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process liquidの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 5510件
To provide a device for supplying a polishing liquid used for a polishing machining in a semiconductor device manufacturing process, and capable of managing continuously with higher precision on in-line basis occurrence of abrasive grains with a particle size not less than the given one.例文帳に追加
半導体デバイス製造プロセスの研磨加工に使用される研磨液の供給装置であって、研磨液中における所定粒径以上の粒径の砥粒の発生をインラインで連続的に且つ一層高精度に管理できる研磨液の供給装置を提供する。 - 特許庁
To provide a polarizing plate allowed to be manufactured by a polarizing plate manufacturing process in a wet lamination method and having excellent durability even in a high-temperature/high-humidity environment and a liquid crystal display device having excellent durability under the high-temperature/high-humidity environment.例文帳に追加
ウェットラミネーション法による偏光板製造工程において製造することができ、高温高湿環境に置かれても優れた耐久性を有する偏光板の提供、高温高湿環境下で優れた耐久性を有する液晶表示装置の提供。 - 特許庁
To provide a blow molded bottle for viscous liquid whose capacity can be reduced in accordance with the suction and discharge of contents and which leaves little residue, whose production process is simple, whose volume, when the same is empty, can be reduced in transporting, and which does not require separate collection in waste disposal.例文帳に追加
内容物の吸引排出に応じて容量を減じ排出残液量が少なく、製造工程が簡単で、空容器の運送時の減容積化が計れ、廃棄処理時に分別回収を必要としない粘稠液用ブロー成形ボトルを提供する。 - 特許庁
To provide a CMP abrasive slurry-containing waste water treating device capable of flocculating fine abrasive grain or the like contained in the CMP abrasive slurry-containing waste water discharged from a CMP process and solid/liquid separating to easily recover water containing no solid matter.例文帳に追加
CMP工程より排出されるCMP用研磨スラリー含有排水に含まれる微細な砥粒などを凝集させて固液分離し、固形分を含まない水を容易に回収することができるCMP用研磨スラリー含有排水処理装置を提供する。 - 特許庁
To provide a method of manufacturing a transparent conductive film in which the transparent conductive film without color tone and with high transparent conductivity can be inexpensively and easily manufactured by using a coating process, and to provide a carbon nanotube/conductive polymer composite dispersion liquid which is used for the method of manufacturing the transparent conductive film.例文帳に追加
塗布プロセスを用いて、色味がなく、透明導電性の高い透明導電膜を低コストで容易に製造することができる透明導電膜の製造方法およびそれに用いるカーボンナノチューブ・導電性ポリマー複合分散液を提供する。 - 特許庁
The sealing agent for the liquid crystal one-drop-fill process contains a photoreaction initiator that generates an active radical by irradiation with light, by 0.1 to 10.0 pts.wt. and a polymerization inhibitor by 0.4 to 8.0 pts.wt. with respect to 100 pts.wt. of a curable resin having a (meth-) acryl group.例文帳に追加
(メタ)アクリル基を有する硬化性樹脂100重量部に対して、光を照射することにより活性ラジカルを発生する光反応開始剤を0.1〜10.0重量部、重合禁止剤を0.4〜8.0重量部含有する液晶滴下工法用シール剤。 - 特許庁
To provide a substrate processing apparatus capable of preventing a process liquid from flowing around the surface of a substrate to be processed and of easily maintaining the product quality of the substrate, and to provide a highly reliable semiconductor substrate, a semiconductor component, and a semiconductor device.例文帳に追加
処理液の基板の非処理面への回り込みを防止することができ、基板の製造品質維持を容易にすることができる基板処置装置を提供すること、信頼性の高い半導体基板、半導体部品および半導体装置を提供することにある。 - 特許庁
To provide an yttria ceramic sintered body which has an excellent corrosion resistance to halogen-based corrosive gases, plasma or the like and can be suitably used as a member in manufacturing apparatuses for semiconductor and liquid crystal devices, particularly in a plasma process apparatus, and to provide a method for manufacturing the same.例文帳に追加
ハロゲン系腐食性ガス、プラズマ等に対する耐食性に優れており、半導体・液晶製造装置等、特に、プラズマ処理装置用の部材として好適に使用することができるイットリアセラミックス焼結体およびその製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a curable composition for an optical material without requiring a complex process such as mixing ≥2 liquid of curable compositions just before their use, and having a high optical transparency, an optical material and a light-emitting diode by using the optical material.例文帳に追加
2液以上の硬化性組生物を使用直前に混合するような煩雑な工程を必要とせずに、光学的透明性が高い光学材料用硬化性組成物、光学用材料、および光学材料を用いた発光ダイオードを提供することである。 - 特許庁
The sealing treatment method for aluminum or an aluminum alloy includes a process where an aluminum or aluminum alloy member in which an anodized coating is formed is dipped into a sealing treatment liquid which contains a metal salt aqueous solution, and does not contain a pH buffer solution, and voltage is applied to the the member.例文帳に追加
金属塩水溶液を含み、pH緩衝剤を含まない封孔処理液に、陽極酸化皮膜を形成したアルミニウム又はアルミニウム合金の部材を浸漬し、該部材に電圧を印加することを含むアルミニウム又はアルミニウム合金の封孔処理方法。 - 特許庁
To provide a method for producing a twisted yarn constituted by a multiple number of filaments having a small fiber diameter and easy for winding since liquid contained in the yarn is little and also capable of obtaining the twisted yarn efficiently without requiring the installation of a twisting process separately.例文帳に追加
繊維径の小さい複数のフィラメントよって構成され、また、繊維束に含まれる液体が少ないことから巻き取り容易であり、かつ、撚り工程を別途設ける必要なく効率的に撚糸を得ることのできる撚糸の製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide an yttria ceramic sintered body which has an excellent corrosion resistance to halogen-based corrosive gases, plasma or the like and can be suitably used as a member in manufacturing apparatuses for semiconductor and liquid crystal devices, particularly in a plasma process apparatus; and a method for manufacturing the same.例文帳に追加
ハロゲン系腐食性ガス、プラズマ等に対する耐食性に優れており、半導体・液晶製造装置等、特に、プラズマ処理装置用の部材として好適に使用することができるイットリアセラミックス焼結体およびその製造方法を提供する。 - 特許庁
In an extraction process of coffee, a space part to set an reduced ion substance is secured in an indispensable passage range for extract liquid and a repeatedly usable filter material for coffee to easily and simply obtain reduced minus ion extract solution good for health.例文帳に追加
コーヒー抽出過程において、抽出液の必須通過域に、イオン還元化物質を設置する為の空間部を確保し、コーヒーフィルターも繰り返し使用可能なフィルター材を設置することにより手軽で健康に良いマイナスイオン還元化抽出液が得られる。 - 特許庁
To provide a technique capable of reducing the amount of excess sludge to be produced from a biological treating process step of organic sewage to substantially zero and effectively removing ammonia nitrogen in the anaerobically digested desorption liquid of the sludge without using chemicals, such as methanol, at all.例文帳に追加
有機性汚水の生物処理工程から発生する余剰汚泥量を実質的にゼロにでき、かつ汚泥の嫌気性消化脱離液中のアンモニア性窒素をメタノールなどの薬品を一切使用することなく、効果的に除去できる技術を提供する。 - 特許庁
The method for producing an NiP nonmagnetic plating film by an electroplating process is characterized in that plating is performed using an NiP plating liquid containing a reagent to form into a feeding source of nickel ions and a reagent to form into a feeding source of phosphorous ions, and a reagent having carboxyl groups.例文帳に追加
電解めっき法によりNiP非磁性めっき膜を製造する方法であって、ニッケルイオンの供給源となる試薬とリンイオンの供給源となる試薬と、カルボキシル基を有する試薬を含有するNiPめっき液を使用してめっきすることを特徴とする。 - 特許庁
To provide a manufacturing method for a liquid crystal display with reduced contact resistance by which the contact resistance can be reduced by depositing a buffer layer on the upper surface of an aluminum base metal and performing an annealing process so that the metal atoms of the buffer layer remain.例文帳に追加
アルミニウムベースメタルの上面にバッファ層を形成し、そのアーニリング過程でバッファ層の金属原子が残存するようにして、接触抵抗を減少させることができるようにした、接触抵抗を減少させた液晶ディスプレイの製造方法を提供する。 - 特許庁
The deodorizing method is characterized by a liquid deodorizing process for deodorizing exhaust gas, which contains an offensive smell containing at least one of hydrogen sulfide, mercaptans or the like, by a cationic compound represented by a quaternary ammonium salt type compound or a guanidine compound and aqueous hydrogen peroxide.例文帳に追加
硫化水素、メルカプタン類のうち少なくとも一種類を含有する臭気を含む排気を4級アンモニウム塩系の化合物やグアニジン化合物に代表されるカチオン系化合物と過酸化水素水による液体消臭工程を特徴とする消臭方法。 - 特許庁
In fabrication of the array substrate for liquid crystal display device according to a new four-mask process, an island-like active layer is formed on the above part of a gate electrode and an opaque metal pattern of a small width is formed on one end of a transparent pixel electrode.例文帳に追加
本発明は、新しい4マスク工程による液晶表示装置用アレイ基板の製作において、ゲート電極の上部に、アクティブ層をアイランド状で構成して、透明な画素電極の一端に不透明な金属パターンを小幅で構成することを特徴とする。 - 特許庁
The detergent composition usable in a production process of a semiconductor integrated circuit or a liquid crystal display comprises (A) at least one kind of hydrofluoric acid and a hydrofluoric acid salt, (B) at least one kind of a sulfite and a disulfite, and (C) water.例文帳に追加
(A)フッ化水素酸及びフッ化水素酸塩のうち少なくとも1種と、(B)亜硫酸塩及び二亜硫酸塩のうち少なくとも1種と、(C)水とを含有する、半導体集積回路又は液晶ディスプレイの製造工程で用いられる洗浄剤組成物。 - 特許庁
To provide a semi-transmissive reflecting film laminate reduced in the peeling and falling-off of a coating film during a manufacturing process and long-term use and used for a liquid crystal display device imparting excellent visibility even in display due to reflected light or transmitted light.例文帳に追加
製造工程および長期の使用において塗膜の剥離および脱落の少なく、かつ反射光及び透過光によるどちらの表示においても、優れた視認性をあたえる液晶表示装置に用いられる半透過反射フィルム積層体を提供する。 - 特許庁
To make it possible to more surely obtain a far IR effect by providing a raw material which more effectively generates far IR rays and a firing method relating to liquid containers, such as Sake (Japanese ricewine) bottles, and spherical bodies suitable for improving water quality, or the like, and to provide a process for producing the same.例文帳に追加
徳利などのような液体容器並びに水質改善などに適した球体とその製造方法に関し、遠赤外線をより効果的に発生する原料と焼成方法を開発し、より確実に遠赤外線効果が得られるようにする。 - 特許庁
This invention concerns to a method for increasing the concentration of dilute salt water in an NaCl electrolyzing factory by a diaphragm process in which NaCl to be required is stored in a material flow silo together with a supernatant liquid and is continuously fed therefrom to a swift melting apparatus.例文帳に追加
本発明は、必要とされるNaClを、上澄液と共に物質流サイロ中に貯蔵し、そこから迅速溶解器へ連続的に供給する、隔膜法によるNaCl電解工場における希塩水の濃度を上昇させる方法に関する。 - 特許庁
The cleaning liquid, having a composition such that this is applied to a process for removing the impurities remaining on the surface of the substrate on which the electronic circuit is formed, and contamination, such as re-sticking of the matter constituting the impurities to the substrate, can be minimized.例文帳に追加
このような組成を有する洗浄液組成物は、電子回路が形成される基板の表面に残留する不純物を除去する工程に適用され、該不純物を構成する物質が基板に再付着する等の汚染を最小化することができる。 - 特許庁
The method for producing the porous membrane with good properties comprises the following process: A membrane-forming stock solution containing a hydrophilic polymer and a hydrophobic polymer is coagulated with a coagulating liquid to obtain coagulate, from which at least part of the hydrophilic polymer is removed, followed by drying to obtain the objective membrane.例文帳に追加
親水性ポリマーと疎水性ポリマーとを含む製膜原液を、凝固液で凝固させて得られた凝固物から、親水性ポリマーの少なくとも一部を除去し、乾燥して多孔質膜を得ると、良好な性質の多孔質膜を得ることができる。 - 特許庁
To provide a method for improving the heterogeneity of image characteristics of the upper part and lower part of the surface of a mask material for exposure as a method for advancing a process by holding the mask material for exposure almost perpendicularly and dipping it in processing tanks containing processing liquid one after another.例文帳に追加
露光用マスク材料をほぼ鉛直方向に保持し、各処理液の入った処理槽に順次浸漬して処理を進める方法において、露光用マスク材料面の上部と下部との画像特性の不均一を改善する方法を提供することである。 - 特許庁
To provide a positive resist composition capable of ensuring satisfactory improvement of sensitivity, exposure latitude and pattern collapse, in a process of producing a semiconductor such as IC and in production of a circuit board of a liquid crystal, a thermal head or the like, and a pattern forming method using the positive resist composition.例文帳に追加
IC等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造に於いて、感度、露光ラチチュード、パターン倒れについて、高次元での両立を可能にしたポジ型レジスト組成物、該ポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁
To achieve both the high efficiency in storage and transportation of a glass substrate package, particularly a glass substrate package used for a liquid crystal display and the like and the abbreviation of a chemical washing process of the glass substrate using a detergent or the like after unpacking the glass substrate and before fabricating it.例文帳に追加
ガラス基板包装体、特に液晶ディスプレイ等に使用されるガラス基板の包装体において、高い保存・輸送効率の実現と、ガラス基板の開梱後加工前における洗剤等を使用した化学的洗浄工程の省略を、同時に可能とする。 - 特許庁
To improve the process yield of a liquid crystal display by manufacturing an array substrate for the display by three masking processes utilizing a slit mask, and where a protective film at the upper portion of the array substrate is formed by a printing method.例文帳に追加
本発明によるアレー基板製造方法はスリットマスクを用いると同時に、基板の上部に構成する保護膜をプリンティング方式で形成する方法を利用した3マスク工程で液晶表示装置用アレー基板を製作して工程収率を改善する。 - 特許庁
When a pointer is put over the area of the sub-recipe number of a process unit (washing unit, a dehydrating baking unit, coating unit, etc.), in a recipe picture, a comment ('operation is included and liquid chemicals are used') showing the contents of processing conditions specified by the sub recipe number is displayed.例文帳に追加
レシピ画面において、処理ユニット(洗浄ユニット、脱水ベークユニット、塗布ユニット等)のサブレシピ番号の領域にポインタを重ねたとき、当該サブレシピ番号により特定される処理条件の内容を表すコメント(「動作有り・薬液有り」)を表示させる。 - 特許庁
To provide a method for inexpensively and simply removing minute particles having 0.1-500 μm average particle size and included in a depolymerized solution of a polyethylene terephthalate with suppressing loss of a process liquid and without generating a large amount of waste.例文帳に追加
ポリエチレンテレフタレートの解重合溶液中から該溶液に含まれる平均粒径0.1〜500μmの微粒子を、プロセス流体の損失を最小限に抑え、大量の廃棄物を発生させることなく、安価で、そして簡便に除去する方法を提供する。 - 特許庁
To provide a semitransmissive liquid crystal device adopting an in-plane switching mode, which can perform display with high image quality and at a wide viewing angle for reflective display and transmissive display and can be manufactured in a simple process at low cost.例文帳に追加
横電界方式を採用した半透過反射型の液晶装置であって、反射表示と透過表示の双方で高画質かつ広視野角の表示を得ることができ、また簡便な工程で低コストに製造可能な構成を具備した液晶装置を提供する。 - 特許庁
To provide a correction method for color filters for a liquid crystal display, which corrects the width of a branch rib to a larger size during a manufacturing process, and to provide a manufacturing method and a manufacturing apparatus which manufacture other items having difference in a direction of the larger width of the branch rib without separately producing a photomask.例文帳に追加
枝リブの幅を大きなものへ製造工程内にて修正する液晶表示装置用カラーフィルタの修正方法、枝リブの幅に大きな方向への相違がある他品目をフォトマスクを別途に作製せず製造する方法、製造装置を提供する。 - 特許庁
The manufacturing method of the separation membrane by dissolving a polymer and using it as a doping raw liquid, solidifying it to obtaining a film-like matter and washing it, includes a process of freezing the film-like matter in a wet state after washing, then thawing it.例文帳に追加
高分子を溶解してドープ原液とし、凝固させて膜状物を得た後、水洗する分離膜の製造方法において、水洗後の湿潤状態のまま膜状物を凍結させた後に解凍する工程を含むことを特徴とする分離膜の製造方法。 - 特許庁
To enhance treated water quality in aerobic biological treatment and to prevent functional trouble such as the generation of scum, bulking or the like in a succeeding solid-liquid separation process in a treatment method subjecting waste water containing an org. solid to anaerobic biological treatment and aerobic biological treatment successively.例文帳に追加
有機性固形物を含む排水を嫌気性生物処理した後好気性生物処理する処理法において、好気性生物処理での処理水質を高め、その後の固液分離工程におけるスカム発生、バルキングなどの機能障害を防止する。 - 特許庁
To detect an existing defect on a substrate or a panel, a defect confirmed after a mounting process, or a possible future defect, and to correct them according to detected defect modes, in an active matrix substrate or an active matrix liquid crystal display panel.例文帳に追加
アクティブマトリクス基板、又はアクティブマトリクス液晶パネルにおいて、基板又はパネルに発生している欠陥、実装工程後に確認される欠陥、或いは将来欠陥となる恐れのある欠陥を検出し、検出した欠陥モードに応じた修正を行う。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing an array substrate which considerably reduces the time required for manufacturing process and the cost, an array substrate manufactured by this method, a counter substrate, and a method for manufacturing a liquid crystal panel using these.例文帳に追加
製造工程にかかる時間を大幅に短縮するとともに、大幅なコストダウンを達成することのできるアレイ基板製造方法およびそれによって製造されるアレイ基板、対向基板、ならびにこれらを用いた液晶パネル製造方法を提供する。 - 特許庁
The method for manufacturing the substrate comprises subjecting the surface of the liquid crystal polyester film to surface roughening with an etchant composed of an alkali, an aliphatic amino alcohol derivative having a hydroxyl group in the molecule and water, then forming the conductive metallic film by a plating process on the roughened surface then heat treating the same.例文帳に追加
液晶ポリエステルフィルムの表面を、アルカリと分子中に水酸基を有する脂肪族アミノアルコール誘導体と水とで成るエッチング液で粗面化し、次いで、前記粗面上にメッキ法によって導電性金属膜を形成した後、それを加熱処理する。 - 特許庁
To provide a washing device wherein washing is effectively performed with less washing liquid, no expendable part such as sponge is required, a wafer is dried clean a washing process is not extended even with a semiconductor wafer of larger diameter, and an overall size is reduced.例文帳に追加
少ない洗浄液で効果的な洗浄が行え、スポンジ等の消耗部品が不要で、ウエハを清浄な状態で乾燥が可能で、例え半導体ウエハが大径化しても洗浄プロセスタイムが長くならず、装置の小型化も図れる洗浄装置を提供する。 - 特許庁
The heat-resistant insulating nonwoven fabric is composed of a wet-process nonwoven fabric containing 5-30% fibrillated aromatic polyamide fiber, 40-90% fibrillated liquid-crystalline aromatic polyester fiber and 5-30% micro-glass fiber having an average fiber diameter of ≤1 μm.例文帳に追加
フィブリル化芳香族ポリアミド繊維5%〜30%、フィブリル化液晶性芳香族ポリエステル繊維40%〜90%、平均繊維径1μm以下のマイクロガラス繊維5%〜30%を含有する湿式不織布からなることを特徴とする耐熱絶縁性不織布。 - 特許庁
To provide a recycling method of glass substrate for color filter capable of effectively recycling a defective color filter produced in a manufacturing process of a color filter used for a liquid crystal display in a shorter time than heretofore and making a glass substrate effectively usable without disposing of the same.例文帳に追加
液晶ディスプレイに使用されるカラーフィルターの製造工程で発生した不良カラーフィルターを、従来よりも短時間で効率的に再生処理し、ガラス基板を廃棄することなく有効に使用可能にするカラーフィルター用ガラス基板の再生方法を提供する。 - 特許庁
To provide a screw type filtration dehydrating device capable of directly filtering a low concentration suspension without passing through a concentration process and effectively performing the squeezing out in the later stage, when the liquid content is decreased, to improve the recovery of a suspended material.例文帳に追加
低濃度の懸濁液を濃縮工程を経由することなく直接濾過処理でき、液分含有量の減少した後期段階での絞り出しが有効に行われて懸濁物質の回収率が高められる、スクリュー式濾過脱水装置を提供する。 - 特許庁
To provide a screw type filtration dehydrating device capable of directly filtering a low concentration suspension without passing through a concentration process and effectively performing the squeezing out in the later stage, when the liquid content is decreased, to improve the recovery of a suspended material.例文帳に追加
低濃度の懸濁液を濃縮工程を経由することなく直接濾過処理でき、液分含有量の減少した後期段階での絞り出しが有効に行われて懸濁物質の回収率が高られる、スクリュー式濾過脱水装置を提供する。 - 特許庁
Then, in a process shown in Figure 1 (c), while the liquid 16 as pure water keeps staying on the resist mask 13 and the silicon oxide film 12 (water applied in layer), the substrate is dipped into a buffer hydrofluoric acid water solution (a mixture of HF/H_2O and HF/NH_4F).例文帳に追加
次に、図1(c)に示す工程で、液体16である純水が、レジストマスク13およびシリコン酸化膜12上に残留した状態(層状に塗布された状態)で、緩衝フッ化水素酸水溶液(HF/H_2OとHF/NH_4Fとの混合液)に基板を浸す。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing a cylindrical substrate for an electrophotographic photoreceptor having no flow trace of an abrasive (abrasive grains) or a polishing liquid on the substrate surface without requiring to maintain the cleanliness of the dried substrate high in the drying process after rinsing the substrate.例文帳に追加
基体洗浄後の乾燥工程において、乾燥媒体の清浄度を高く保つことを必要とせずに、研磨剤(砥粒)や研磨液が基体表面を流れた痕跡等の無い電子写真感光体用円筒状基体の製造方法を提供することにある。 - 特許庁
To acquire a desired adhesion area with a liquid level height which is unchanged after applying an adhesive onto an adhesion seat surface of a casing without complicating a manufacturing process, or without heightening cost thoughtlessly, and to prevent generation of peeling caused by deficiency of an adhesive strength.例文帳に追加
製造工程を複雑にしたり、コストをむやみに高騰させることなく、筐体の接着座面上に接着剤を塗布後に液面高さが変わらないようにして、所望の接着面積を得られるようにし、接着強さ不足による剥れの発生を防止する。 - 特許庁
Lastly, a second attaching process is performed, that is, a second part of the upper substrate 46 is attached to at least one main sealing material 52 in the lower substrate 48 and, thereby, the attaching of the upper substrate 46 and lower substrate 48 of the liquid crystal display panel 49 is completed.例文帳に追加
最後に第二貼り合わせ工程を行い、上基板46の第二部分を下基板48における少なくとも一つのメインシール材52と貼り合わせることによって液晶表示パネル49の上基板46と下基板48の貼り合わせを完成する。 - 特許庁
In the manufacturing process for the liquid crystal apparatus (1), the mark portion (M) can easily determine through an optical method, or to be more specific, by viewing, for example, whether or not the formation locations and sizes of the conductive portions deviate from specified values.例文帳に追加
マーク部(M)によれば、液晶装置(1)の製造プロセスにおいて、導電部の夫々の形成位置及びサイズが規格値から外れているか否かを光学的な手法によって、より具体的には、例えば目視によって容易に判定することが可能である。 - 特許庁
In a coating process, a coating portion 14a for coating at least a part of the brush holder resin body 7a including the choke coil C is molded integrally with the brush holder resin body 7a of the same material as a sealing material 14 for preventing intrusion of liquid into the motor case (simultaneously therewith).例文帳に追加
次に、被覆工程では、チョークコイルCを含めてブラシホルダ樹脂体7aの少なくとも一部を被覆する被覆部14aを、モータケース内への液体の浸入を防止するためのシール材14と同部材で(同時に)ブラシホルダ樹脂体7aに一体成形する。 - 特許庁
To provide a manufacturing method of a binary porous silica which improves its productivity and reduces the amount of washing waste liquid generated from the manufacturing process, and by which a high purity binary porous silica can be obtained.例文帳に追加
珪酸アルカリ水溶液を用いる二元細孔シリカの製造において、その生産性を向上させ、また製造工程から発生する洗浄廃液量を削減し、且つ、高純度の二元細孔シリカが得られる二元細孔シリカの製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a target conveying device which can suppress generation of uneven drying of a target subjected to recording processing through adhesion of a liquid while executing suction for securing a flatness of the target in a conveyance process of the target, and to provide a recording apparatus.例文帳に追加
ターゲットの搬送過程において、ターゲットの平面性を確保するための吸着を実行しつつ、液体の付着により記録処理が施されたターゲットの乾燥ムラの発生を抑制することができるターゲット搬送装置及び記録装置を提供する。 - 特許庁
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