「process defect」に関連した英語例文の一覧と使い方(13ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a method and a device for insulation testing, which make it possible to inspect all defect parts where sounding winging coils are abnormally close to laminate coarse (at intervals of <1 mm) through nondestructive inspection in a mass-production process.例文帳に追加

健全な巻線コイルがラミネートコアに異常接近（１ｍｍ以内）した状態にある欠陥部分を、非破壊検査により量産工程で全数検査を可能にした絶縁試験方法および装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a pattern defect detection device that detects a fluorescent image, a diffusion light image, and a reflection light image of a substrate formed by laminating dry films so as to easily detect various defects occurring in an exposure process.例文帳に追加

ドライフィルムが積層された基板の蛍光イメージと散乱光イメージ、そして反射光イメージをさらに検出して、露光工程で発生する様々な欠陥を容易に検出できるようにしたパターン欠陥検出装置を提供する。 - 特許庁

In the process of the increase, the power of the laser light source of the 1st microscope 21A is gradually decreased to make electrons (current) based upon internal photoelectron effect flow, thus obtaining an abnormal point based upon an actual crystal defect, etc.例文帳に追加

この上げていく過程で、同時に、第１マイクロスコープ２１Ａのレーザ光源のパワーをゆっくり下げていき、内部光電子効果に基づく電子（電流）が流れるようにして、実際の結晶欠陥等に基づく異常点を得る。 - 特許庁

To provide an etchant not containing chromium for a Si substrate and SiGe substrate, a method for revealing a defect by using this etchant, and a process for processing the Si substrate and the SiGe substrate by using this etchant.例文帳に追加

Ｓｉ基板およびＳｉＧｅ基板用のクロムを含まないエッチング液、このエッチング液を使用して欠陥を明らかにする方法、およびこのエッチング液を使用してＳｉ基板およびＳｉＧｅ基板を処理するプロセスを提供する。 - 特許庁

To provide a device and a method for coating with a polyimide film capable of improving pinhole defect and line stain by completely removing residue left on an inkjet head in an inkjet-system polyimide coating process.例文帳に追加

インクジェット方式のポリイミド膜塗布工程においてインクジェットヘッド上に残存する残留物を完全にとり除いてピンホール不良や線染みなどを改善することができるポリイミド膜塗布装置及び方法を提供することである。 - 特許庁

Thereby, on the ashing process of a photosensitive layer, etching ratio on a part where wiring is positioned is equalized to the etching ratio on a part where the wiring is not positioned and, therefore, the advantage of preventing a defect from occurring on the surface of the wiring can be obtained.例文帳に追加

ここれにより、感光層をアッシングする工程で、配線が位置した部分と、そうではない部分に対するエッチングの比率を合わせることができるために、配線の表面に欠陥が発生する不良を防げる長所がある。 - 特許庁

Furthermore, by referring to the database, a type of the extracted defect is specified and the density of defects of each type is determined for each manufacturing process of the sample for display.例文帳に追加

また、試料を検査して得られる欠陥の種類を記憶したデータベースを参照して、抽出した欠陥の種類を特定し、試料の製造プロセスごとに欠陥の種類別の欠陥密度を求め、表示するようにしたものである。 - 特許庁

To provide a semiconductor device equipped with semiconductor elements in which stress of a region where the semiconductor elements are formed is controlled to improve mobility of electric charges, to provide its fabricating process and further to provide a semiconductor device fabricating process in which less crystal defect and less crystal transition are generated in a semiconductor element forming region even if a SOI structure is partially formed, and furthermore to provide the semiconductor device fabricated by the process.例文帳に追加

半導体素子を形成する領域の応力を制御して、電荷の移動度を向上させた半導体素子を備えた半導体装置およびその製造方法、並びに、部分的にＳＯＩ構造を形成しても半導体素子を形成する領域に結晶欠陥や結晶転位がより少ない半導体装置の製造方法およびその方法により製造された半導体装置を提供することである。 - 特許庁

To provide a method for detecting the defect of a composite hollow fiber membrane for ultrafiltration/microfiltration having a separating function layer on a porous support membrane, capable of easily detecting a defect portion before modulating and capable of automatically and easily attaching or removing a colorable substance in a membrane-forming process.例文帳に追加

本発明は、多孔質支持膜上に分離機能層を有する限外ろ過／精密ろ過複合中空糸膜の欠陥検出方法において、モジュール化する前に容易に欠陥部分を検出することができ、製膜工程の中で自動的にかつ容易に着色性物質を付着・除去することが可能な限外ろ過／精密ろ過複合中空糸膜の欠陥検出方法を提供する。 - 特許庁

To facilitate management of a manufacturing process by supplying inspection data capable of inspecting the electrical characteristics of a TFT formed on the same substrate and the formation defect of a contact hole provided on a transparent organic insulating film to an inspection apparatus.例文帳に追加

同一基板上に形成されたＴＦＴの電気的特性及び透明有機絶縁膜に設けられたコンタクトホールの形成不良を検査可能な検査データを検査装置に供給し、製造プロセスの管理を容易にすることを課題とする。 - 特許庁

An electron beam having 100 eV or more and 1,000 eV or less of irradiation energy is scanned/irradiated to the wafer 18 having the pattern with the high step difference under the semiconductor manufacturing process, the defect is inspected quickly based on an image of a secondary electron generated therein.例文帳に追加

半導体製造工程中の高い段差のあるパターンを持つウエハ１８に１００ｅＶ以上１０００ｅＶ以下の照射エネルギ−の電子線を走査・照射し、発生した２次電子の画像から高速に欠陥検査を行う。 - 特許庁

To provide a method for pulling a silicon single crystal which improves nonuniformity of BMD (Bulk Micro Defect) density per parts, while the concentration of oxygen from the top side to the bottom side is uniformly maintained in the pulling process of a single crystal.例文帳に追加

単結晶の引き上げ過程において、トップ側からボトム側までの酸素濃度を均一に保ったまま、部位によるＢＭＤ（Ｂｕｌｋ Ｍｉｃｒｏ Ｄｅｆｅｃｔ）密度の不均一を改善するシリコン単結晶の引き上げ方法を提供する。 - 特許庁

The semiconductor device also comprises a polycrystal semiconductor film of a high quality in which a grain boundary, a grain size, a crystal orientation can be controlled and a roughness of a film and a crystal defect generated in a process of crystallization are reduced, on the insulating board.例文帳に追加

本願発明によれば、絶縁体基板上に、粒界、粒径、結晶方位を制御でき、結晶化の仮定で生じる膜のラフネスと結晶欠陥を低減した高品質の多結晶半導体膜を有する半導体装置を得ることが出来る。 - 特許庁

To provide a welding device for parts wherein the parts are mutually welded while securing the sufficient welding strength without causing a welding defect under the high productively, and also in the maintenance for a welding jig, the stopping of a welding process is not required.例文帳に追加

部品同士が高い量産性のもとに溶接不良を発生することなく十分な溶接強度を確保して溶接され、かつ溶接治具のメンテナンスに際しても溶接工程の停止を必要としない部品溶接装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a TFT(thin film transistor) array substrate in which the short circuit failure between adjacent wirings or the like can be recognized in the defect inspecting process of the TFT array substrate and, moreover, a correct inspected result can be obtained when a GS(group separator) short circuit failure is caused.例文帳に追加

ＴＦＴアレイ基板の欠陥検査工程において、隣接する配線間の短絡不良等が認識でき、さらにＧＳショート不良の発生時にも正確な検査結果を得ることができるＴＦＴアレイ基板を提供する。 - 特許庁

To provide a chemical mechanical polishing method capable of suppressing surface defect including scratches, and sufficiently suppressing a cost in practical usage in a planarizing process of a surface to be polished by the chemical mechanical polishing method.例文帳に追加

化学的機械的研磨方法による被研磨面の平坦化工程において、スクラッチをはじめとした表面欠陥が抑えられ、現実の使用においてもコストを十分に抑える事が出来る化学的機械的研磨方法を提供することを目的とする - 特許庁

To provide a high-performance hollow fiber membrane type blood purification module which causes no adhesion of hollow fiber membranes with each other within the module, and module size is small, by simple and easy production process, improving the defect in the conventional technology.例文帳に追加

本発明は、かかる従来技術の欠点を改良し、簡便な工程により、中空糸膜間のモジュール内における密着のなく、モジュールサイズが小さく、かつ、性能の高い中空糸膜型血液浄化用モジュールを提供することを課題とする。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a polyimide film of which the surface defect is improved by preventing the contamination of a roll caused by the unreacted polymerizable substance, lower polymer or the like oozing out from the interior of the polyimide film during a polyimide film manufacturing process.例文帳に追加

ポリイミドフィルムの製造工程中でポリイミドフィルム内部からしみ出してくる重合未反応物や低重合物等によって生じるロールの汚れを防止し、表面欠点が改善されたポリイミドフィルムを製造する方法を提供する。 - 特許庁

To enhance photoelectric conversion characteristics by suppressing the crystal grain boundary or intra-grain defect in a crystalline silicon based thin film photoelectric conversion layer formed by low temperature process using plasma CVD.例文帳に追加

プラズマＣＶＤ法による低温プロセスを用いて形成される結晶質シリコン系薄膜光電変換層における結晶粒界や粒内欠陥を低減し、それによって光電変換特性が改善されたシリコン系薄膜光電変換装置を提供する。 - 特許庁

Upper 32 pixels are selected in an order from the one with the largest dark output level by analyzing the dark output level of the image pickup signal and judged as new defective pixels by the digital process 108 under control of a defect data detecting part 112c.例文帳に追加

欠陥データ検出部１１２ｃの制御の下、ディジタルプロセス１０８では撮像信号の暗出力レベルを解析する事により、暗出力レベルが大きいものから順に上位３２個の画素を選択し、それを新規欠陥画素として判定する。 - 特許庁

To provide a CMOS image sensor capable of minimizing the occurrence of defect due to impurity ion implantation at the boundary of an active region and an isolation film beneath the gate electrode of a transistor constituting a CMOS image sensor, and to provide its fabrication process.例文帳に追加

ＣＭＯＳイメージセンサを構成するトランジスタのゲート電極の下のアクティブ領域と素子分離膜間の境界で不純物イオン注入による欠陥発生を最小化できるＣＭＯＳイメージセンサ及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a semiconductor device which has no problem of defect due to that a capacitor hole does not open in a process for forming a capacitor and no problem of contact between adjacent lower electrodes due to loss of a beam.例文帳に追加

キャパシタを形成する工程において、キャパシタ孔が開孔しないことに起因した不良の問題がなく、また、梁の消失に起因した隣接する下部電極同士の接触の問題がない半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an epitaxial substrate for a back-illuminated image sensor and a manufacturing method thereof, capable of suppressing metal contaminations and reducing occurrence of a white spot defect of the image sensor, by maintaining a sufficient gettering performance in a device process.例文帳に追加

デバイス工程中、十分なゲッタリング能力を維持することで、金属汚染を抑制し、イメージセンサの白傷欠陥の発生を低減させることができる裏面照射型イメージセンサ用エピタキシャル基板およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for producing an expensive metal-containing steel with which the expensive metal that is lost is effectively recovered in a surface defect removing process of a cast slab in the expensive metal-containing steel and the cost reduction can be achieved by recycling.例文帳に追加

高価金属含有鋼の鋳片の表面欠陥除去工程において失われていた高価金属を有効的に回収しリサイクルすることによりコストダウンを図ることができる高価金属含有鋼の製造方法を提供する。 - 特許庁

By calling up the information relating to contamination of the reticle during storage and transfer included in the information relating to the reticle 1, the reticle 1 in a contaminated state that may cause a pattern defect can be prevented from being used in an exposure process by cleaning the reticle.例文帳に追加

このレチクル１に係る情報に含めた保管，移動時のレチクル汚染に関する情報を呼び出すことで、レチクル洗浄を行って、パターン欠陥に結びつく汚染状態のレチクル１を露光処理に使用することを防止できる。 - 特許庁

To provide a surface inspection method and surface inspection device capable of improving the accuracy for detecting a defect such as unevenness existing in a surface of an inspecting object without complicating the inspection process and the constitution of the inspection device.例文帳に追加

検査工程および検査装置の構成を複雑化させることなく、検査対象物の表面に存在する凹凸などの欠陥を検出する精度を向上させることができる表面検査方法および表面検査装置を提供する - 特許庁

To provide a method for manufacturing the master disk of an optical disk capable of transferring a concave/convex pattern, which is formed on an inorganic resist layer by use of a thermochemical reaction, to a stamper without causing a minute concave defect in a surface by an electroforming process.例文帳に追加

熱化学反応を利用して無機レジスト層に形成された凹凸パターンを、電鋳処理により、表面に微小な陥没状の欠陥を生じさせることなく、スタンパに転写可能な光ディスク原盤の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a process for producing a polycarbonate resin composition having stable productivity upon production, excellent appearance without causing a surface defect such as a silver streak and stable flame retardancy, and to provide a molded article obtained by injection-molding the polycarbonate resin composition.例文帳に追加

製造時の生産性が安定し、また、シルバーストリーク等の表面欠陥の発生がなく、外観性に優れ、かつ、安定した難燃性を有するポリカーボネート樹脂組成物の製造方法及びそれを射出成形して得られた成形品を提供する。 - 特許庁

To prevent a print defect by detecting all high-voltage part operation states of an electrophotographic process part of an image forming apparatus or to accurately calculate the life of an ozone filter by measuring ozone density before and behind an ozone filter and calculating the difference.例文帳に追加

画像形成装置において、電子写真プロセス部のすべての高電圧部動作状態を検出し印刷不良を防止する、または、オゾンフィルタ前後のオゾン濃度を測定し、差分を計測する事によりオゾンフィルタの寿命を正確に算出する。 - 特許庁

To provide the manufacture method of a semiconductor laser for surely leaving an oxide film on top of an optical waveguide in a mesa form, which is formed on a semiconductor substrate, eliminating a feature defect occurred in a later manufacture process and improving the manufacture yield.例文帳に追加

半導体基板上に形成されたメサ形状の光導波路頂上に酸化膜を確実に残し、後の製造工程で生じる特性不良を無くし製品歩留りを向上させる半導体レーザの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a process for forming a nitride based semiconductor capable of forming a nitride based semiconductor layer of good crystallinity with little dislocation and little crystal defect caused by detachment on the upper surface of a substrate with small number of growth steps.例文帳に追加

基板の上面に、少ない成長工程の回数で、転位が少なく、かつ、離脱に起因する結晶欠陥の少ない結晶性の良好な窒化物系半導体層を形成することが可能な窒化物系半導体の形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a semiconductor device employing a trench isolation structure in which reliability is enhanced by forming a cavity selectively, thereby suppressing troubles due to crystal defect effectively; and to provide its fabrication process.例文帳に追加

トレンチ分離構造を採用する半導体装置において、選択的に空洞部を形成することにより、結晶欠陥による弊害を効果的に抑制して、信用性の向上が図られた半導体装置およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a semiconductor device manufacturing method which includes an etch-back process that prevents the generation of the etching residue of a tungsten film or a titanium nitride film at the time of forming a tungsten plug having a small plug loss and hence can make stable etching possible with less wiring defect.例文帳に追加

プラグロスの小さいタングステンプラグを形成する際に、タングステン膜または窒化チタン膜のエッチング残渣の発生を防止し、配線不良が少なく安定したエッチングを可能にするエッチバック工程を備えた半導体装置の製造方法の提供。 - 特許庁

To provide an excellent dry process spacer scattering device by which the frequencies of cleaning and exchange of a scattering pipe can be suppressed and a foreign matter defect on a liquid crystal substrate can be reduced by suppressing accumulation or flocculation of spacers onto the inner wall of the scattering pipe.例文帳に追加

散布配管内壁へのスペーサの堆積、あるいはスペーサの凝集を抑えることで、 散布配管の清掃・交換頻度を抑え、かつ液晶基板の異物不良を低減可能な優れた乾式液晶スペーサ散布装置を提供する。 - 特許庁

The inspection process time can be reduced, because an image processing part 120 including a defective pixel determination part 127 and a back foreign matter determination part 128 is required only discrimination a defect portion corresponding to some of the back foreign matter, the inside foreign matter and the defective pixel.例文帳に追加

不良画素判定部１２７と裏面異物判定部１２８とを含む画像処理部１２０は、裏面異物、内部異物、または、不良画素のうちの何れかに対応する欠陥部位を識別すればよいので、検査タクトが少なくてすむ。 - 特許庁

In the process improvement support apparatus, an object to be improved is specified (S43 and S34) using defect images and pareto diagrams, etc., a measure list generating engine generates a measure plan against the defects and a measure list is prepared (S46 and S37).例文帳に追加

工程改善支援装置においては、不良画像、パレート図等を用いて改善が必要な改善対象を特定させ（Ｓ４３、Ｓ３４）、不良に対する対策計画を対策リスト生成エンジンに生成させて対策リストを作成する（Ｓ４６、Ｓ３７）。 - 特許庁

As a result, the defect in the conventional method wherein many sheets of silicon wafer W are transferred en block to the next process by using a cassette case is eliminated.例文帳に追加

結果、カセットケースで多数枚のシリコンウェーハＷをまとめて次工程へ移送する従来法の欠点、すなわち面取り工程の終了後にシリコンウェーハＷを乾燥したり、カセットケースが満杯になるまで処理済みウェーハＷを一時保管する必要がない。 - 特許庁

To provide a toner superior in transfer efficiency, even in a high-speed full-color image forming method, and capable of image output with no image defect and good reproducibility in transfer, and a developer, a toner-containing container, a process cartridge and an image forming method using the toner.例文帳に追加

高速のフルカラー画像形成方法においても転写効率が優れ転写時に画像欠陥がなく再現性のよい画像出力が可能なトナーとそれを用いた現像剤、トナー入り容器、プロセスカートリッジ及び画像形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a process of manufacturing foamed polyolefinic resin moldings having a good quality such as a less decrease in the strength or lower defect ratios of the moldings as compared with those of virgin polyolefinic resins even when waste polyolefinic resins are utilized for the raw materials.例文帳に追加

本発明は、廃ポリオレフィン系樹脂成形体を利用しても、バージンのポリオレフィン系樹脂と比して強度低下が少なく、成形体の不良率が低い等品質の良好な、発泡ポリオレフィン系樹脂成形体の製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a method for inspecting the emission of laser beams capable of easily inspecting at a low cost the defective emission of laser beams in the product using a high speed emission waveform, in which the increase of a defect is expected due to the complication is furthered hereafter, even in the component inspection process.例文帳に追加

今後さらに複雑になり不良が増大すると予想できる高速発光波形を用いる製品でのレーザ発光不良の検査を、低コストで、簡易に、部品検査工程でも行なえるレーザ発光検査方法を提供する。 - 特許庁

To provide an inspection device and a test method for a rotary electric machine capable of evading the fear of being unable to perform an insulation test under a high voltage since a heavy current flows in a stator coil, when a defect test of the stator is performed in a manufacturing process.例文帳に追加

製造工程におけるステータの不良検査時において、大電流がステータコイル流れるために高電圧での絶縁試験ができないおそれを回避できる回転電機の検査装置および検査方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a process which provides a strong mechanical function, eliminates a streak defect problem on copy/print-out, enables the formation of an imaging member belt with a prolonged service life, and releases internal stress/strain of a flexible multi-layer web stock.例文帳に追加

堅牢な機械的機能を提供し、かつコピー・プリントアウトのストリーク欠陥問題がなく、サービス寿命の延長されるイメージング部材ベルトの作成を可能にする、柔軟な多層ウェブ・ストックの内部応力／ひずみを解放するプロセスを提供する。 - 特許庁

To provide a defect correction method for correcting only defects generating in each step in the manufacturing process of a color filter for an LCD, and to provide a method for manufacturing a color filter for an LCD and a color filter for an LCD using the above correction method.例文帳に追加

ＬＣＤ用カラーフィルタの製造工程の各工程で発生する欠陥のみを修正する欠陥の修正方法及びそれを用いたＬＣＤ用カラーフィルタの製造方法並びにＬＣＤ用カラーフィルタを提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a satisfactory image by preventing a transfer defect regardless of the size of pinhole concerning an image forming device by an electrophotographic process using a transfer roller composed of a non-contact conductive foam for a photosensitive drum.例文帳に追加

感光体ドラムに対して非接触の導電性発泡体からなる転写ローラを用いた電子写真プロセスによる画像形成装置において、転写ローラの表面のピンホールの大きさに関わりなく、転写不良を防止して良好な画像を得る。 - 特許庁

To provide a resist pattern forming method capable of reducing development defect due to deposition of a resist film and re-adhesion of a semi-insoluble material in a developing and rinsing process with a normal hardware environment, and to provide a method of manufacturing a semiconductor device.例文帳に追加

通常のハード環境のままで、現像、リンス工程において、レジスト膜の析出及び半不溶化物の再付着による現像欠陥を低減させることができるレジストパターンの形成方法および半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁