「process device」に関連した英語例文の一覧と使い方(293ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a semiconductor inspection device/method for displaying a feature amount so that determination of propriety of a manufacture result of a circuit pattern in inspection of a semiconductor manufacture process becomes easy.例文帳に追加

半導体製造プロセスの検査における回路パターンの製造結果の良否の判定が容易となるように、特徴量を表示することができる半導体検査装置、及び半導体検査方法を提供する。 - 特許庁

To provide a development device, a process cartridge and an image forming apparatus free from abnormal images, such as a white stripe images, void images or a spot defect image, without producing toner aggregates or developer aggregates.例文帳に追加

トナーの凝集体や現像剤の凝集体が形成されることなく、白スジ画像、白抜け画像、ポチ点画像等の異常画像が生じることのない、現像装置、プロセスカートリッジ、及び、画像形成装置を提供する。 - 特許庁

To provide an excellent electrophotographic photoreceptor having high durability and excellent electrophotographic characteristics to obviate the occurrence of image defects, a process cartridge having the electrophotographic photoreceptor and an electrophotographic device.例文帳に追加

耐久性が高く、かつ画像欠陥の生じない優れた電子写真特性を有する電子写真感光体、その電子写真感光体を有するプロセスカートリッジ及び電子写真装置を提供することにある。 - 特許庁

To enable formation of a field insulating film which prevents the deterioration of an element and also enable the flattening of a field oxide film, in the manufacture of a semiconductor device which includes the formation process of the field insulating film.例文帳に追加

フィールド絶縁膜の形成工程を含む半導体装置装置の製造方法に関し、素子の劣化を防止するフィールド絶縁膜の形成を可能にし、また、フィールド酸化膜の平坦化を可能にすること。 - 特許庁

To provide a flat type display device having such a structure in which a spacer does not tilt in a manufacturing process, and gas discharge from a material to fix the spacer and heat-deterioration of the material do not occur.例文帳に追加

製造プロセスにおいてスペーサが傾いてしまうことがなく、スペーサを固定する材料からのガス放出や、係る材料の熱劣化の生じることの無い構造を有する平面型表示装置を提供する。 - 特許庁

To provide a semiconductor device which can show high reliability without increasing a manufacturing cost by improving adhesion strength in mounting by flattening the head of a bump electrode without adding a new process.例文帳に追加

新たな工程を追加することなくバンプ電極の頭部を平坦化して、実装時の接着強度を向上させ、製造コストの増大を招くことなく高い信頼性を発揮できる半導体装置を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method for an elastic member which enables machining of the elastic member of trimming die without generation of soot with a laser machining process that has an excellent machining performance and is free from waste liquid problems, and a machining device therefor.例文帳に追加

加工性に優れ、廃液等の問題がないレーザー加工により、煤の発生なく抜き型用の弾性部材を加工することが可能な弾性部材の製造方法およびこの加工装置を提供する。 - 特許庁

To provide a single device for recovery and centrifugation of blood to reduce operation by a medical worker, danger of contamination, and the number of devices required for a process to make expenses least.例文帳に追加

医療従事者による操作を減らし、汚染の危険性を減少させ、費用を最小限にするためにプロセスに必要な装置の数を減らすために、血液の回収および遠心分離のための単一の装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing an electro-optical device having a process of manufacturing an TFT which can prevent deterioration of a gate insulation film when conducting channel doping accompanying execution of the channel doping and improve reliability of the TFT.例文帳に追加

チャネルドープの際、該チャネルドープに伴うゲート絶縁膜の劣化を防ぐことができ、ＴＦＴの信頼性向上を図ることのできるＴＦＴの製造工程を有する電気光学装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To make feasible of applying the self alignment process to a gate insulating film having no damage thereto in the case of manufacturing a transistor having the gate insulating film of a high dielectric or ferroelectric in relation to the manufacturing method of a semiconductor device.例文帳に追加

半導体装置の製造方法に関し、高誘電体或いは強誘電体のゲート絶縁膜をもつトランジスタを製造する際、ゲート絶縁膜にダメージも与えずにセルフ・アライメント方法を適用できるようにする。 - 特許庁

In a manufacturing process of a semiconductor device 1, a silicon substrate 2 is separated into an NMOS formation region 8 and a PMOS formation region 9, and a high-permittivity insulation film 31 is formed on the surface of the silicon substrate 2.例文帳に追加

半導体装置１の製造工程において、シリコン基板２を、ＮＭＯＳ形成領域８とＰＭＯＳ形成領域９とに分離し、そのシリコン基板２の表面に高誘電率絶縁膜３１を形成する。 - 特許庁

To provide a process for preparing foams without using isocyanates and strongly acidic substances having a problem of safety in foaming operation which can be applied by a simple method without using a specific discharge device.例文帳に追加

発泡作業時の安全性に課題があるイソシアネートや強酸性物質を用いることなく、特殊な吐出装置を使用することない簡易な方法で施工できる発泡体の製造方法を提供する。 - 特許庁

To miniaturize a capacitance type ultrasonic vibrator device by providing a direct-current high voltage generation means on or inside a silicone substrate which is the same as an ultrasonic vibrator manufactured using a micromachine process.例文帳に追加

本発明は、マイクロマシンプロセスを用いて製造される超音波振動子と同一のシリコン基板上または内部に、直流高電圧発生手段を備えて、静電容量型超音波振動子装置の小型化を実現する。 - 特許庁

A roller above a triangular plate is arranged above a triangular plate 2 provided at an entrance of a folding machine 1 for guiding and inducing a web 4 transferred from a printing device in a preceding process to the triangular plate 2.例文帳に追加

折機１の入口部に設けた三角板２の上方において、前工程の印刷装置部３から移送されて来るウエブ４をガイドして三角板２へ誘導する三角板上ローラ５を配設している。 - 特許庁

On the other hand, the nitrogen separated by the film separating device 3 is fed to a pulverized fine coal producing apparatus 8 and after heating up by a burner, this nitrogen is blown into a roller mill in a coal pulverizing and drying process and effectively by utilized.例文帳に追加

一方、膜分離装置３で分離された窒素は、微粉炭製造設備８に送られ、ガスバーナーで昇温された後、石炭の粉砕・乾燥工程でローラーミル内に吹き込まれ、有効に利用される。 - 特許庁

Impurity concentration of the impurity diffusion region 29 is set equal to that in the N-LDD region 31 of a fine CMOS device being integrated on the same substrate 1 and they are formed by performing ion implantation process only once.例文帳に追加

不純物拡散領域２９の不純物濃度を、同一基板１上に集積される微細ＣＭＯＳデバイスのＮ−ＬＤＤ領域３１と同じ濃度とし、それらを一度のイオン注入工程で形成する。 - 特許庁

To obtain a sealed organic luminescence device in which the hermetic seal of a organic light emitting element can be carried out at an easy production process, miniaturization can be aimed at, and a high confidential state and a durable high airtight state are obtained.例文帳に追加

簡単な工程で有機発光素子の気密封止をすることが出来ると共に、小型化が図れ、なお且つ機密性と耐久性の高い気密状態が得られる封止された有機発光装置を得る。 - 特許庁

To realize a MIS compound semiconductor device that uses an InP-based compound semiconductor and have good characteristics by making a gate insulating film having excellent MIS interface characteristics to be formed in a short time at a low process temperature.例文帳に追加

ＭＩＳ界面特性の優れたゲート絶縁膜を低いプロセス温度でより短時間で形成できるようにし、ＩｎＰ系化合物半導体を用いた特性のよいＭＩＳ型デバイスを実現できるようにする。 - 特許庁

To provide a display device capable of easily referecing to the molded state of a product by displaying the data of the torque of an injection servomotor during an injection process along with an injection speed and injection pressure.例文帳に追加

射出工程時における射出サーボモータのトルクの情報を射出速度及び射出圧力とともに表示することで、製品の成形状態を容易に参照すること可能とする表示装置を提供する。 - 特許庁

The coagulant is further added to the obtained supernatant water to increase pH, insolubilizing metals to perform solid-liquid separation in a filtering device 15, thereby removing the metals eluted from the iron-based coagulant in the first coagulation process.例文帳に追加

得られた上澄み水には、凝集剤をさらに添加してｐＨを上げて金属類を不溶化させて濾過装置１５で固液分離し、第１凝集工程で鉄系凝集剤から溶出した金属類を除去する。 - 特許庁

To disclose a method of shortening a cutting saw manufacturing process and a device for manufacturing a cutting saw in a single manufacturing equipment, and a cutting saw provided with a cutting segment with diamond particles distributed uniformly therein.例文帳に追加

切削鋸の製造過程を短縮させる方法及び単一の製造設備で切削鋸を製造することができる装置とダイヤモンド粒子が均一に分布した切削セグメントを有する切削鋸とを開示する。 - 特許庁

To provide an operation analysis device allowing efficient finding of a range of a value of an operation factor wherein variation of quality data becomes large in a process wherein the variation of the quality data changes by the operation factor.例文帳に追加

操業因子により品質データのばらつきが変化するプロセスにおいて品質データのばらつきが大きくなる操業因子の値の範囲を効率よく見出すことが可能な操業分析装置を提供する。 - 特許庁

To provide a solid-state image pickup device which can obtain an AD conversion result at the most suitable pixel reset level constantly without being affected by a wafer process or an environmental factor such as a power-supply voltage, temperature, or the like, and to provide a camera system.例文帳に追加

ウエハプロセスや電源電圧・温度等の環境要因に左右されることなく、常に最も適当な画素リセットレベルのＡＤ変換結果を得ることが可能な固体撮像素子、およびカメラシステムを提供する。 - 特許庁

To provide an imaging device which has high positioning accuracy for a lens barrel in an optical axis direction or in a direction orthogonal to an optical axis in relation to a substrate, and is manufactured with a simple assembling process, and to provide portable equipment.例文帳に追加

基板に対し、光軸方向または光軸と直交する方向におけるレンズ鏡筒の位置決め精度が高く、かつ組立工程を簡素にすることができる撮像装置および携帯機器を提供すること。 - 特許庁

To provide a switched capacitor device for transmitting an electrical energy to a load in a stable state while suppressing a loss in a process of transmitting the electrical energy to the load.例文帳に追加

電気エネルギーが負荷に伝達される過程において生じるロスを抑制させつつ、当該電気エネルギーを負荷に安定した状態で伝達することができるスイッチトキャパシタ装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a developing device which is capable to satisfactorily collect developer, then, prevent image unevenness, and which is free from developer deviation and will not cause image nonconformities, and to provide a process cartridge and an image forming apparatus.例文帳に追加

現像剤の回収を良好に行うことができて画像ムラがなく、しかも現像剤の偏差がなくて画像の不具合も生じない現像装置、プロセスカートリッジ及び画像形成装置を提供すること。 - 特許庁

To provide an optical film whose front contrast when it is incorporated into a liquid crystal display device after a polarizing plate forming process is high, whose view angle characteristics are improved, whose dimensional change is comparable to that of other members, and whose manufacturing cost is low.例文帳に追加

偏光板加工プロセスを経て液晶表示装置に組み込んだときの正面コントラストが高く、視野角特性が改善され、他の部材と同程度に寸度変化し、製造コストが低い光学フィルムの提供。 - 特許庁

To provide a developing roller capable of surely suppressing a reduction in the conveying amount of developer due to secular changes and preventing the occurrence of image irregularities, and to provide a developing device, a process cartridge and an image forming apparatus.例文帳に追加

経年変化による現像剤の搬送量の低下をより確実に抑制できるとともに、画像のムラが生じることを防止できる現像ローラ、現像装置、プロセスカートリッジ、及び、画像形成装置を提供する。 - 特許庁

Transferring heat generated from the semiconductor device 2 in the advance direction is suppressed by the high-heat resistance part H-R in the mounting member 4, and the heat is diffused with a prescribed divergent angle in the process of transferring the heat to a heat sink.例文帳に追加

半導体素子２の発熱は、実装部材４内の高熱抵抗部Ｈ・Ｒにより直進方向の熱伝達が抑制され、ヒートシンク３へ熱伝達する過程で所要の広がり角度で拡散される。 - 特許庁

In the method for manufacturing the semiconductor device, a change of a polishing rate caused by a change of the state of a polishing machine is estimated by using a model formula based on an equipment parameter during a polishing process to calculate a polishing time of a film to be polished.例文帳に追加

半導体装置の製造方法では、研磨装置状態の変化による研磨レートの変化を研磨処理時の設備パラメータからモデル式を用いて予測し、被研磨膜の研磨時間を算出する。 - 特許庁

To provide a coloring composition for a color filter, which is high in heat resistance, light fastness, and exposure sensitivity in an exposure/development process, and is excellent in development solubility, and to provide a color filter and a display device using the coloring composition.例文帳に追加

耐熱性、耐光性が高く、露光・現像プロセス時の露光感度が高く現像溶解性に優れたカラーフィルター用着色組成物、それを用いたカラーフィルター及び表示装置を提供することである。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a silicon device capable of suppressing generation of a fragmentation or a crack of a silicon wafer during a manufacture process and generation of a foreign substance, and to provide a method for manufacturing a liquid jet head.例文帳に追加

製造過程におけるシリコンウエハーの欠けや割れの発生を抑制できると共に、異物の発生を抑制することができるシリコンデバイスの製造方法及び液体噴射ヘッドの製造方法を提供する。 - 特許庁

Further, a makeup process is performed using the deformed bit data with the help of a printing part 14, a stamp makeup part 16 and a luminescent unit 19, of the stamp making device 3, and a stamping surface corresponding with the imprint image after data transformation, is formed in a printing material.例文帳に追加

スタンプ作成装置３の印刷部１４、スタンプ製版部１６及び発光ユニット１９により変形後のビットデータを製版し、データ変形後の印影画像に対応する印面を印材に形成する。 - 特許庁

To provide an information display device for a vehicle having a means of selecting a predetermined process mode such as calling a display screen of a predetermined layer to a display part without a solid visual contact to a touch panel.例文帳に追加

タッチ面をしっかりと目視せずとも所定の階層の表示画面をディスプレイ部に呼び出すなどの所定の処理モードを選択することのできる手段を備えた車両用情報表示装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a method for producing liquid crystal display device which suppresses an increase in the number of process and does not cause cost-up even when pillar spacers are formed.例文帳に追加

液晶表示装置において、従来の球状スペーサ散布方式からフォトリソグラフィーで形成する柱状スペーサ方式に置き換えた場合、柱状スペーサ形成のために複数工程を必要とするので、コストアップにつながる。 - 特許庁

A control device practices the cleaning process by controlling the supply of a cleaning liquid from the inflow mouth for cleaning 36 to allow the cleaning liquid in the pressure-regulating chamber 25 to produce a swirling flow (refer to an arrow S).例文帳に追加

制御装置は、洗浄用流入口３６からの洗浄液の供給を制御することにより、調圧室２５内の洗浄液に旋回流（矢印Ｓ参照）を発生させて洗浄工程を実行する。 - 特許庁

To provide an induction heating device for a side trimmer, preventing cracked edge and improving the quality of a cut surface in side trimming a material to be heated such as a silicon steel plate in a process line having the side trimmer.例文帳に追加

サイドトリマを有するプロセスラインにおいて珪素鋼板等の被加熱材料のサイドトリミングにおける耳割れ防止と切断面の品質向上を図ることができるサイドトリマ用誘導加熱装置を提供する。 - 特許庁

To provide an electrophotographic photoreceptor showing less variation in a bright-area potential and a residual potential in repeatedly outputting images, and to provide a process cartridge and an electrophotographic device having the electrophotographic photoreceptor.例文帳に追加

繰り返し画像出力をした際の明部電位および残留電位の変化が小さい電子写真感光体、ならびに、該電子写真感光体を有するプロセスカートリッジおよび電子写真装置を提供する。 - 特許庁

To provide a resin molding case for an inductor, which allows the manufacturing cost thereof to be reduced by suppressing costs for molding metal mold work commencement without processing a conventional inductor and without providing any new process, and to provide a noise elimination device.例文帳に追加

従来のインダクタを加工せず、新たな工数を増やすことなく成型金型起工費用を抑えて、製造費用を削減することが可能なインダクタ用樹脂成型ケースおよびノイズ除去装置を提供する。 - 特許庁

To provide a lifetime estimation method and a lifetime estimation system for unifying a function used for a lifetime estimation, simplifying a calculation process, outputting a social lifetime of a device, and easily preparing a maintenance plan.例文帳に追加

寿命推定に用いる関数を単一にして演算処理を簡素化し、機器の社会的寿命も出力させてメンテナンス計画の立案を容易にした寿命推定方法及び推定システムを供給する。 - 特許庁

To provide a method for producing a silicon wafer that simplifies the heat treatment in a device production process, eliminates the need of providing a backside damage, and improves the gettering capability of the silicon wafer, and also to provide the silicon wafer.例文帳に追加

デバイス製造工程における熱処理を簡略化させ、且つバックサイドダメージを与える必要なしで、シリコンウェーハのゲッタリング能力を向上させるシリコンウェーハの製造方法及びシリコンウェーハを提供する。 - 特許庁

To provide an image processing device, an image display method, and an image display program capable of encouraging a user to take an appropriate process even when a plurality of objects which can be recognized as the same are present on a screen.例文帳に追加

画面に同一と認識されうるオブジェクトが複数存在する場合でも、ユーザーに対して適切な処理を促すことが可能な画像処理装置、画像表示方法、画像表示プログラムの提供を目的とする。 - 特許庁

To provide a semiconductor device capable of achieving a high yield, a large IE effect, and a low ON voltage by using a manufacturing process of a minimum cost and capable of achieving a high voltage resistance by controlling a local concentration of an electric field.例文帳に追加

できるかぎり低コストの製造プロセスを用い、高良品率でＩＥ効果が大きくオン電圧が低く、局所的な電界集中を抑制して高耐圧化することができる半導体装置の提供。 - 特許庁

To provide an electrophotographic photoreceptor in which the variation in a job is suppressed with respect to repeated use and a high quality image is stably obtained, and to provide an electrophotographic method, an electrophotographic device and a process cartridge using the electrophotographic photoreceptor.例文帳に追加

繰り返し使用に対してＪｏｂ内変動を抑制し、高画質画像が安定に得られる電子写真感光体とこれを用いた電子写真方法、電子写真装置、プロセスカートリッジを提供する。 - 特許庁

To provide an epitaxial wafer and a method of manufacturing the same, wherein diffusion of an impurity of high concentration included in a silicon substrate into an epitaxial layer is suppressed in a heat treatment process for forming a semiconductor device.例文帳に追加

半導体デバイス形成時の熱処理プロセスにおいて、シリコン基板に含まれる高濃度の不純物がエピタキシャル層に拡散するのを抑制することができるエピタキシャルウェーハ及びその製造方法の提供。 - 特許庁