電変換装置の各層の分断工程において、層の一部の剥がれて浮いた状態や、層の電気的な分断の十分でない状態などの不良を抑制する薄膜の加工装置及び加工方法、並びに光電変換装置の作製方法の提供を課題の一とする。 - 特許庁

Substance loss by thermal decomposition is substantially suppressed and high-quality silicon carbide powders, a molding, a fiber, a thin film, and a composite material matrix with little defect are prepared since an advanced crosslink-type network structure is generated by a hydrosilylation reaction in a process in which poly[(silylyne)ethynylene] or/and poly[(silylene)ethynylene] are fired.例文帳に追加

ポリ[(シリリン)エチニレン]あるいは/ならびにポリ[(シリレン)エチニレン]を焼成する過程において、ヒドロシリル化反応により高度なクロス・リンク型ネットワーク構造が生起するために、熱分解による物質損失が大幅に抑止され、欠陥の少ない高品質の炭化ケイ素の粉末、成形品、繊維、薄膜、複合材料マトリックスが作製できる。 - 特許庁

A CPU or the like of the product electrically reads the defect information or the like of the solid state imaging element A via the terminals P1-P5 in an assemble process or the like of the imaging equipment into which the solid state imaging apparatus 100 is incorporated so as to enable the adjustment operations for every product to be automatically executed based on the information.例文帳に追加

固体撮像装置100を組み込んだ撮像機器の組み立て工程等において、その製品のCPU等が、端子P1〜P5を介して固体撮像素子Aの欠陥情報等を電気的に読み取り、それらの情報に基づく製品毎の調整作業を自動的に実施可能にする。 - 特許庁

This defect inspection method of a gray tone part in a gray tone mask is characterized by including a process (a drawing 1 (3)) of applying gradating processing for flattening the signal when there is a periodic change as indicated in a drawing 1 (2) in the transmissivity signal obtained by scanning a gray tone part as indicated in a drawing 1 (1).例文帳に追加

グレートーンマスクにおけるグレートーン部の欠陥検査方法であって、図1(1)に示すようなグレートーン部を走査して得られる透過率信号に、図1(2)に示すような周期的な変動がある場合に、その信号を平坦化するためのぼかし処理を施す(図1(3))工程を含むことを特徴とする。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of stacked ceramic electronic component whereby reduction in the density and production of holes of a ceramic green sheet and segregation in an organic binder hardly take place in a dry process, corrosion of the ceramic green sheet due to a solvent in internal electrode paste is hardly caused, and a defect due to short-circuit between internal electrodes hardly takes place.例文帳に追加

乾燥工程におけるセラミックグリーンシートの密度の低下や孔の発生並びに有機バインダーの偏析等が生じ難く、内部電極ペースト中の溶媒によるセラミックグリーンシートの侵食が生じ難く、内部電極間の短絡不良が生じ難い、積層セラミック電子部品の製造方法を提供する。 - 特許庁

To prepare an excellent supporter film for a production process, enabling a transparent film especially usable for optical use, or the like, to be produced efficiently in good productivity, and capable of providing a cast film having a flat surface, and no defect when used in the optical application, and providing a clear image in display.例文帳に追加

特に光学用等に用いられる透明なフィルムを生産性良く効率的に製造することができ、得られたキャストフィルムの表面が平坦で、光学用途に使用した場合の欠陥がなく、ディスプレイ用においてクリアな画像を得ることができる、優れた製造工程用支持体フィルムを提供する。 - 特許庁

To provide a developer regulating member, a developing device, a process cartridge and an image forming apparatus with which a stable developing thin layer is formed, the set image defect of a developing roller that a sharp line whose density is thick is caused on an image is avoided, and the high-quality image whose density is stable is formed.例文帳に追加

安定した現像薄層を形成することができ、画像に濃度の濃い鋭い線が発生する現像ローラセット画像不良を回避し、画像濃度の安定した、高画質な画像を形成することが可能な、現像剤規制部材、現像装置、プロセスカートリッジ及び画像形成装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing sufficiently a monocrystal GaN substrate which is a growing substrate capable of obtaining a semiconductor layer of a good surface morphology or a monocrystal GaN substrate which can be suitably used as a semiconductor substrate, by reducing a defect in a polishing process and shortening a polishing time.例文帳に追加

研磨工程における不良を低減し、研磨時間を短縮して、表面モフォロジーが良好な半導体層が得られる成長用基板である単結晶GaN基板又は半導体基板として好適に用いることができる単結晶GaN基板を効率よく製造する方法を提供する。 - 特許庁

In this manufacturing method of the electrode for the electric double layer capacitor, which uses the carbon nanotube for the electrode, a process to give a defect to the carbon nanotube by applying a microwave, and after that, a functional group is modified by acid treatment to make the carbon nanotube adhere to the electrode by electrodeposition.例文帳に追加

カーボンナノチューブを電気2重層キャパシタ用の電極に用いる電気2重層キャパシタ用電極の製造方法において、マイクロ波を照射して、カーボンナノチューブに欠陥を与える処理をおこない、その後酸処理により官能基を修飾し、さらに電着によりカーボンナノチューブを電極に接着させる。 - 特許庁

The revolution speed of a barrel bath containing a workpiece and an abrasive is changed from low speed to high speed from an initial stage of a polishing process toward its finishing stage, thereby achieving barrel polishing at high machining efficiency while suppressing a defect rate, irrespective of the types and characteristics of the constituent materials of the workpiece.例文帳に追加

ワークと研磨材を充填収容するバレル槽の公転速度を、研磨工程の初期から仕上期に向けて低速から高速に変更することにより、脆性材料からなるワークを含めて、ワークの構成材料の種類・特性に関わらず、不良率を低く抑えつつ、加工効率の高いバレル研磨加工を実現する。 - 特許庁

To provide a part built-in wiring board where a component, such as a semiconductor chip, provided with terminals at a narrow pitch is buried and mounted, and a manufacturing method thereof, manufacturing efficiency being secured and a manufacturing process of the wiring board being prevented from resulting in wasted effort owing to a defect of a built-in part.例文帳に追加

端子が狭小ピッチで設けられた例えば半導体チップのような部品が埋設、実装された部品内蔵配線板およびその製造方法において、製造効率を確保し、かつ内蔵部品の不良が原因で配線板としての製造工程が徒労に帰することを回避すること。 - 特許庁

To improve product yield and quality of a liquid-crystal display panel by, related to a method for manufacturing a liquid-crystal display panel, decreasing the number of processes, especially for exposure process, for improved productivity and lower manufacturing cost while occurrence of transistor defect related to an etching stopper part is suppressed.例文帳に追加

本発明の液晶ディスプレイパネルの製造方法は、第1に、工程数、特に露光工程数を低減することにより、生産性を向上させ、以て製造コストを下げることにあり、第2に、エッチングストッパー部に関連するトランジスタ不良の発生を抑え、液晶ディスプレイパネルの製品歩留り及び品質の向上を図ることにある。 - 特許庁

When a defective product is found, it can be analyzed as to which manufacturing condition of which process is the cause of the defect, by investigating the record 100 of the defective product, because the manufacturing condition and the result of the measurement and assessment of each product are managed in a mass in the individual product record 100.例文帳に追加

個別の製品の製造条件とその測定、評価の結果が、個別製品レコード100に集約して管理されるので、不良品が見つかったときには、その不良品のレコード100を調べることで、どの工程のどの製造条件が不良の原因になったのかの分析が可能になる。 - 特許庁

To provide a defect marking device applying marking to a defective portion detected by an inspection device of a lengthy sheet-like product carried in the longitudinal direction, only in one position without damaging the sheet-like product, so that removal or repair of the defective portion is easily performed in an after process.例文帳に追加

長さ方向に搬送される長尺のシート状製品の欠陥を検査装置により検出し、検出された欠陥部分にシート状製品に損傷を与えることなく、1か所のみにおいてマーキングを施し、後工程において容易に欠陥部分の除去又は補修をすることができる欠陥マーキング装置を提供する。 - 特許庁

To provide a correcting method and a correcting device for a pattern, capable of correcting a pattern defect with high accuracy and capable of suppressing deterioration of, in particular, a non-rectangular pattern shape, in the case of pattern correction of a photomask, a wafer, or the like, used in a semiconductor manufacturing process.例文帳に追加

本発明は、半導体製造工程で使用されるフォトマスクやウエハ等のパターン修正処理において、パターン欠陥を高精度に修正することができるとともに、特に非矩形形状のパターン形状の劣化を抑制することができるパターンの修正方法及び修正装置を提供することを課題とする。 - 特許庁

To provide a method for preventing a defect from being formed on a lens base or the like, due to sinking or air bubble inclusion caused by curing contraction of a resin material for lens during heat curing, and manufacturing a resin lens with a flattened lens bottom for semiconductor device, in a manufacturing process by compression molding of the lens.例文帳に追加

レンズの圧縮(コンプレッション)成形による製造方法において、レンズ用樹脂材料の加熱硬化の硬化収縮による、ひけ又は気泡の混入により、レンズ底面などに欠損部ができるのを防止し、かつ、レンズ底面が平坦化された半導体素子用樹脂レンズを製造する方法の提供。 - 特許庁

To provide a coating method capable of surely producing satisfactory result to solve problems of the coating ununiformity caused by vibration, coating stripe easily generated in a slide coater or a curtain coater and tailing fault, punctiform defect and the deterioration of film sticking in the case of applying a coating liquid containing latex or a solid dispersion with a simple process.例文帳に追加

振動に起因する塗布ムラや、スライドコーターやカーテンコーターで起きやすい塗布筋、ラテックスまたは固体分散物を含有する塗布液の塗布の場合の尾引故障、点状欠陥および膜付きの悪化という問題をより簡易な方法で、確実に効果を上げることの出来る塗布方法を提供する。 - 特許庁

To provide an inspection/analysis system which can use an infrared imaging device or both it and a laser imaging device to automatically measure the float or both the floats and cracks of wall surface in a single process and then automatically analyze the pick-up image to extract/determine a defect, in failure check of wall surface for tunnels, etc. by using an inspection vehicle.例文帳に追加

計測車によるトンネル等の壁面の不具合計測において、赤外線撮像装置或は該撮像装置とレーザ撮像装置の両方を使用して壁面の浮き或は浮きとひび割れの両方を1工程で自動計測し、撮像画像を自動解析して不具合を抽出・判定できるシステムを提供する。 - 特許庁

To eliminate the occurrence of an aligning defect caused by non- uniform rubbing pressure by reducing the step differences of pixel electrodes, that are made the same as the film thickness of source/drain electrodes in a conventional lateral electric field system liquid crystal display device active matrix substrate on which the pixel electrodes are produced in the same process of manufacturing the source/drain electrodes.例文帳に追加

従来の横電界方式液晶表示装置用アクティブマトリックス基板では、画素電極をソース・ドレイン電極と同一工程で作製しているので、画素電極の段差はソース・ドレイン電極の膜厚と同じ0.2〜0.4μmと大きくなり、ラビング圧不均一による配向不良が発生しやすくなる。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a wiring board which can prevent the generation of foreign substances by preventing fragments or powder adhering to the cutting face of a laminated substrate from being dispersed to reduce the occurrence of a fault such as a wiring defect caused by the foreign substances without increasing a manufacturing process, and to provide the wiring board.例文帳に追加

製造工程を増加させることなく、積層基板の切断面に付着した破片や粉末を飛散させないようにして異物の発生を防ぐことができ、異物に起因する配線欠陥などの不良の発生を低減できる配線基板の製造方法及び配線基板を提供する。 - 特許庁

To provide a conductive roller capable of reducing the occurrence of an image defect even though a layer for controlling electric characteristic is not provided on the outer periphery of a conductive elastic layer containing conductive particles when using the conductive roller while making it abut on a body to be electrified, and an electrophotographic device and a process cartridge using the conductive roller.例文帳に追加

導電性ローラを被帯電体と当接させて使用する場合に、導電性粒子を含有する導電性弾性層の外周に電気特性を制御するための層を設けなくとも、画像不良の発生を低減できる導電性ローラ、これを用いた電子写真装置およびプロセスカートリッジを提供する。 - 特許庁

To provide a developing device that suppresses an occurrence of a defect such as deflection of a developer regulating member along with a case member in a longitudinal direction due to a change in a use environment temperature and an in-machine temperature even in a case where the developer regulating member and the case member are formed of different materials, and to provide a process cartridge and an image forming apparatus.例文帳に追加

現像剤規制部材と、それを保持するケース部材と、を異なる材料で形成した場合であっても、使用環境温度や機内温度が変動したときに、現像剤規制部材がケース部材とともに長手方向に撓む不具合が生じにくい、現像装置、プロセスカートリッジ、及び、画像形成装置を提供する。 - 特許庁

To provide at low cost a thermal transfer image receiving sheet capable of keeping sensitivity and obtaining a high quality image with no defect on image quality at a high density without influence of delicate variation of a manufacturing process and temperature and humidity during forming the image, and to provide a method for manufacturing it and a method for forming the image using it.例文帳に追加

製造工程の微妙な変動や画像形成時の温度や湿度などの環境の影響に依らず、感度を維持し高濃度で画質欠陥のない高画質な画像を得ることができる感熱転写受像シートを低コストで提供し、その製造方法およびそれを用いた画像形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a semiconductor device in which ARL is used for processing a silicon oxide film in the upper layer of a local interconnection tungsten film and subsequently even if passing through a high temperature film forming process, a defect due to the exfoliation of a boundary face between the local interconnection tungsten film and the silicon oxide film is prevented from occur.例文帳に追加

ローカル配線タングステン膜の上層のシリコン酸化膜の加工にARLを使用し、その後に高温の成膜プロセスを経ても、ローカル配線タングステン膜とシリコン酸化膜界面の膜剥がれによる欠陥の発生を抑制できる半導体装置の製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a black toner improved in transfer efficiency while maintaining fixing performance and endurance characteristic upon the usage, and reduced in density difference between colors of full color image, which prevents occurrence of an image defect upon the transfer, and outputs an image having satisfactory reproducibility over a long term, and also to provide a method of manufacturing the same, and a process cartridge.例文帳に追加

定着性能、使用時の耐久特性を維持したまま、トナーの転写効率を向上させ、フルカラー画像の色間の濃度差を低減し、転写時に画像欠陥をなくし長期的に再現性の良い画像を出力するブラックトナー、その製造方法及びプロセスカートリッジを提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a porous substrate used as a base substrate for growing GaN crystals, which enables epitaxial growth of GaN single crystals through a conventional crystal-growth process but with a smaller defect density than that of a conventional one, a substrate onto which a GaN semiconductor is mounted and their manufacturing processes.例文帳に追加

従来の結晶成長方法がそのまま適用可能で、かつ従来よりも大幅に欠陥密度の少ないGaN単結晶のエピタキシャル成長を可能とするGaN結晶成長用下地基板としての多孔質基板とその製造方法、GaN系半導体積層基板とその製造方法を提供する。 - 特許庁

Then a predetermined conversion process is performed on at least one of the input CAD data D1 and the run-length data D2 to make the data formats of both data comparable, and then both data are compared with each other to detect an area having a difference as a defect area in the run-length data D2.例文帳に追加

そして、入力CADデータD1とランレングスデータD2とのうちの少なくとも一方のデータに対して所定の変換処理を実行して互いに比較可能なデータ形式に揃えた上で、両データを比較し、差異がある領域をランレングスデータD2における欠陥領域として検出する。 - 特許庁

To provide a magnetic recording medium for hard disk of high durability and high corrosion-resistance even in an ultrathin film of 5 nm or less by improving the defect of large internal stress of a protective coat formed by a filtered cathodic arc process and poor durability easily exfoliated from a magnetic film, and a magnetic recording device equipped with the magnetic recording medium.例文帳に追加

フィルタードカソーディックアーク法により形成される保護膜の内部応力が大きく磁性膜から剥離しやすく耐久性の悪い欠点を改善し、5nm以下の極薄膜においても、高耐久性かつ高耐蝕性のハードディスク用磁気記録媒体およびこの磁気記録媒体を備えた磁気記録装置を提供する。 - 特許庁

Before an ion injecting process (stage S2) as an object of metal contamination evaluation is performed, an amorphous silicon layer 2 is formed (stage S1) on a silicon substrate surface (a surface of a silicon wafer 1) to suppress a crystal defect induced nearby the surface of the silicon wafer 1 due to injection energy in the silicon injection stage S2.例文帳に追加

金属汚染評価対象であるイオン注入処理(工程S2)を行う前に、シリコン基板表面(シリコンウエハ1の表面)に非晶質シリコン層2を形成する(工程S1)ことにより、イオン注入工程S2において注入エネルギーによりシリコンウェハ1の表面近傍に誘発される結晶欠陥を抑制することができる。 - 特許庁

Substrate splices and defects are detected prior to reaching the coating position such that a feed-forward controller is able to momentarily retract the coating head both avoiding slot die damage and avoiding interruption of the coating process, yet the apparatus is able to return the coating head, with high precision, to its prior position once the splice or defect has passed.例文帳に追加

基材スプライス及び欠陥が塗布位置に到達する前に検知されるため、フィードフォーワード制御装置が塗布ヘッドを一時的に格納することにより、スロットダイの損傷を回避しつつ塗布プロセスの中断を避けることができるとともに、この装置によれば、スプライス又は欠陥が通過した後、塗布ヘッドをその元の位置に高精度で戻すことができる。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition that can give a resist coating showing a high dynamic contact angle during exposure in an immersion exposure process, thereby showing excellent draining capability on the surface of the resist coating as well as high solubility with an alkali developing solution and with a rinsing liquid, and suppressing occurrence of a development defect.例文帳に追加

液浸露光プロセスにおいて、露光時には高い動的接触角を示すことにより、レジスト被膜表面が優れた水切れ性を示す一方で、アルカリ現像液及びリンス液に対する高い溶解性を示し、現像欠陥の発生が抑制されるレジスト被膜を与えることができる感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

On the basis of data of defect inspection obtained in a process for forming a circuit pattern in a wafer 1 and of the shape of a circuit pattern wherein a poor conductive region 7a is found by a VC inspection, when performing DSA by using the data of VC inspection after forming the circuit pattern, a rectangular DSA region 8 is formed so as to surround the circuit pattern.例文帳に追加

ウェハ1に配線パターンを形成する過程で得られる欠陥検査のデータと、配線パターン形成後のVC検査のデータを用いてDSAを行う際、VC検査によって導通不良領域7aが見つかった配線パターンの形状を基に、その配線パターンを囲むようにして矩形形状のDSA領域8を設定する。 - 特許庁

To provide a plywood inspection apparatus identifying an adhesion failure of a plywood and a cavity in the plywood in inspecting the plywood for a defect (cavity), detecting a difference between the cavity and a node, coping with a defective cavitated plywood in a subsequent process, from on that signal, thereby lowering an incidence of defective goods.例文帳に追加

合板の欠陥(空洞)を検査するにあたり、合板の接着不良と合板の空洞とを識別して検査することが可能で、また、空洞と節との相違も検出することができ、その信号から後工程で空洞のある欠陥合板に対処することが可能で不良商品の発生率も低下させることのできる合板検査装置を提供する。 - 特許庁

To provide a vibration solidification casting apparatus which optimizes vibration conditions including the two parameters of centrifugal force and frequency prescribed as the vibration conditions to vibrate a mold, and can suppress the fining of the macro-crystal grains of the metallic structure produced in a solidification process and the generation of a cavity defect, with respect to a vibration solidification casting technique.例文帳に追加

振動凝固鋳造技術において、鋳型を振動させる振動条件として規定される遠心力及び振動数の二つのパラメータを含む振動条件を最適化し、凝固過程で生成される金属組織のマクロ結晶粒の微細化及び鋳巣欠陥の発生を抑制することが可能な振動凝固鋳造装置の提供を課題とする。 - 特許庁

To provide a sheet pressing device capable of preventing generation of a defect, such as bend, at the corner part of a curved sheet without requiring size increase of the device even when deformation occurs in which the sheet, on which a fixing process is performed by a fixing device, is curled in the direction crossing the conveyance direction of the sheet; and to provide an image forming apparatus using the sheet pressing device.例文帳に追加

定着装置によって定着処理を施されたシートに、その搬送方向と交差する方向に湾曲する変形が発生した場合であっても、装置の大型化を招くことなく、湾曲したシートの角部に折れ曲りなどの障害が発生するのを防止可能なシート押さえ装置及びこれを用いた画像形成装置を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a stencile mask for ion implantation, having excellent heat resistance, durability and ion implantation accuracy by reducing a critical defect of a stencile mask for ion implantation such as deformation of a membrane due to heat generated from an ion beam in an ion implantation process using the stensile mask for ion implantation to be executed in manufacture of semiconductor devices.例文帳に追加

半導体デバイス作製において行われる、イオン注入用ステンシルマスクを用いたイオン注入工程において、イオンビーム発熱に起因したメンブレンのたわみという、イオン注入用ステンシルマスクの致命的欠陥を低減し、優れた耐熱性や耐久性およびイオン注入精度を有するイオン注入用ステンシルマスクの製造方法を提供すること。 - 特許庁

例文

To provide a magnetic head manufacturing method which can remarkably reduce the defect rate of the products by achieving a magnetic head manufacturing method which can actually form possible broken magnetic poles and bent magnetic poles in advance during the period the magnetic poles and their protective layers are formed in a manufacturing process of a magnetic head.例文帳に追加

磁気ヘッドの製造工程において、磁極が形成されてから当該磁極の保護層が形成されるまでの間に発生し得る磁極飛び・磁極曲りをあらかじめ現出させることが可能な磁気ヘッドの製造方法を実現し、それにより、製品の不良品率を著しく低下させることが可能な磁気ヘッドの製造方法を提供する。 - 特許庁




  
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