「process defect」に関連した英語例文の一覧と使い方(12ページ目) - Weblio英語例文検索

Through the realization of miraculous cost reductions, such as by lowering its defect rate to0.03% by means of a thorough improvement of the production process, Hirano Fastech is manufacturing products that are nearly identical to Chinese products in terms of price.例文帳に追加

同社は、徹底的な生産工程の改善により不良品率を0.03％に抑えるなど、驚異的なコスト低減を実現することで、中国製品と価格面でほぼ互角の製品を製造している。 - 経済産業省

The manufacturing method of the semiconductor light emitting element comprises: a process of providing a liftoff layer including at least either crystal defect or air gap on a substrate; a process of providing a layer consisting of the nitride based semiconductor on the liftoff layer; and a process of separating the substrate and the layer consisting of the nitride based semiconductor.例文帳に追加

半導体発光素子の製造方法であって、基板上に結晶欠陥または空隙の少なくともいずれかを含んだリフトオフ層を設ける工程と、前記リフトオフ層の上に窒化物系半導体からなる層を設ける工程と、前記基板と前記窒化物系半導体からなる層とを分離する工程と、を備えたことを特徴とする半導体発光素子の製造方法である。 - 特許庁

To form a sealing member in which there is little unevenness of a cut surface of the sealing member in which a resin layer and a sealing substrate are pasted together, seal a spontaneous light emitting part formed on a panel substrate with high precision by a simple process, and prevent connection defect and display defect due to formation of the resin layer on an extraction wiring.例文帳に追加

樹脂層と封止基板が貼り合わされた封止部材の切断面の凹凸が少ない封止部材を形成すること、パネル基板上に形成された自発光部を簡単な工程により高精度に封止すること、引出し配線上に樹脂層が形成されることによる接続不良や表示不良を防止すること、等。 - 特許庁

To improve quality by determining the quality in a card base sheet state that a plurality of inlets are aligned and arranged in a card manufacturing intermediate process including a connection defect between an IC chip and an antenna, the mixing of a defective IC chip, and a defect of an antenna sec tion such as severance of wire even when the makers and types of the IC chips mounted for manufacturing a card differ.例文帳に追加

カードの製造で実装されるＩＣチップのメーカ、型式が異なる場合でも、ＩＣチップとアンテナとの接続不良、不良ＩＣチップの混入、断線等のアンテナ部の不良、などをカード製造中間工程であるインレットが複数整列配置されたカード基材シート状態で良否判定できるようにし、品質を向上させる。 - 特許庁

To provide a chemical mechanical polishing method of a workpiece in a semiconductor device manufacturing process which can progress polishing at a sufficient polishing speed in a planarizing process of a surface to be processed by the chemical mechanical polishing, suppress surface defect such as dishing, and sufficiently suppress a cost in practical usage.例文帳に追加

化学機械研磨による被加工面の平坦化工程において十分な研磨速度で研磨進行し、ディッシング等の表面欠陥が抑えられ、現実の使用においてもコストを十分に抑えることが出来る、半導体デバイス製造工程における被加工体の化学的機械的研磨方法を提供する。 - 特許庁

To provide an image forming device which does not include a process for forming an image again on a transfer material curled by a fixing process, generates no conveyance failure of the transfer material, and prevents image defect, etc., due to the image transferred to the curled transfer material, so that excellent images can be formed on the both sides of the transfer material.例文帳に追加

定着工程によってカールした転写材に再び画像を形成する工程を含まないので、転写材の搬送不良が発生せず、更にカールした転写材への画像形成のために発生する画像欠陥などを防止し、両面共に良好な画像を形成することが可能な画像形成装置を提供する。 - 特許庁

To provide an image processor which can suppress the occurrence of a prescribed image defect phenomenon and can reproduce a high quality image even if an image data which contain an image in which a prescribed image failure may occur regarding transfer in a transfer process of an electrophotographic process.例文帳に追加

電子写真プロセスにおける転写プロセスでの転写にかかわる所定の画像欠陥事象が発生するような画像を含む画像データを取得した場合であっても、当該所定の画像欠陥事象の発生を抑制し高画質の画像を再現することのできる画像処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a toner having good fixability, improving transfer efficiency, preventing an image defect in each transfer process and capable of outputting an image with good reproducibility for a long period of time in a high-speed full-color image forming method, and to provide a full-color image forming method and a process cartridge, using the toner.例文帳に追加

高速のフルカラー画像形成方法において、定着性が良好で、転写効率を向上させ、各々の転写時に画像欠陥をなくし、長期的に再現性の良い画像を出力することができるトナー、並びに、該トナーを用いたフルカラー画像形成方法及びプロセスカートリッジを提供の提供。 - 特許庁

A process wherein an impurity diffusion layer 4 to be used to control threshold voltage is performed by implanting ions, and a process wherein a high temperature heat treatment is performed for a short period to recover the crystal defect generated by the ion implantation, are performed continuously without performing heat treatment in this manufacturing method of a semiconductor device.例文帳に追加

半導体装置の製造方法が、イオン注入によってしきい値電圧制御のための不純物拡散層を形成する工程と、イオン注入によって発生した結晶欠陥の回復のための高温短時間熱処理を行う工程とを、熱処理を実施することなく連続的に行う。 - 特許庁

To provide a silicon carbide single crystal substrate where the volume resistivity is low and a stacking defect hardly occurs even if the silicon carbide single crystal substrate is exposed to 1000°C or more in a wafer process such as an epitaxial growing process; to provide a silicon carbide epitaxial wafer obtained using this substrate; and to provide a thin film epitaxial wafer.例文帳に追加

体積抵抗率が低く、しかも、エピタキシャル成長工程等のウエハプロセスにおいて炭化珪素単結晶基板が１０００℃以上に晒されても、積層欠陥が殆ど発生することがない炭化珪素単結晶基板、および、この基板を用いて得た炭化珪素エピタキシャルウェハ、及び薄膜エピタキシャルウェハを提供する。 - 特許庁

To provide an image reading recording device that records image information of a recorded sheet so as to detect a recording defect without soiling the original sheet even when a recording process section gets dirt, and prevents an original sheet from being damaged even when the recording process section includes a thermal fixing device that applies a strong pressure onto the original sheet or the like.例文帳に追加

記録済のシートの画像情報を読み取って記録不良を検出可能とし、記録プロセス部に汚れなどが付着している場合でも、原稿シートが汚れることなく、記録プロセス部にシートに強い圧力をかける熱定着器等などが含まれている場合であっても原稿シートがダメージを受けないようにする。 - 特許庁

To provide a silicon single crystal pulling-up apparatus capable of producing a silicon single crystal ingot having a prescribed shape and no defect by suppressing the occurrence of a flushed burr in a growth process for the crown part of single crystal ingot which is the most important step in the pulling-up process for silicon single crystal by a Czochralski method.例文帳に追加

本発明は、チョクラルスキー法によるシリコン単結晶の引上げ過程で最も重要とされる単結晶インゴットのクラウン部成長工程においてフラッシュアウトの発生を抑制し、所望形状で欠陥のないシリコン単結晶インゴットを製造することができるシリコン単結晶引上装置を提供する。 - 特許庁

To provide: an inspection method capable of specifying the portion where junction leak defect is occurred, by irradiating a semiconductor device with an electron beam at a predetermined interval a plurality of times, and optimizing conditions of junction forming process by carrying out the inspection using wafer under a semiconductor manufacturing process; a device; and the method of manufacturing the semiconductor.例文帳に追加

半導体装置に電子線を所定の間隔で複数回照射して、接合リーク不良発生箇所を特定でき、半導体製造工程途中のウエハで本検査を実行することにより接合形成プロセス条件の最適化を行うことができる検査方法及び装置、半導体の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a polyester film allowing a worker to detect a defect, foreign matter or the like with high precision in a visual inspection by a crossed Nicol method which is one of inspection methods for polarizing plate and favorably usable as a mold releasing film hardly scratched in a manufacturing process for the mold releasing film and a process by use of the mold releasing film.例文帳に追加

偏光板の検査方法の一つであるクロスニコル法による目視検査において、欠点や異物等の検出を高精度で実施することができ、離型フィルムの製造工程内や離型フィルムが使用される工程内でキズの入りにくい離型フィルム用として好適なポリエステルフィルムを提供する。 - 特許庁

To provide a coating method which enables a good and stable coating not imparting a flaw defect to a film when the film is coated with a coating solution with an applicator roll which is rotated in a direction opposite to the running direction of the film in a film forming process.例文帳に追加

製膜工程において走行するフィルムの走行方向と逆方向に回転するアプリケーターロールで、フィルムに塗液を塗布する際、フィルムに傷欠点がない、良好で安定な塗布を行える塗布方法を提供する。 - 特許庁

To provide an image forming device and a process cartridge that output a satisfactory image free of an image defect, such as retransfer ghost, with an inexpensive configuration in a color cleaner-less system having a plurality of image forming stations.例文帳に追加

複数の画像形成ステーションを有するカラークリーナレスシステムにおいて、安価な構成で、再転写ゴースト等の画像弊害がなく良好な画像を出力することが可能な画像形成装置及びプロセスカートリッジを提供する。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus and an image forming method capable of forming an image without the need for changing a process speed and without causing any defect even when the image is continuously formed for a plurality of kinds of media.例文帳に追加

複数種類のメディアに対して連続して画像を形成する際にもプロセス速度を変更することなく、また不具合が発生することなく画像を形成可能な画像形成装置及び画像形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing process of a semiconductor integrated circuit, to particularly provide a method for manufacturing suitable to reduce a defect, and to flatten a wiring of a copper or an alloy containing the copper as a main body on an insulating film having a low pressure resistance.例文帳に追加

半導体集積回路製造の製造プロセスに関し、特に耐圧性の低い絶縁膜上に銅または銅を主体とする合金の配線を欠陥が少なくかつ平坦にする好適な製造方法を提供すること。 - 特許庁

Thus, the abnormality of the chip which cannot be detected until the chip fraction is found on the wafer sheet after the chip is taken out can be easily and surely detected, thereby preventing the defect from flowing to the subsequent process.例文帳に追加

これにより、チップを取り出した後にウェハシートにチップ破片が残ることによってはじめて検出可能となるチップ異常を簡単かつ確実に検出することができ、後工程への不良流出を防止することができる。 - 特許庁

To take in a resist pattern of a metal base body as an image having high SN ratio to efficiently and precisely detect a hole defect of the resist pattern, in a manufacturing process for a shadow mask of a color picture tube.例文帳に追加

本発明は、カラー受像管のシャドウマスクの製造工程において、金属基体のレジストパターンをＳＮ比の高い画像で取り込みレジストパターンの孔欠陥を精度良く効率的に検出できるレジストパターンの欠陥検査装置を提供する。 - 特許庁

In the reflection light detection type defect detection process, the surface of the electrophotographic photoreceptor is irradiated with light, reflection light reflected by the electrophotographic photoreceptor is received by a light receiving means and the defective part of the electrophotographic photoreceptor is detected.例文帳に追加

反射光検出式欠陥検出工程は、電子写真感光体の表面に光を照射し、電子写真感光体で反射される反射光を受光手段で受光して電子写真感光体の欠陥部を検出する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing in which an impeller having high quality and high reliability can stably be formed by preventing the generation of a casting defect, in the case of cast-forming the impeller by a suction casting process using a gypsum mold.例文帳に追加

石膏鋳型を用いた吸引鋳造法により羽根車を鋳造形成するにあたり、鋳造欠陥の発生を防止し、高品質で信頼性の高い羽根車を安定して形成できる羽根車の製造方法を提供する。 - 特許庁

The high-quality polycrystalline semiconductor film can control a grain boundary, a grain size, and a crystal orientation and can reduce the roughness of a film generated in the process of crystallization, and a crystal defect.例文帳に追加

本願発明によれば、絶縁体基板上に、粒界、粒径、結晶方位を制御でき、結晶化の仮定で生じる膜のラフネスと結晶欠陥を低減した高品質の多結晶半導体膜を有する半導体装置を得ることが出来る。 - 特許庁

To provide a defect inspection apparatus for speeding up inspection with high resolution for a technique in inspecting defects, foreign materials, residues, and steps, etc., using electron beam for a pattern on a wafer in a manufacturing process for a semiconductor device.例文帳に追加

半導体装置の製造過程にあるウェハ上パターンの欠陥、異物、残渣および段差等を電子ビームにより検査する技術において、高分解能で、かつ検査速度の高速化を実現する欠陥検査装置を提供する。 - 特許庁

To provide a developing device in which such a defect that density irregularities occur on an output image is reduced because toner is sufficiently stirred and mixed into developer in a developer circulation path and to provide a process cartridge and an image forming apparatus.例文帳に追加

現像剤の循環経路にてトナーが現像剤中に充分に撹拌・混合されて、出力画像上に濃度ムラが発生する不具合が軽減される、現像装置、プロセスカートリッジ、及び、画像形成装置を提供する。 - 特許庁

To detect a defect caused by a secular change of a stamper by classifying defects repetitively caused on a patterned media disk into defects caused by deterioration due to secular change of the stamper and defects caused by a process failure.例文帳に追加

パターンドメディアディスク上に繰り返し発生した欠陥をスタンパの経時的変化による劣化により発生した欠陥と、プロセスの不良により発生した欠陥とを識別して、スタンパの経時変化により発生した欠陥を検出する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a wafer level lens module, having excellent shape accuracy and positional accuracy of a lens element formed on a glass wafer, and preventing adhesion of dust to the lens element and the occurrence of a bubble and defect in a manufacturing process.例文帳に追加

ガラスウエハ上に形成されるレンズ要素の形状精度と位置精度が優れ、製造工程において、レンズ要素への塵埃の付着、気泡や欠けの発生がないウエハレベルのレンズモジュールの製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a rubber press molding method which can securely produce a high purity, defect-free formed body of the object shape, because impurities and foreign matters and the like do not mix into a molding powder of raw material in a molding process.例文帳に追加

成形過程で原料成形粉中に不純物や異物等が混入することがないため、高純度で欠陥がなく、確実に目的形状の生成形体を作製することができるラバープレス成形法を提供すること。 - 特許庁

To provide a traceability system for bag manufacturing, which determines a cause of a defect from a record in a bag manufacturing process, and can reduce time, labor and a cost of recovering or inspecting a defective product by specifying the range of the defective product.例文帳に追加

袋の製造工程での履歴に基づき、不具合原因を判定する袋製造トレーサビリティシステム、不具合品の範囲を特定でき、回収又は検品の手間やコストを削減できる袋製造トレーサビリティシステムを提供する。 - 特許庁

To precisely paste a piece of double-sided adhesive tape by peeling from a carrier tape, which piece is available by introducing a raw fabric tape wound into a roll with no defect such as irregular winding, to a knife edge, and cutting out in a substrate shape during the supply process.例文帳に追加

巻き乱れなどの不具合なくロール巻きした原反テープをナイフエッジに導いて、その供給過程で基板形状に切断した両面粘着テープ片をキャリアテープから剥離して基板に精度よく貼付けることができる。 - 特許庁

To provide a member for a heat treatment and its manufacturing method which can reduce partial deformation during a heat treatment process for prevention of slippage of semiconductor wafers by controlling a bulk micro defect density of the component for the heat treatment.例文帳に追加

熱処理用部材のバルク微小欠陥密度を制御することで、熱処理時における部分的な変形を抑制し、半導体ウエハのスリップの発生を防止できる熱処理用部材、及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a one-dimensional array ultrasonic probe or a two-dimensional array ultrasonic probe using a composite piezoelectric member composed of a solid-solution-based piezoelectric-single-crystal and a resin, wherein the ultrasonic probe is fabricated by including a cutting process without causing a working defect when cutting, and to provide a method of manufacturing the ultrasonic probe.例文帳に追加

固溶系圧電単結晶と樹脂との複合圧電体を用いて、切断時の加工不良が生じない一次元及び二次元アレイ超音波プローブ及び当該超音波プローブの製造方法を提供すること。 - 特許庁

To prevent a defect of an organic electroluminescent display device from being caused by contaminations in a laser transfer process by performing dry cleaning to eliminate the contaminations present on a transfer layer on a donor substrate.例文帳に追加

乾式洗浄を行い、ドナー基板の転写層上に存在する汚染物を除去することによって、レーザ転写工程中において汚染物による有機電界発光表示装置の欠陥を防止することを目的とする。 - 特許庁

To provide a method for producing a solution of resin composition, having high productivity and sufficiently inhibiting contamination of impurities, a possible factor of defect in a production process, to reduce the content of the impurities as much as possible, and an apparatus for production.例文帳に追加

生産性が高く、製造過程においてディフェクト要因となり得る異物の混入を十分に抑制することができ、異物含有量を極力低減させて樹脂組成物溶液の製造方法、及び製造装置を提供する。 - 特許庁

To provide a MOS type semiconductor device improved in breakdown resistance and having high reliability by suppressing a gain increase of a parasitic transistor caused by photo pattern defect liable to occur due to micronization of a process design rule.例文帳に追加

プロセスデザインルールの微細化に伴って発生しやすくなるフォトパターン欠陥に起因する寄生トランジスタのゲイン増大を抑制して破壊耐量を向上させて信頼性の高いＭＯＳ型半導体装置を提供すること。 - 特許庁

To provide an electrophotographic device by which image defect caused by toner melting does not occur even under a severe environment, toner can easily separate from a photoreceptor, so that good cleaning performance can be obtained, and a high quality image can be obtained in an electrophotographic process.例文帳に追加

電子写真プロセスにおいて、苛酷な環境下においてもトナー融着による画像欠陥が生じず、また、感光体からトナーが離れやすく良好なクリーニング性が得られ高品質な画像が得られる電子写真装置の提供。 - 特許庁

To provide a synthetic quartz glass substrate having high flatness to perform fine drawing as well as having a substrate surface with less defect and minimal surface roughness, as a synthetic quartz glass substrate for a photomask used in a photolithography process or the like.例文帳に追加

光リソグラフィー法等で使われるフォトマスク用合成石英ガラス基板として、平坦度が良く微細な描画を行うことができ、かつ基板表面が低欠陥で面粗さの小さい合成石英ガラス基板を提供する。 - 特許庁

To provide a process for manufacturing a highly reliable semiconductor device in which a semiconductor element and a semiconductor element mounting board having a hollow section between wiring boards are coated tightly with an epoxy based film without causing a defect such as a void.例文帳に追加

半導体素子と配線基板間に中空部を有する半導体素子実装基板をエポキシ系フィルムにより、ボイドなどの欠陥を生じさせることなく密着被覆し、信頼性の高い半導体装置を製造する。 - 特許庁

Further, a bead 9 is arranged on the center inside part 2c of one side of the part 2c to be scrap, in drawing, the inside part of the slit is not bent downward, thus, the defect in charging at a succeeding process is not generated.例文帳に追加

また、スクラップとなる部分２ａの一辺の中央部内側部分２ｃ上にビード９を設置して行うと、絞り成形時にスリットの内側部分が下方に折れ曲がらず、後工程での投入不良が発生しない。 - 特許庁

To provide a defect inspection device of a high resolution realizing the increase of inspection speed in a technology of inspecting defects of patterns, foreign matters, remnants, steps or the like on a wafer in the course of manufacturing process by electron beams.例文帳に追加

半導体装置の製造過程にあるウェハ上パターンの欠陥、異物、残渣および段差等を電子ビームにより検査する技術において、高分解能で、かつ検査速度の高速化を実現する欠陥検査装置を提供する。 - 特許庁

To provide a silicon epitaxial layer where the haze of an epitaxial layer and the defect level of LPD, etc., are reduced and also oxygen precipitation is controlled under the condition that it be put into a temperature-lowered and time-shortened device process, and to provide its manufacturing method.例文帳に追加

低温・短時間化されたデバイスプロセスに投入する前の状態で、エピ層のヘイズ、ＬＰＤ等の欠陥レベルが低減され、かつ酸素析出が制御されたシリコンエピタキシャルウエーハならびにその製造方法を提供する。 - 特許庁

To increase the quantity of spacers to be effectively used, to attain improvement in productivity and to prevent the cohesion of spacers to become the factor of an image defect when performing the process of spraying spacers over a substrate for liquid crystal display device.例文帳に追加

液晶表示装置用基板にスペーサーを散布する工程を行う際に、スペーサーの有効使用量を高めると共に生産性の向上を図り、且つ画像欠陥の原因となるスペーサーの凝集の問題を解消する。 - 特許庁

To provide a sputtering target, when a thin film essentially consisting of titanium dioxide and having a high index of reflection is formed by DC (Direct Current) sputtering process, which solves the conventional defect that a film deposition rate is extremely slow and productivity is extremely inferior.例文帳に追加

二酸化チタンを主成分とした高屈折率の薄膜をＤＣスパッタリング法で形成する際に、従来有していた成膜速度が極めて遅く生産性が非常に悪いという欠点を解消しようとするスパッタリングターゲット。 - 特許庁

The sensors process the obtained digital images and decide the presence of the defect of the material of the artificial structure according to the specific coordinate position for finding the artificial structure in one or more obtained digital images.例文帳に追加

該センサは、取得されたデジタル画像を処理し、１つ又は複数の取得されたデジタル画像における人口構造物を突き止める所定の座標位置に従い、人口構造物における材料の欠陥の存在を判定する。 - 特許庁

To provide an automatic developing apparatus that can develop a planographic printing plate having a photopolymerizable photosensitive layer which uses a high-definition screen upon image exposure, for a long period of time without inducing an image defect such as process irregularity.例文帳に追加

画像露光において高精細スクリーンを用いる光重合性感光層を有する平版印刷版を長期間に亙って処理むら等の画像欠陥を生ずることなく現像処理できる自動現像装置を提供する。 - 特許庁