「process parameters」に関連した英語例文の一覧と使い方(5ページ目) - Weblio英語例文検索

The image processing apparatus performs a first optimization process for optimizing the color processing parameters using target color data which is found to be in a prescribed color region and its color data, and a second optimization process for optimizing the color processing parameters using target color data below a prescribed threshold value and its color data.例文帳に追加

尚、最適化処理に際しては、目標色データが所定色域内にあると判定された目標色データとその色データとを用いて色処理パラメータの最適化を行う第１の最適化処理と、色域外にあると判定された目標色データであって所定の閾値以下の目標色データとその色データとを用いて色処理パラメータの最適化を行う第２の最適化処理とが行われる。 - 特許庁

Process data, immediately prior to a module in which the effect caused by changing parameters, is judged as being reserved, and then the execution order of the module is edited, so that the module and latter can be iteratively processed, thereby iteration process can be carried out with as small a number of modules as possible.例文帳に追加

パラメータ変更により効果を判定したいモジュールの直前までの処理データを保存し、そのモジュール以降を繰り返し実行可能となるようにモジュールの実行順序を編集し、できるだけ少ないモジュールで繰り返し実行を可能とする。 - 特許庁

During the execution of the sampling process, the failure detecting apparatus records operating condition parameters (engine speed N, fuel injection quantity W) which shows operating condition of an engine, and detects a failure of the DPF based on the operating condition parameters (the engine speed N and the fuel injection quantity W) and the measured electrostatic capacity changed quantity ΔC.例文帳に追加

また、サンプリング処理を実行している間におけるエンジンの運転状態を示す運転状態パラメータ（回転数Ｎ，燃料噴射量Ｗ）を記録しておき、この運転状態パラメータ（回転数Ｎ，燃料噴射量Ｗ）と、測定された静電容量変化量ΔＣと、に基づいてＤＰＦの故障を検知する。 - 特許庁

A second rule similar to a first rule corresponding to the control parameters to be adjusted is estimated based on the generated reference information and adjustment process data obtained by adjusting the reference data in accordance with the environmental change of the device, and the setting values of the control parameters to be adjusted are set by using the estimated second rule.例文帳に追加

生成した基準情報と、装置の環境変化に応じて基準データを調整した調整過程データとに基づいて、調整対象の制御パラメータに対応する第１ルールに類似する第２ルールを推定し、その推定した第２ルールを用いて、前記調整対象の制御パラメータの設定値を設定する。 - 特許庁

A lithographic simulation process is described, where each irradiation source point in a preselected group of irradiation source points at a pupil plane of an irradiation source is represented by one or more variable parameters, and at least some of the variable parameters characterize a polarization state at the radiation source point.例文帳に追加

照射源の瞳面における照射源ポイントのあらかじめ選択された群の各照射源ポイントが、１つまたは複数の可変パラメータによって表され、可変パラメータのうちの少なくともいくつかが、照射源ポイントにおける偏光状態を特徴づける、リソグラフィのシミュレーションプロセスが説明される。 - 特許庁

The sender checks the processing result on a display 16, and presses a "Sending OK" operation button 74 if satisfied or presses a "Process further" operation button 73 to set processing parameters if unsatisfied.例文帳に追加

送信者はディスプレイ１６上で処理結果を確認し、良ければ「送信ＯＫ」の操作ボタン７４を押し、気に入らなければ「さらに処理」の操作ボタン７３を押して処理パラメータの設定操作を行う。 - 特許庁

The simulation system enables predicted future values, as well as, the predicted current values of process parameters produced by the simulation system to be made available for performance evaluation, as well as, for guiding plant operations.例文帳に追加

シミューレーション・システムにより生成されたプロセスパラメータの現在の予測値だけでなく将来的な予測値を、性能評価に利用し、並びにプラントの動作を誘導するために利用することが可能になる。 - 特許庁

By repeating such a process, if the original information is utilized as many times as the frequency of utilization, the original information can not be restored any more from the remaining distributed data and distributed key parameters, thereby disabling utilization based on the original information.例文帳に追加

これを繰り返すと、利用回数分の利用があると、残りの分散データと分散鍵パラメータとからは元情報を復元することができなくなり、元情報に基づく利用ができなくなる。 - 特許庁

To provide a method or system for optimizing a process for producing a cast or molded product made by one or more production steps in respect of one or more predetermined parameters towards one or more optimal values.例文帳に追加

最適値に向けて事前設定されたパラメータに関して、１つ以上の製造ステップにより生成される鋳造物または成形物の製造プロセスを最適化する方法またはシステムを提供する。 - 特許庁

Once any of the names of the processes displayed on the screen of the monitor device 22 is selected, the classification unit 14 displays a setting window on the screen of the monitor device 22 for setting parameters about the process.例文帳に追加

また、分類部１４は、モニタ装置２２の画面に表示された処理の名称が選択されると、当該処理に関するパラメータを設定する設定ウィンドウをモニタ装置２２の画面に表示させる。 - 特許庁

To improve a gathering binding machine so as to enable alteration of equipment at the smallest possible cost on the occasion when process-related geometric parameters of an paper-bound book change from one job to a succeeding one.例文帳に追加

１つのジョブから後続のジョブへ仮とじ本のプロセス関連の幾何学パラメータが変わるときに、できるだけ少ないコストで設備変更が可能であるように、丁合い綴じ機を改良する。 - 特許庁

The weighted average of the computed plural kinds of syllable number scores is obtained using weighting parameters and the total syllable number of lyrics per small section unit is computed by performing a rounding process to an integer (S330).例文帳に追加

そして、算出した複数種類の音節数スコアを重み付けパラメータで加重平均化し、整数への丸め処理をすることで、小区間単位の歌詞の合計音節数を算出する（Ｓ３３０）。 - 特許庁

To provide an apparatus for inspecting foreign object capable of easily obtaining inspection parameters needed for detecting foreign objects mixed in an inspection target and capable of efficiently performing the foreign object-inspection process.例文帳に追加

検査対象物中に混入した異物の検出に必要な検査パラメータを簡易に取得して、その異物検査処理を効率的に実行することのできる異物検査装置を提供する。 - 特許庁

The result of the bounding function is based upon the present execution of the received job, one or more historical parameters, and an evaluation of the number of idle nodes available to process other jobs.例文帳に追加

境界関数の結果は、受信されたジョブの現在の実行、１以上の履歴パラメータ、及び他のジョブを処理するために利用可能な使用されていないノードの数の評価に基づいている。 - 特許庁

To provide a retardation plate that can be produced in a simple manufacturing process, a method for manufacturing the plate, a manufacturing device, and a method of determining optical parameters by which more accurate values can be specified, and a polarization analyzer.例文帳に追加

簡単な製造工程で作製できる位相差板、その製造方法、その製造装置、並びにより正確な値を特定可能な光学パラメータ決定方法、および偏光解析装置を提供する。 - 特許庁

To reduce the processes of a user writing the reference values of parameters pertaining to operation control to the EEPROM (12) of a control board (1) separately for each mounting model, in the manufacturing process of a freezer.例文帳に追加

冷凍装置の製造過程において、製造者が制御基板（1）のＥＥＰＲＯＭ（12）に対して運転制御に関するパラメータの基準値を搭載機種ごとに書き込む工程を削減する。 - 特許庁

Parameters α, n for obtaining the quantity of grinding a work 42 are acquired by an arithmetic process in accordance with two actual working data of a temporal change of a grinding resistance and a relationship between a cutting speed and the grinding resistance.例文帳に追加

ワーク４２の研削量を求めるためのパラメータα，ｎを、研削抵抗の時間変化と、切り込み速度と研削抵抗の関係との２つの実加工データに基づいて演算処理により求める。 - 特許庁

To provide an image reading apparatus which makes appropriate decision whether to replace parameters such as a light-source adjusted value and white corrected data with set values depending on a change in the incidence state of external light during each adjustment process.例文帳に追加

各調整時の外光の入射状態の変化に応じて、光源調整値，白補正データ等の各種パラメータを既定値に置き換えるか否かが適切に切換可能な画像読取装置の提供。 - 特許庁

To provide a method for polishing a wafer in which the parameters of a processing process model can be determined automatically from the production start achievement data in mass production, such that the precision is enhanced in film thickness of a processed product wafer.例文帳に追加

製品ウェハの処理後膜厚の精度が良くなるように、量産での着工実績のデータより処理過程モデルのパラメータを自動的に決定することのできるウェハの研磨方法を提供する。 - 特許庁

Inaccurate information is calculated by parameters (from 10-0 to 50-2, 40, 50, 60) in a mapping calculation process for projecting the data model (1) on the video display screen of the display device (4).例文帳に追加

不正確情報は、データモデル（１）をディスプレイ装置（４）の映像表示画面に投影するための写像計算過程において、パラメータ（１０−０から５０−２まで、４０、５０、６０）から計算される。 - 特許庁

One example includes obtaining a surface with reduced roughness by creating process parameters that reduce impurities at an interfacial boundary between the first and second semiconductor crystalline materials.例文帳に追加

一実施例は、第１および第２の半導体結晶材料間の界面境界の不純物を減少させるプロセスパラメータを作成することによって、粗さが低減された表面を得ることを含む。 - 特許庁

The context of a 4.4BSD process consists of user-level state, including the contents of its address space and the run-time environment, and kernel-level state, which includes scheduling parameters, resource controls, and identification information. 例文帳に追加

4.4BSD のプロセスのコンテキストは、アドレス空間の内容とランタイム環境を含むユーザレベルの状態と、スケジューリングのパラメータやリソース制御、識別情報を含むカーネルレベルの状態から構成されています。 - FreeBSD

The entire CBED refinement process is best handled by minimizing a weighted goodness of fit index because different parts of the rocking curve show different sensitivities to different parameters. 例文帳に追加

全CBED精密化プロセスは重みをつけた「goodness of fit」指数を最小にすることによって最もよく処理される; なぜなら、ロッキングカーブの異なる部分は、異なるパラメータに対して異なる感受性を示すからである。 - 科学技術論文動詞集

Sensors 46 giving signals for determining phase positions of machine components are attached to the machine components and reference components which correspond to the process-related geometric parameters on the occasion of the changeover of the job.例文帳に追加

ジョブ切換のときにプロセス関連の幾何学パラメータに該当する機械コンポーネントおよび基準コンポーネントに、これらの機械コンポーネントの位相位置を定める信号を出すセンサ４６が付属している。 - 特許庁

A process control system includes economic models disposed in communication with process control modules, as well as with sources of economic data, such as cost, throughput and profit data, and uses the economic models to determine useful economic parameters or information associated with the actual operation of the process plant at the time the plant is operating.例文帳に追加

プロセス制御システムは、プロセス制御モジュールならびにコストデータ、処理量データ、および収益性データの如き経済性データのソースと通信状態で配設される経済性モデルを備え、これらの経済性モデルを用いて、プロセスプラントの運転時に、そのプラントの実際の運転に関連する有用な経済性パラメータまたは経済性情報を決定する。 - 特許庁

To provide a scheduling parameter correction method capable of efficiently and properly correcting scheduling parameters according to the changes in facilities due to deterioration with time or the like in a manufacturing process (i.e. steel making process) including plural steps and at least one or more bottleneck processes.例文帳に追加

複数工程からなるとともに少なくとも１つ以上のボトルネック工程を有する製造プロセス（例えば、製鋼プロセス）において、経時劣化等に起因する設備変化に応じてスケジューリングパラメータを効率的且つ適切に修正することが可能な、スケジューリングパラメータの修正方法を提供する。 - 特許庁

The mutual relation data is analyzed by a data analyzer 19, compared with the same data of a reference system, and then the shift of control parameters and process monitor signals due to the difference of system is grasped and corrected before a process control similar to that of the reference system is performed.例文帳に追加

その相関関係データをデータ解析装置１９で解析して、基準となる装置の同じデータと比較し、制御パラメータやプロセスモニタ信号がどのように機差によってシフトしているかを把握し、そのシフト分を補正した後、基準となる装置と同等のプロセスコントロールを行なう。 - 特許庁

The method includes a process for guiding a definite probe inside a definite body into a definite position in contact with the tissue to be ablated, and a process for measuring one or more local parameters at the position using the probe prior to ablating the tissue.例文帳に追加

上記の方法は一定のプローブをアブレーションする組織に接触する一定の位置まで一定の体内に導入する処理、および上記組織をアブレーションする前に上記プローブを用いて上記位置における１個以上の局所的なパラメータを測定する処理を含む。 - 特許庁

Subsequently, a template of a size including a prescribed or a larger number of characteristic points around the measurement points, performs a mutual correlation process with second image data by using the template, estimates physical parameters such as the displacement of tissue and speed from the result of the mutual correlation process.例文帳に追加

次いで、この測定点を中心に所定数以上の前記特徴点を含む大きさのテンプレートを設定し、このテンプレートを用いて第２の画像データとの間で相互相関処理を行い、この相互相関処理結果から組織の変位や速度などの物理パラメータの推定を行う。 - 特許庁

This panel display monitor structure is installed to assay parameters for manufacturing conditions of a manufacturing process of a flat display panel 2 and constituted by forming a material 12 having sensitivity to a process environment comprising temperature and atmosphere into a fine particle layer in on a base substance 11.例文帳に追加

フラットディスプレイパネル２の製造工程における製造条件のパラメーターを検定するために配置されるパネルプロセスモニター構造物であって、基体１１上に、温度と雰囲気とからなるプロセス環境に感受性を有する物質１２が微粒子状の層として形成して構成されている。 - 特許庁

Process or system quantities (u_2, u_3, x_GC, x_LL, w_0) are measured repeatedly, at different times during operation of the plant, and a specific relational expression having linear parameters (θ_i) as coefficients of nonlinear expressions (ψ_i) of the process quantities is established by evaluating the measurements.例文帳に追加

プロセスまたはシステムの質（ｕ_２，ｕ_３，Ｘ_ＧＣ，Ｘ_ＬＬ，ｗ_ｏ）が、プラントの操業中の異なる時間に繰り返し測定され、そして、プロセス質の非線形式（φ_ｉ）の係数として線形パラメータ（θ_ｉ）を有する特定の関係式が、測定値を評価することにより作り出される。 - 特許庁

The concentration of the chemical vapor sterilant, especially, hydrogen peroxide, can be calculated at a point within a lumen based upon physical characteristics of the lumen and process parameters of a sterilization process employing the sterilant.例文帳に追加

一定の化学蒸気滅菌剤、特に、過酸化水素の濃度が一定の内孔部における各種の物理的特性およびおよび上記滅菌剤を使用している一定の滅菌処理における各種の処理パラメーターに基づいて当該内孔部内の一定の位置において計算できる。 - 特許庁

This shot peening method includes: a process of previously simulating a temperature rise of a product caused by shot peening by varying various parameters which are the treatment conditions of shot peening; a process of estimating the raised temperature of the product caused by shot peening based upon the result of the simulation process to select the treatment conditions of shot peening; and a process of shot peening of the product based upon the selected treatment conditions.例文帳に追加

ショットピーニングによる製品の温度上昇を、ショットピーニングの処理条件である各種のパラメータを様々変えて予めコンピュータによりシミュレーションする工程と、このシミュレーション工程の結果に基づきショットピーニングによる前記製品の上昇温度を推定してショットピーニングの処理条件を選定する工程と、この選定した処理条件に基づいて前記製品をショットピーニングする工程と、を含む。 - 特許庁

To solve the problem that, since there are some cases where a plurality of communication parameter sets may be provided from a provider to a receiver during an automatic setting process for communication parameters, the communication parameter set suitable for the receiver is not always provided.例文帳に追加

通信パラメータの自動設定処理において、提供装置から受信装置に対して通信パラメータセットが複数提供される場合があり、受信装置に適した通信パラメータセットが提供されるとは限らない。 - 特許庁

The quality and uniformity of the film can be controlled by adjusting the frequency and amplitude of the signal, the duration time of the positive signal, the power supplied to a supporting member 112 and a coil, and other process parameters.例文帳に追加

膜質と膜の均一性は、信号の周波数と振幅、信号のプラス部の持続時間、支持部材１１２とコイルとへそれぞれ供給される電力、および他のプロセスパラメータを調節することによって制御できる。 - 特許庁

To provide a method for determining parameters for projection of a lithographic projecting apparatus to be used for manufacturing a device, in particular, determining the intensity distribution of a radiation source, optical proximity correction rules and process windows by using simple software.例文帳に追加

デバイスの製造に使うリソグラフィ投影装置の投影用パラメータ、特に放射線源強度分布、光学的近接補正規則およびプロセスウインドウを簡単なソフトウエアで決定する方法を提供すること。 - 特許庁

A model function, such as a Gaussian Mixture Model (GMM) function, with parameters determined using a Levenberg-Marquardt (LM) regression process can also be used to find an approximation to the first derivative curve.例文帳に追加

また、モデル関数、例えば、ガウシアン混合モデル（ＧＭＭ）関数は、レーベンバーグ・マルカート（ＬＭ）回帰プロセスを用いて決定されたパラメーターを含み、それを用いて、第１の微分曲線への近似を見出すことが可能である。 - 特許庁

A professional operator who is familiar with operating of the digital mixing device 200 uses the control device 300 to set in detail parameters for mixing process with the digital mixing device 200.例文帳に追加

デジタルミキシング装置２００の取り扱いに精通した玄人オペレータは、デジタルミキシング装置２００によるミキシング処理に関し、コントロール装置３００を用いて該ミキシング処理に係る各パラメータの詳細設定を行う。 - 特許庁

In order to handle large errors for initial registration parameters and to avoid local minima in the minimization process, the image pair may be registered in a lower resolution and then refined in a higher resolution.例文帳に追加

初期位置合わせパラメーターについて大きなエラーに対処し、最小化プロセスにおいて極小を避けるために、画像ペアをより低い解像度で位置合わせし、次により高い解像度において精緻化することができる。 - 特許庁

In the feedback processing process, parameters acquired for every semiconductor wafer is substituted into the foregoing relational expression to estimate the predicted value of the etching size, and lithography conditions for every semiconductor wafer is set on the basis of the predicted value.例文帳に追加

フィードバック処理工程は、半導体ウェハ毎に取得されたパラメータを、上述の関係式に代入してエッチング寸法の予測値を求め、当該予測値に基づいて半導体ウェハ毎のリソグラフィ条件を設定する。 - 特許庁

The mask patterns of the photomask used in patterning wiring patterns by the photolithography process step are subjected to correction of the mask patterns by dividing the photomask to ≥2 regions and determining correction parameters by each of the respective regions.例文帳に追加

フォトリソグラフィ工程により配線パターンをパターニングする際に使用するフォトマスクのマスクパターンについては、フォトマスクを２以上の領域に分割し、各領域毎に補正パラメータを求めてマスクパターンの補正を行う。 - 特許庁

To provide a process optimizing operation parameters about a time element related to engine operation in an automobile so as to simultaneously attain the suitable efficiency of an exhaust emission control system and suitable fuel consumption.例文帳に追加

排気ガス処理システムの最適な効率、および最適な燃費を同時に達成するために、自動車におけるエンジンの操作に関連する時間的要素についての操作パラメータを最適化するプロセスを提供すること。 - 特許庁

The customer terminals 5 download or load in off-line a program including how to process the pressure signals or parameters, etc. for processing them into a program memory 304, thereby easily obtaining desired information.例文帳に追加

また顧客端末５は、圧力信号の加工方法や加工用のパラメータ等を含むプログラムをサーバー３のプログラムメモリ３０４へダウンロードもしくはオフラインでロードすることで所望の情報を容易に得られるようにする。 - 特許庁

To achieve highly accurate concentration control in the process of generation processing on concentration control parameters while suppressing decrease in productivity and suppressing the influence by concentration variations due to difference of positions on a photoreceptor drum.例文帳に追加

濃度制御パラメータを生成処理する際に、生産性の低下を抑制しながら、かつ、感光体ドラム上の位置の違いによる濃度ばらつきの影響を抑制して、高精度な濃度制御を実現する。 - 特許庁

Examples of the synchronization parameters that can be cited includes work shift, working group, individual on-duty time, individual log-on period, execution time of a process control constituting body, batch operation type, and procedure of a batch operation, sub-unit of the batch operation.例文帳に追加

同期化パラメータの例としては、作業シフト、作業グループ、個人の当番時間、個人のログオン期間、プロセス制御構成体の実行時期、バッチ運転タイプおよびバッチ運転の手順またはサブユニットなどが挙げられる。 - 特許庁