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process defectの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 840



例文

To provide a process/production management device which can collect various pieces of management data on total man-hours, the number of nondefecture articles and a defect rate on a real time basis and can precisely and clearly manage process/production and to provide a process/production management method using the device.例文帳に追加

延べ工数、良品数、不良率等々、種々の管理データをリアルタイムに収集でき、正確で明瞭な工程/生産管理を行うことができる、工程/生産管理装置およびそれを用いた工程/生産管理方法を提供する。 - 特許庁

The third process includes a process in which a monitor light absorbed in the glass defect is made incident from an end face of the optical waveguide onto the core and a process in which the intensity of the monitor light emitted from the other end face of the optical waveguide is measured.例文帳に追加

第3工程は、ガラス欠陥に吸収されうるモニター光を光導波路の一端面からコアに入射させる工程と、光導波路の他端面から出射するモニター光の強度を測定する工程とを含んでいる。 - 特許庁

To securely and briefly vent air of an ink cartridge used in a process for indicating a bad mark in a chip region which is determined as defect in an electrical characteristic inspection process after completion of a semiconductor wafer.例文帳に追加

半導体ウエハ完成後の電気特性検査工程で不良と判定されたチップ領域にバッドマークを表示する工程で使用するインクカートリッジのエア抜きを短時間で確実に行う。 - 特許庁

Specially, when the semiconductor layer is silicon, the defect is evaluated with the microscope of the confocal optical system after etching process with the process liquid of ammonia water and hydrogen peroxide water to remove a part of the semiconductor layer.例文帳に追加

特に半導体層がシリコンであれば、アンモニア水、過酸化水素水よりなる処理液でエッチング処理し、半導体層の一部を除去した後、コンフォーカル光学系のレーザ顕微鏡で評価する。 - 特許庁

例文

A quality state calculation part 50 determines a manufacturing process classification using the material defect database 600 based on the manufacturing history of the manufacturing history database 400 and material defect information of a quality information database 310, further determines a manufacturing process relating to the manufacturing process classification using the manufacturing process classification database 500, and then calculates the relationship between the manufacturing condition and quality of the metal band material.例文帳に追加

その上で、品質状況算出部50は、製造履歴データベース400の製造履歴と品質情報データベース310の品質不良情報とを基に、品質不良データベース600を用いて工程分類を判別すると共に、工程分類データベース500を用いて該工程分類に関連する工程を判別し、金属帯材料の製造条件と品質との関連性を算出する。 - 特許庁


例文

A concentration distribution generation method and a process simulator perform a defect amount calculation procedure to calculate a defect amount Q_I per unit area of defects introduced to a semiconductor substrate by ion implantation and a defect position calculation procedure to calculate a position d_I to position by condensing a defect concentration distribution in an ion implantation concentration distribution by the ion implantation with a computer and treat the defect concentration distribution like a delta function.例文帳に追加

上記課題は、コンピュータが、イオン注入によって半導体基板に導入される欠陥の単位面積当たりの欠陥量Q_Iを算出する欠陥量算出手順と、前記イオン注入によるイオン注入濃度分布において欠陥濃度分布を凝集させて位置付ける位置d_Iを算出する欠陥位置算出手順とを実行し、前記欠陥濃度分布をデルタ関数的に扱うことにより達成される。 - 特許庁

To provide a defect inspection device realizing high resolution and an increase in an inspection speed in a technology for inspecting a pattern defect, foreign matter, residue, a step and the like on a wafer in a production process of a semiconductor by an electron beam.例文帳に追加

半導体装置の製造過程にあるウェハ上パターンの欠陥、異物、残渣および段差等を電子ビームにより検査する技術において、高分解能で、かつ検査速度の高速化を実現する欠陥検査装置を提供する。 - 特許庁

To provide a defect inspection device and a PTP packing machine capable of enhancing inspection precision, in particular, for a pocket part side, to enhance visual appearance quality of a PTP sheet, in defect inspection in a manufacturing process for the PTP sheet.例文帳に追加

PTPシートの製造過程における不良検査に際し、特にポケット部側の検査精度の向上を図ることで、PTPシートの外観品質の向上を図ることができる不良検査装置、及び、PTP包装機を提供する。 - 特許庁

A control computer 19 replaces the image of the wiring, which is not the object to be inspected and can be a noise source in the defect inspection, with the self-generated image, and inspects the defect of the wiring to be inspected based on the contrast image after the replacing process.例文帳に追加

制御用計算機19は、欠陥検査においてノイズ源となる非検査対象の配線の画像を自己生成画像で置き換え、置換処理後のコントラスト画像に基づいて検査対象の配線の欠陥を検査する。 - 特許庁

例文

To provide a defect inspection device capable of suppressing complication of processing in inspection, and improving inspection accuracy, while preventing a smear phenomenon, in defect inspection in a manufacturing process of a PTP sheet, and a PTP packaging machine.例文帳に追加

PTPシートの製造過程における不良検査に際し、スミア現象を防止しつつ、検査に際しての処理の複雑化を抑制し、検査精度の向上を図ることのできる不良検査装置、及び、PTP包装機を提供する。 - 特許庁

例文

To provide a coloring device of a color filter, capable of executing smoothly detection of a defect of the color filter and feedback of the detected information to a coloring process.例文帳に追加

カラーフィルタの欠陥の検出と、その検出情報の着色工程へのフィードバックをスムーズに行うことができるカラーフィルタの着色装置を提供する。 - 特許庁

In the temperature-reducing process after growing a p-type GaAs cap layer 508, the substrate is exposed to AsH3 atmosphere to prevent introduction of group-V defect into the active layer.例文帳に追加

p型GaAsキャップ層508成膜後の降温過程において、基板をAsH_3雰囲気に曝し、活性層にV族欠陥が導入されることを防止する。 - 特許庁

To provide a technology for confirming a detective location within a short period of time during physical analysis in the in-line defect inspecting process of a semiconductor device.例文帳に追加

半導体装置のインライン欠陥検査工程において、物理解析時に短時間で故障箇所の位置を確認することのできる技術を提供する。 - 特許庁

To provide a proximity correction mask with high accuracy and no defect in a short period of time while keeping a process margin in a complicated LSI pattern.例文帳に追加

複雑なLSIパターンにおいて、プロセス余裕度を保ちながら欠陥の無い高精度な近接効果補正マスクを短時間で提供することを課題とする。 - 特許庁

To obtain a semiconductor memory in which a current caused by a process defect can be reduced and the power consumption at the time of a self-refresh can be reduced.例文帳に追加

プロセス的欠陥に起因する電流を削減し、セルフリフレッシュ時の消費電力を低減することのできる半導体記憶装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a process and an apparatus for producing a defect-free, filled polyurethane foam by using CO_2 dissolved as a foaming agent in a reaction component.例文帳に追加

反応成分に発泡剤として溶解されるCO_2を用いた無欠陥の充填ポリウレタンフォームの製造方法及び製造装置を提供する。 - 特許庁

The undercoat of the light shielding layer is subjected to a third etching process by using the light shielding layer and the resist pattern for correction as a mask to correct the excess defect.例文帳に追加

遮光層及び修正用レジストパターンをマスクにして遮光層の下層に対して第3のエッチング処理を施し余剰欠陥箇所を修正する。 - 特許庁

To provide a soldering method which can simplify a process and can prevent a defect of joining in electronic component mounting.例文帳に追加

電子部品実装において工程簡略化を可能とするとともに接合不良を防止することができる半田付け方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a semiconductor device where cost reduction of an element separation forming process, stabilization of a shape and suppression of a defect are performed simultaneously.例文帳に追加

素子分離形成工程の低コスト化と形状の安定化及び欠陥の抑制を両立する半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for reducing pitch in a paper-making process of paper and paperboard, wherein pitch causes troubles such as paper making defect and blot generation.例文帳に追加

紙及び板紙の製紙工程において、製紙欠陥や汚れ発生等のトラブルの要因となるピッチの低減方法を提供することを課題とする。 - 特許庁

In the correction data generating process, luminance data of the point defect pixel is eliminated (S7) from the luminance data by use of the position data before the correction data is generated.例文帳に追加

前記補正データ生成工程において、補正データを生成する前に輝度データの中から位置データを利用して点欠陥画素の輝度データを除く(S7)。 - 特許庁

To prevent such defect that a range switching valve stops in an R range in the process to switch the current speed range to a P range in switching a range to another range electronically.例文帳に追加

レンジ切り替えを電子的に行う場合において、Pレンジへの切り替え過程でレンジ切り替え弁がRレンジに止まる故障を回避し得るようになす。 - 特許庁

To prevent the occurrence of a transfer defect, reversal ghost image and stains at ends which are the image defects which arise in a transfer process and to form an image having high grade.例文帳に追加

転写プロセスで生じる画像欠陥である、転写不良、反転ゴースト像、端部汚れの発生を防止し、高品質な画像を形成する。 - 特許庁

To provide a silver halide photographic sensitive material capable of forming a defect-free image with clear thin lines and suitable for use in a photomechanical process.例文帳に追加

細線が鮮明で、欠陥がない画像を形成することができ、写真製版用途に適したハロゲン化銀写真感光材料を提供すること。 - 特許庁

To detect a deficiency generated on the substrate or the panel of an active matrix substrate or active matrix liquid crystal panel or defect confirmed only after the packaging process.例文帳に追加

アクティブマトリクス基板又はアクティブマトリクス液晶パネルにおいて、基板又はパネルに発生している欠陥、実装工程後に確認される欠陥を検出する。 - 特許庁

To provide a polylactic acid resin composition having extremely improved heat resistance which is a defect of the polylactic acid resin, and capable of being produced by a simple process.例文帳に追加

ポリ乳酸樹脂の欠点であった耐熱性が大幅に向上され、かつ簡易なプロセスで製造し得るポリ乳酸樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

When the upper electrode 15 is formed, film deposition is started under unheated state in the film deposition process thus preventing an oxygen defect in the oxide film 14 from increasing.例文帳に追加

上部電極15を形成する際、その成膜工程では、非加熱状態で成膜を開始し、酸化膜14中の酸素欠陥の増大を防止する。 - 特許庁

To compensate the presence of a defect in the p-well ion-implant process step, enhance manufacturing yield of semiconductor devices, and reduce device unit cost.例文帳に追加

p−ウェルイオン注入プロセスステップにおける欠陥の存在を無力化し、半導体デバイスの製造歩留りを向上させ、デバイス単価を低下させる。 - 特許庁

An IC chip reader 62 reads the defect portion information from the wireless IC chip, and inputs it to a laminate process control part for controlling whole of a laminate device 20.例文帳に追加

ICチップリーダ62は、無線ICチップから欠点部位情報を読み取って、ラミネート装置20全体を制御するラミネート工程制御部に入力する。 - 特許庁

To provide a technique for easily and suitably evaluating whether a wafer has a high possibility of defect occurrence in a device process step.例文帳に追加

デバイスプロセス工程において欠陥が発生する可能性が高いウェーハであるか否かを容易且つ適切に評価することのできる技術を提供する。 - 特許庁

To provide a film deposition method capable of forming a few defect density film of silicon dioxide by a low temperature process without using film deposition under a vacuum atmosphere.例文帳に追加

本発明は、真空雰囲気での成膜を用いずに低温プロセスで欠陥密度の少ない酸化シリコン膜の成膜を実現することを可能にする。 - 特許庁

To provide a casting sand core suppressing a casting defect such as a shrinkage cavity generating in the process of forming a long-sized member, in particular a camshaft for an automobile.例文帳に追加

長尺部材、特に自動車用カムシャフトを形成する過程で発生する引け巣等の鋳物欠陥を抑制する鋳造用砂中子を提供する。 - 特許庁

To provide a laser repair device and a laser repair method wherein a defect part can be suitably repaired even in a step near to a final step of a manufacturing process.例文帳に追加

製造工程の最終工程に近い段階においても,欠陥部を好適に修正可能なレーザリペア装置およびレーザリペア方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a method by which defect such as crack and warping occurring in a thin molding is suppressed at a process in which the thin molding is obtained by a sol-gel method.例文帳に追加

ゾルゲル法により薄肉成形体を得る工程で、薄肉成形体に発生する割れや反り等の欠陥の発生を抑制しする方法を提供する。 - 特許庁

To provide a production process of a laminated substrate in which the laminated substrate of low defect density can be produced by laminating substrates of high hardness.例文帳に追加

硬度の高い基板を貼り合わせに用いて欠陥密度の小さい貼り合わせ基板とすることができる貼り合わせ基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

To easily extract a dangerous pattern which is apt to induce a defect from the chip layout of an integrated circuit and to contribute to improvement in yield and to stabilization of the process margin.例文帳に追加

集積回路のチップレイアウトの中から欠陥の生じやすい危険パターンを簡易に抽出し、歩留まり向上及びプロセスマージンの安定化に寄与する。 - 特許庁

To improve the problem of a defect such as scratch onto a surface layer and to enhance yields and mass-productivity, in a polishing process of manufacture of a recording medium.例文帳に追加

記録媒体製造の研磨加工において、表面層に対するスクラッチ等の欠陥発生の問題を改善し、歩留りの向上、量産化を阻害はかる。 - 特許庁

The defect and damage of the coated hard material at the edge part due to plasma generated in the formation process of the coated hard material are avoided to maintain the sharp edge of the blade part.例文帳に追加

被覆硬質材の形成プロセスで発生するプラズマによるエッジ部での被覆硬質材の欠陥やダメージを回避し、シャープエッジの刃部を維持できる。 - 特許庁

To provide a polylactic acid resin composition the heat resistance of which, though it has been a defect, is improved sharply, and which can be produced in a simple process.例文帳に追加

ポリ乳酸樹脂の欠点であった耐熱性が大幅に向上され、かつ簡易なプロセスで製造し得るポリ乳酸樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

The method includes a process of spraying liquid compressed between about 1,500 PSI and about 3,000 PSI onto the defect.例文帳に追加

本発明によると、前記方法は、約1500PSIから約3000PSIの間で加圧された液体を前記欠陥上に噴霧することを含む。 - 特許庁

To provide a wiring circuit board with semiconductor components which does not easily generate defect such as crack or the like at solder connector during the reflow process of flip-chip connection.例文帳に追加

フリップチップ接続のリフロー処理時において、半田接続部に亀裂等の欠陥を生じにくい半導体部品付き配線基板を提供する。 - 特許庁

To provide a pre-coating treatment method capable of preventing the occurrence of a chemical conversion defect by appropriately removing an oil-component carried into a chemical conversion treatment process before electrodeposition coating.例文帳に追加

電着塗装前の化成処理工程に持ち込まれた油分を適切に除去し、化成不良の発生を防止できる塗装前処理方法を提供する。 - 特許庁

To prevent pattern collapse of a line end portion or a defect pattern as a whole and to improve the process margin in lithography and the manufacturing yield of a device.例文帳に追加

ライン端部のパターン倒壊若しくはパターン自体がディフェクトとなるのを防止し、リソグラフィのプロセスマージン及びデバイスの製造歩留まりの向上をはかる。 - 特許庁

In the defect detection method, a captured image creating process S1 of an inspection region captures an image of a to-be-inspected object and creates a captured image.例文帳に追加

本発明の欠陥検出方法において、検査領域の撮像画像作成工程S1は、検査対象物を撮像し、撮像画像を作成する。 - 特許庁

To develop a forming process of forged product free from defect such as crack without either enlargement and complication of equipment or deterioration in dimensional accuracy of forged product.例文帳に追加

設備の大型化や複雑化、鍛造品の寸法精度の低下等を招くことなく、クラック等の欠陥のない鍛造品の成形を実現する。 - 特許庁

To provide a sanitary tissue paper which does not cause a defect in cutting a sheet and discharging a roll in a process, prevents the sheet from being caught, and has a good surface property.例文帳に追加

工程上のシートカット、ロールの排出等において不具合がなく、シート取られが少なく、表面性の良好な衛生薄葉紙を得ることにある。 - 特許庁

To provide a developing method for suppressing the occurrence of a precipitation-induced defect in a developing process, changes in a CD or dissolution of a resist pattern caused by a rinsing liquid.例文帳に追加

現像処理における析出系欠陥の発生、CD変動、リンス液によるレジストパターンの溶解を抑制する現像処理方法を提供する。 - 特許庁

To suppress a difference in dimension between patterns formed on resist films on all the area of a substrate and a microscopic region and to reduce a defect in the patterns, which is generated in a developing process.例文帳に追加

レジスト膜に形成されたパターンの基板全域及び微小領域における寸法差を抑制し、現像工程で生じる欠陥を低減する。 - 特許庁

To provide an outside development information practical use method of a steel strip and a collection/display program of defect data on the steel strip, when an operator inputs an outside inspection result of a defect in a one's own process onto an outside development displayed on a screen of a defect recording device and records it when processing the steel strip in a plurality of processes.例文帳に追加

鋼帯を複数の工程で処理するに際し、オペレータが自工程での欠陥の外観検査結果を、欠陥記録装置の画面上に表示された外観展開図上に入力して記録を行う際の鋼帯の外観展開図情報活用方法および鋼帯の欠陥データの収集・表示プログラムに関する。 - 特許庁

例文

To enable a user to rapidly specify the cause for a defect without visiting a facility where a speech reproduction system is arranged or making reappearance experimentation in case of the occurrence of such defect in this speech reproduction system by a fault or the like and to elucidate the process of falling into the defect.例文帳に追加

故障などにより音声再生システムに不具合が発生した場合に、当該音声再生システムが配置されている施設に赴いたり、再現実験を行ったりすることなしに、その不具合の原因を速やかに特定することができるようにするとともに、不具合に陥ったプロセスを判明することができるようにする。 - 特許庁




  
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