「process defect」に関連した英語例文の一覧と使い方(7ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a front loading evaluation device evaluating not only the number of defects in a process but also evaluating a degree of divergence between a defect generation process and a detection process, so that the number of outflow defects and outflow state to a downstream process are obtained, and the progress of improvement activity relating to front loading can be evaluated.例文帳に追加

工程内の欠陥数の評価だけでなく、欠陥の発生工程と発見工程の乖離度をあわせて評価することにより、流出欠陥数と下流工程への流出状況を把握し、フロントローディングに関する改善活動の進捗状況を評価できるフロントローディング評価装置を得ること。 - 特許庁

The evaluating method of the internal defect of the sample comprises a dipping process of dipping the sample in molybdenum-containing solution containing molybdenum; a depressurizing process of depressurizing the molybdenum-containing solution in which the sample is dipped; a drying process of drying the sample; and a detecting process of detecting the distribution of the molybdenum in the sample.例文帳に追加

本発明は、モリブデンを含むモリブデン含有溶液に試料を浸漬する浸漬工程と、試料が浸漬されたモリブデン含有溶液を減圧する減圧工程と、試料を乾燥する乾燥工程と、試料中の前記モリブデンの分布を検出する検出工程とを含む試料内部欠陥の評価方法である。 - 特許庁

To provide a piezoelectric vibration reed and a manufacturing method of the piezoelectric vibration reed, as well as a piezoelectric vibrator equipped with the piezoelectric vibration reed, an oscillator, an electronic apparatus and a radio wave clock, which can manufacture the piezoelectric vibration reed without a surface defect, suppressing the influence of the surface defect in a previous process to extend over a subsequent process.例文帳に追加

前工程における表面欠陥の影響が後工程に及ぶのを抑制し、表面欠陥のない圧電振動片を製造することができる圧電振動片の製造方法及び圧電振動片、並びに圧電振動片を備えた圧電振動子、発振器、電子機器及び電波時計を提供する。 - 特許庁

The production pathway navigation system is configured to calculate the percentage of defect-free product for every manufacturing history and model based on manufacturing history information transmitted from a manufacturing process management device and inspection history information transmitted from the inspection process management device, and determines the optimal production pathway from the calculated percentage of defect-free product.例文帳に追加

この生産経路ナビゲートシステムは、まず、製造工程管理装置から送信された製造履歴情報と、検査工程管理装置から送信された検査履歴情報とに基づいて、製造履歴、機種毎に直行率を算出し、算出した直行率から最適な生産経路を決定しておく。 - 特許庁

The defect detecting device performs a filtering process for the reduced image in the first direction for removing the defect in the reduced image, and generates a first enlarged image formed by enlarging the reduced image to which the filtering process has been performed, in the first direction at an image enlargement ratio equivalent to the inverse number of the image reduction ratio.例文帳に追加

縮小画像に対して縮小画像における欠陥を除去するためのフィルタ処理を第一の方向に実行し、フィルタ処理が実行された縮小画像を、画像縮小率の逆数に相当する画像拡大率で第一の方向へ拡大した第一の拡大画像を生成する。 - 特許庁

To provide a composite plate capable of preventing generation of a defect such as crack, knot hole and partial deficiency in a surface layer by interposing a material for covering defects in between and capable of reducing process steps of manufacturing, and also provide a process for manufacturing the composite plate.例文帳に追加

欠点隠蔽材を介在させることにより、表層にクラック、節穴、部分欠損等の欠点が現出しないようにし、工程数の減少も可能とした複合板及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a defect judging system and a substrate processing system with which abnormality in a manufacturing process is detected in an early stage of production, deterioration of an amount of production can be suppressed to be minimum and yield in the manufacturing process can be improved.例文帳に追加

生産の早い段階で製造工程の異常を発見し、生産量低下を最小限に抑えて製造工程の歩留まりを改善することができる欠陥判定システムおよび基板処理システムを提供する。 - 特許庁

To provide a semiconductor device which can be manufactured without adding a process where a defect part does not occur in an insulation protection film and the manufacturing cost is raised after an etching process for opening a bonding pad, and to provide a manufacturing method of the device.例文帳に追加

ボンディングパッドを開口するためのエッチング工程後、絶縁保護膜に欠損部が発生せず、製造コスト上昇となる工程の追加無しに製造できる半導体装置とその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a motor stator and its manufacturing method capable of simplifying a manufacturing process, capable of reducing assembling cost and capable of enhancing reliability and production efficiency of a product by preventing a defect from being caused by the complicated manufacturing process.例文帳に追加

製造プロセスを簡易化し、組み立てコストを下げ、複雑な製造プロセスが招く欠点を防いで製品の信頼度と生産効率とを上げることが可能なモーター固定子とその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide stable electric characteristics and increase the reliability of a semiconductor device including an oxide semiconductor having achieved microfabrication and high integration and of a manufacturing process for the semiconductor device, and provide a technique for manufacturing the semiconductor device while suppressing a defect and increasing the yield in the manufacturing process.例文帳に追加

微細化及び高集積化を達成した酸化物半導体を用いた半導体装置、及び半導体装置の作製工程において、安定した電気的特性を付与し、高信頼性化する。 - 特許庁

The method comprises a first synthetic process for synthesizing the plurality of the detection brightness values to produce one detection brightness synthetic value; a second synthetic process for synthesizing the plurality of the comparison brightness values to produce one brightness synthetic value; and a defect judging process for judging the presence of the defect at the detection position on the basis of the detection brightness synthetic value and the comparison brightness synthetic value.例文帳に追加

この方法は、複数の検査用輝度値を合成して一の検査用輝度合成値を生成する第１の合成工程と、複数の比較用輝度値を合成して一の比較用輝度合成値を生成する第２の合成工程と、検査用輝度合成値と比較用輝度合成値とに基づいて、検査位置における欠陥の有無を判定する欠陥判定工程と、を備える。 - 特許庁

To provide a device and method for detecting a surface defect of a round wire rod in real-time and without contact, using an optical sensor, in which the surface defect occurs on a surface of the wire rod in a process of manufacturing the wire rod through rolling, drawing and extrusion.例文帳に追加

本発明は、線材製造工程のうち圧延、引抜、及び射出工程で線材を生産する過程で線材の表面に発生する表面欠陥を光学センサを用いて非接触式でリアルタイムに検出する装置及び方法に関する。 - 特許庁

To prevent exhaust defect, quality defect and the corrosion of ambient equipment, to prevent the reduction of operation rate due to the exchange of the exhaust pipe and to reduce the maintenance cost by preventing clogging of an exhaust pipe, the entrainment of the air and the indoor leakage of a dehydrated process gas.例文帳に追加

排気管詰まり、大気巻き込み、脱水プロセスガスの室内漏洩が生じないようにし、排気不良、品質不良、周辺設備の腐食を防止するとともに、排気管交換による稼働率低下の防止や、補修費の低減を図る。 - 特許庁

Since the organic materials are removed before the forming process of the base dielectric of the rear panel, generation of bubbles in the base dielectric can be prevented, and a failure such as a breakdown voltage defect and a partition wall forming defect can be prevented.例文帳に追加

背面板の下地誘電体形成工程前に有機物を除去することで、下地誘電体中への気泡の発生を防止することができ、絶縁耐圧不良や隔壁形成不良等の欠陥を防止することが可能となる。 - 特許庁

To provide a new method for surface defect detection and its device which can quantitatively measure a defect in atom size generated on the surface and interface of a sample in a manufacturing process for semiconductor devices or the like in real time with high precision.例文帳に追加

半導体デバイスの製造プロセス等において試料の表面および界面に発生する原子サイズの欠陥を実時間で、且つ高精度で定量測定することのできる、新しい表面欠陥検出方法およびその装置を提供する。 - 特許庁

To provide a developing device where fogging and image density unevenness onto a recording medium caused by a toner charging defect and a toner carrying defect are suppressed, and excellent image stability can be obtained; to provide an image forming apparatus; to provide an image forming method; and to provide a process cartridge.例文帳に追加

トナーの荷電不良及びトナーの搬送不良による記録媒体上へのカブリ及び画像濃度ムラを抑制し、優れた画像安定性が得られる現像装置、画像形成装置、画像形成方法、及びプロセスカートリッジの提供。 - 特許庁

To obtain a color filter substrate which facilitates correction of a defect in a color filter portion, which does not require a plurality of times of inspection steps in the manufacturing process and which shows no display failure even when used for a liquid crystal display device after correcting a defect.例文帳に追加

カラーフィルタ部分の欠陥修正を容易に実現できるとともに、製造過程で複数回の検査工程を必要とせず、欠陥修正後に液晶表示装置に用いても表示が不良とならないカラーフィルタ基板の実現を課題とする。 - 特許庁

To maintain conventional capacity of a defect list to achieve compatibility with a conventional device and efficiency of start process even when a defect cluster is increased by increase of the capacity when the capacity is tried to be further increased by multi-layer technique.例文帳に追加

多層技術などにより更に大容量化を行おうとする際に、容量増加に伴うディフェクトクラスタの増加があっても、従来装置との親和性や起動処理の効率化などのために、ディフェクトリストの容量は従来のままで済ませる。 - 特許庁

As a result, in the wafer treatment processing 100, the Si+ ions introduced at the ion implantation processing 120 are bonded to a vacant lattice defects, produced in the ion implantation process 110, thereby crystal defect generation caused by the vacant lattice defect is prevented.例文帳に追加

結果として，ウェハ処理工程１００では，イオン注入工程１２０で導入されたＳｉ＋イオンが，イオン注入工程１１０で生じる空格子欠陥と結合し，空格子欠陥に起因する結晶欠陥の発生が抑制される。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a color filter capable of promptly recognizing the cause of a defect at a process of forming the color filter, and capable of effectively preventing the occurrence of the defect.例文帳に追加

本発明は、カラーフィルタを製版する際の工程において、欠陥を生じさせる原因を速やかに認識することができ、効果的に欠陥の発生を防止することが可能なカラーフィルタの製造方法を提供することを主目的とするものである。 - 特許庁

To provide an extreme ultraviolet rays exposure mask which can inspect the defect of an adsorption film without necessity of complication of a depositing process and which can inspect even the defect occurring at the time of exfoliating a cushion film.例文帳に追加

吸収膜の大幅な低反射率化、成膜工程の複雑化を必要とせずに、吸収膜の欠陥検査が可能であるとともに、緩衝膜の剥離時に生じる欠陥に対しても、検査が可能な極端紫外線露光用マスクを提供すること。 - 特許庁

To preclude a subtle edge part difference from being detected as a defect candidate or a defect, when forming a pattern unavoidable on a process in an edge part, and to maintain high detection capability with respect to non-edge part defects.例文帳に追加

エッジ部においてはプロセス上不可避なパターン形成時の微妙なエッジ部差異を欠陥候補、または欠陥として検出しないようにする一方で、非エッジ部欠陥に対しては高い検出力を維持するパターン検査ができるようにする。 - 特許庁

To provide a production process management system capable of flexibly coping with a change in a product production plan, the occurrence of a defect or the like by recording production process information obtained when the production of products is interrupted on the way of the production process in a database and reproducing the recorded information.例文帳に追加

製品の生産を生産工程の途中で中断した時点の生産工程情報をデータベースに記録し再現することによって、製品の生産計画の変化や不良の発生などに対し柔軟に対応することが可能な生産工程管理システムを提供することを目的とする。 - 特許庁

Therein, a part of a defect or the like contained in the polarizing film is cut and removed in the cutting process and, moreover, a time delayed by the processing is reduced by adjusting the processing speed of at least the cutting mechanism side among respective processing mechanisms disposed in the cutting process and the attachment process.例文帳に追加

このとき、偏光フィルムに含まれる欠損などの部分を切断工程で切断除去しつつも、この処理により遅延する時間を切断工程と貼合せ工程に備わった各処理機構のうち、少なくとも切断機構側の処理機構の処理速度を調節して短縮する。 - 特許庁

The inspecting method of the defect in manufacture of the on-press developable original plate of the lithographic printing plate comprises (i) a process of exposing the original plate, (ii) a process of developing the exposed original plate in a manner other than on a press and (iii) a process of detecting a defective portion wherein no image is formed.例文帳に追加

（i）平版印刷版原版を露光する工程、（ii）露光済み原版を印刷機上以外で現像する工程、および（iii）画像形成していない欠陥部分を検出する工程からなる機上現像可能な平版印刷版原版の製造時の欠陥検査方法。 - 特許庁

To estimate a responsible process with sufficient precision by simple processing to present an improvement scheme when a quality defect occurs in a product to be produced through processing in a plurality of processes.例文帳に追加

複数工程での処理を経て生産される製品に品質欠陥が発生したときに、簡潔な処理で精度良く原因工程を推定し、改善案を提示する。 - 特許庁

To resolve a communication defect caused by a failure to detect a gap in the idle state in the case that a communication network of serial connection is used to perform an arbitration process.例文帳に追加

シリアル接続の通信網を用いてアービトレーション工程を行う場合に、アイドル状態においてギャップが検出できないことに起因する通信不良を解消する。 - 特許庁

In this manufacturing method, a defect 4, wherein resist is not developed on a resist pattern 3 forming a wiring embedding groove 5 is formed in an interlayer insulating film 2, in the wiring forming process using damascene method.例文帳に追加

ダマシン法を用いる配線形成工程において、層間絶縁膜２に配線埋込溝５を形成するレジストパターン３にレジストが現像されない欠陥４ができる。 - 特許庁

To provide a defect extraction method and a printed wiring board final appearance inspection device, supressing generation of false information due to fluctuation in manufacturing process for an object board to be inspected.例文帳に追加

被検査対象基板の製造工程のバラツキによる虚報の発生をおさえた欠陥抽出手法及びプリント配線板最終外観検査装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a developing device, an image forming apparatus and a process cartridge free from a defect, for example, apparent on an image caused by irregularity in a screw pitch even when the amount of a developer is small.例文帳に追加

現像剤の量が少なくても、スクリューピッチムラが画像に表れるような欠陥のない現像装置、画像形成装置及びプロセスカートリッジを提供する。 - 特許庁

To provide a disk player and a disk playing-back method capable of realizing the highly accurate data reproduction by executing the exact data process to cope with a defect.例文帳に追加

ディフェクトに対応して的確なデータ処理を実行することにより、精度の高いデータ再生を実現するディスク再生装置及びディスク再生方法を提供する。 - 特許庁

To reduce an afterimage display defect while suppressing lowering in the margin of rubbing strength in a rubbing process in an IPS system active matrix type liquid crystal display device.例文帳に追加

ＩＰＳ方式アクティブマトリクス型液晶表示装置において、ラビング工程におけるラビング強度のマージン低下を抑えながら残像表示不良を低減する。 - 特許庁

To provide a method of preemptively revealing a potential crystalline defect in a bulk silicon substrate used in manufacturing an SOI substrate using a layer transfer process.例文帳に追加

層転写プロセスに用いてＳＯＩ基板を作製するのに用いられるバルクシリコン基板中の潜在的結晶欠陥を予防的に顕在化させる方法の提供。 - 特許庁

To improve followability of a NOx signal with respect to change in NOx concentration in a NOx sensor and to prevent defect occurrence due to a process of the NOx sensor.例文帳に追加

ＮＯｘセンサにおけるＮＯｘ濃度の変動に対するＮＯｘ信号の追随性を向上し、かつ当該処理に起因した不良発生を防止する。 - 特許庁

To provide a thin steel plate with extremely less surface defect originating in cracks caused in the hot rolling, even in the straight forward rolling process and its manufacturing method.例文帳に追加

この発明は、直送圧延プロセスにおいても、熱間圧延での割れに起因した表面欠陥が極めて少ない薄鋼板およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

To realize a semiconductor device ensuring high reliability by sustaining a low impedance of interconnect lines even if a defect resulting from a dust occurs during fabrication process.例文帳に追加

製造工程中でゴミなどに起因する欠陥が生じても配線の低インピーダンスを維持し、高い信頼性を確保することができる半導体装置を実現する。 - 特許庁

To prevent defect such as scratch by preventing abrasive waste and slurry scattering in the process of polishing a semiconductor substrate from again adhering to a polishing pad through a scattering preventing cover.例文帳に追加

半導体基板の研磨処理中に飛散した研磨屑やスラリーが飛散防止カバーを経て研磨パッドへ再付着することを防止し、スクラッチなどの欠陥を防止する。 - 特許庁

To provide a silicon wafer, wherein a void defect existing in a wafer bulk portion is prevented from functioning as a contamination source in a device process or a source of slip generation.例文帳に追加

ウェーハバルク部に存在するボイド欠陥が、デバイスプロセスにおいて汚染源となることが抑制され、さらに、スリップの発生源となることも抑制されたシリコンウェーハの提供。 - 特許庁

Thereafter, it is judged in which area the defect exists from the result of the numerical analysis and thus, this process is used as a means for automatically judge the suitability to this casting plan.例文帳に追加

その後、数値解析の結果から欠陥の存在があらかじめ設定したどちらの領域にあるかを判定し、その方案の適正を自動判定させる手法。 - 特許庁

To provide a film for heat-sensitive stencil process printing with such advantages that the film perforation sensitivity is high and void defect-free imaging properties are outstanding, and a base paper.例文帳に追加

本発明は、フィルムの穿孔感度に優れ、かつ、白抜け欠点のない画像性に優れた感熱孔版印刷用フィルムおよび原紙を提供せんとするものである。 - 特許庁

To provide a manufacturing apparatus of a semiconductor device wherein the occurrence of an open defect resulting from separating an inner lead from a metallic projection electrode once bonded through a restoration force of a film base in an ILB process can be prevented.例文帳に追加

ＩＬＢ工程において、フィルム基材の復元力によって、一旦接合されたインナーリードと金属突起電極が引き剥がれるオープン不良を防止する。 - 特許庁

Coordinates of a specific region on a mask are extracted, and only the specific region is subjected to a defect check process carried out by a checking device by the use of charged particles such as SEM or the like.例文帳に追加

マスクの特定領域の座標を抽出し、その特定領域のみの欠陥検査を、ＳＥＭ等の荷電粒子を利用した検査装置を用いて行う。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing an SOI substrate with excellent electric characteristics wherein a defect density caused in an SOI layer is low, even after a device manufacturing process.例文帳に追加

デバイス作製工程を経てもＳＯＩ層に発生する欠陥密度が低く、優れた電気特性を有するＳＯＩ基板の製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

In the first process, a monitor light 14 absorbed by the glass defect is made incident on the core and the intensity of the monitor light 16 emitted from the optical waveguide is measured.例文帳に追加

第１工程では、ガラス欠陥に吸収されうるモニター光１４をコアに入射させ、光導波路から出射するモニター光１６の強度を測定する。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus, effectively preventing initial image defect immediately after initial toner installation when performing a refresh process in the initial toner installation.例文帳に追加

初期トナーインストール時にリフレッシュ工程を実行する場合の初期トナーインストール直後の初期画像不良を効果的に防止可能な画像形成装置を提供する。 - 特許庁