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processing temperatureの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 2995件
To provide a ceramics cooling plate that has a heat emission property to keep a wafer at constant temperature and prevent thermal deformation during exposure as well as high rigidity and low thermal expansion factor for high processing accuracy.例文帳に追加
露光処理時などにおいて、ウェハの温度を一定にして熱歪みを防ぐための排熱性と、高い処理精度を実現するための高剛性および低熱膨張性をいずれも兼ね備えるセラミックス製冷却プレートを提供する。 - 特許庁
To provide a substrate processing apparatus which downsizes an apparatus for adjusting the temperature and humidity of air to be fed to a resist coating unit and a developing unit and reduces the running cost such as power consumption, etc.例文帳に追加
レジスト塗布処理ユニットおよび現像処理ユニットに供給する空気の温度や湿度を調整するための装置の小型化および消費電力等のランニングコストの低減を図ることができる基板処理装置を提供すること。 - 特許庁
To provide a gas barrier multilayer film which has excellent gas barrier properties and excellent adhesion between layers, and is suppressed in decrease of the gas barrier properties and free from separation of layers even after long-term exposure to a high-temperature, high-humidity environment or after retort processing.例文帳に追加
高温高湿の環境下に長期間曝された際や、レトルト処理後であっても、ガスバリア性の低下が少なく層間剥離が起こらない、優れたガスバリア性及び層間密着性を有するガスバリア性積層フィルムを提供する。 - 特許庁
On the conveyance line A, a cleaning unit 21, a coating unit 22, a heating unit 23, a temperature control unit 24, and a rinse unit 25, which perform prescribed processing for the template T during conveyance, are arranged in this order, in the conveyance direction of the template T.例文帳に追加
搬送ラインAには、搬送中のテンプレートTに対して所定の処理を行う、洗浄ユニット21、塗布ユニット22、加熱ユニット23、温度調節ユニット24、リンスユニット25がテンプレートTの搬送方向に順に配置されている。 - 特許庁
To provide a thin heat pipe in a simple constitution, which does not need special processing, is superior in mass-productivity, and has high heat radiating and heat absorbing properties so that the entire surface can be heated or cooled in a short time with a temperature distribution free from unevenness.例文帳に追加
簡素な構成で、特殊な加工を必要とせず、量産性に優れ、表面全体を短時間で温度分布に斑の無い状態に加熱又は冷却することができる放熱性、吸熱性に優れた薄型ヒートパイプの提供。 - 特許庁
To solve the problem in which in long exposure imaging, such as bulb exposure, processing of repeated retrieval of image data out of an imaging element would invite a temperature rise of imaging elements and an increase in dark current noise, resulting in deteriorated picture quality of the recorded image.例文帳に追加
バルブ撮影等の長時間撮影において、撮像素子から画像データを繰り返し読み出して表示する処理を行うと、撮像素子の温度が上昇し、暗電流ノイズが増加するため、記録画像の画質が低下する。 - 特許庁
When the wafer 10 is subjected to plasma process in this state, the wafer 10 and tray 11 are both cooled during the plasma processing, so that the wafer 10 is unlikely to have a temperature difference between a center part and an outer peripheral part thereof, thereby improving uniformity of etching.例文帳に追加
この状態でウエハ10をプラズマ処理すれば、プラズマ処理中にウエハ10とトレイ11の両方が冷却されるため、ウエハ10の中心部と外周部で温度差が生じにくくエッチングの均一性が向上する。 - 特許庁
To provide austenitic stainless steel which has oxidation resistance property and high-temperature strength, facilitates manufacturing of raw materials and processing to products by forming and welding, can be used for a large range of fields and exhibits excellent economy.例文帳に追加
耐酸化性と高温強度を有した上で、素材の製造および製品への成形、溶接による加工が容易であり、広範な分野での使用に耐える優れた経済性を兼ね備えるオーステナイト系ステンレス鋼を提供する。 - 特許庁
To provide a steam oven capable of evenly cooking and processing food with good heat efficiency by causing superheated steam to circulate evenly inside the oven to prevent uneven temperature inside the oven so as to keep the flavor of the food from deteriorating and nutrients from flowing out.例文帳に追加
過熱蒸気を庫内に均等に循環させて庫内での温度ムラの発生を抑え、食品の風味低下や栄養分の流出を抑えて、熱効率良く均一に調理・加工処理ができるスチームオーブンを提供する。 - 特許庁
To provide an image processor for reducing power consumption of a chip, in which plural functional blocks to constitute a controller to execute various functions are incorporated, to suppress temperature rise of the chip and the increase processing speed.例文帳に追加
さまざまな機能を実行させるためのコントローラを構成する複数の機能ブロックが組み込まれたチップの消費電力を削減すると共に、チップの昇温を抑え、処理速度の向上を図った画像処理装置を提供する。 - 特許庁
To provide a chemical-resistant liquid comprising a polyamide, a layered silicate and a liquid crystal resin, a thermoplastic resin composition having an improved gas permeation resistance, chemical resistance and low- temperature toughness wherein the thickness non-uniformity in processing is inhibited, and a molded product.例文帳に追加
ポリアミドと層状珪酸塩および液晶性樹脂からなる耐薬液および耐ガス透過性、耐薬品性、低温靭性の改良および加工時の肉厚むらを改良した熱可塑性樹脂組成物および成形品を提供する。 - 特許庁
To provide a phase adjusting method, a phase adjusting apparatus, and a plasma processing apparatus which keep a phase change quantity constant at all the time regardless of a change in surrounding temperature, are extremely inexpensive and are superior even with respect to power saving.例文帳に追加
周囲の温度変化に関係なく、常に位相変化量を一定に維持することができるとともに、非常に安価で省エネに対しても優れた位相調整方法及び位相調整装置及びプラズマ加工装置を提供する。 - 特許庁
In the process of removing the resist layer for the atmosphere of the gaseous mixture, the volume ratio (steam/ozone gas) of the steam to the ozone gas is 1 to 4 and the temperature inside the processing chamber is 95°C to 140°C.例文帳に追加
前記レジスト層を除去する工程において、前記混合気体の雰囲気は、前記オゾンガスに対する前記水蒸気の体積比(水蒸気/オゾンガス)が1ないし4であり、前記処理室内の温度は95℃ないし140℃である。 - 特許庁
To provide a photographing apparatus capable of efficiently consuming the accumulated power of a battery in a photographing processing operation requiring fan driving for reducing the temperature inside a main body, and to provide a power utilization method for the photographing apparatus.例文帳に追加
本体内部の温度を低減するファン駆動を伴う撮影処理動作においてバッテリの蓄積電力を効率よく消費することができる撮影装置及び当該撮影装置における電力活用方法を提供すること。 - 特許庁
To improve mold release paper with an emboss, capable of improving mold releaseability from synthetic leather and being used for manufacturing the synthetic leather requiring the processing under a high-temperature environment, and a method for manufacturing the mold release paper with the emboss.例文帳に追加
合成皮革との剥離性を向上させることが可能で、高温環境での処理を必要とする合成皮革の製造にも使用可能なエンボス付き離型紙及びエンボス付き離型紙の製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a new polyvinyl chloride-based resin for a paste, capable of being produced in a good productivity, and excellent in gelling property of a plastisol, preservation stability of the plastisol, tensile physical properties under a low temperature processing condition and heat resistance.例文帳に追加
生産性良く製造可能で、プラスチゾルのゲル化性、プラスチゾルの貯蔵安定性、低温加工条件における引張物性、耐熱性に優れた新規なペースト用塩化ビニル系共重合樹脂を提供することを課題とする。 - 特許庁
The processing method comprises a hydrolysis process (step 240) in which the treating material containing lithium-transition metal-containing complex oxide (positive electrode active material etc.) and aluminum member (positive electrode current collector etc.) is treated in a high temperature high humidity atmosphere.例文帳に追加
本発明の処理方法は、リチウム・遷移金属含有複合酸化物(正極活物質等)およびアルミニウム部材(正極集電体等)を含む被処理材を高温多湿雰囲気で処理する加水分解工程(ステップ240)を備える。 - 特許庁
To provide a polishing monofilament having not only excellent acid-resistant property but also excellent wet-heat resistant property and particularly preferably used in acid liquid washing and polishing processing under high temperature and high humidity of a stainless steel plate.例文帳に追加
耐酸性に優れるばかりか、耐湿熱性にも優れた特性を有し、特にステンレス鋼板などの高温、高湿下における酸液洗浄研磨加工において好ましく使用することができる研磨用モノフィラメントの提供。 - 特許庁
The hybrid monolayered carbon nanotube, which includes the dopant substance in the monolayered carbon nanotube, is made by keeping the monolayered carbon nanotube with a perforation and the dopant substance under vacuum pressure at the processing temperature as the dopant substance changes to a vapor.例文帳に追加
開孔を有する単層カーボンナノチューブとドーパント物質を、真空減圧下で、ドーパント物質が蒸気となる処理温度に保持することで、ドーパント物質が単層カーボンナノチューブに内包されたハイブリッド単層カーボンナノチューブを作製する。 - 特許庁
To improve the adhesion and durability of the film stacks during subsequent elevated temperature processing in a method for forming modulated tantalum/tantalum nitride diffusion barrier stacks on semiconductor device substrate used in interconnect structure.例文帳に追加
配線構造に使用される半導体デバイスの基板上に、調節されたタンタル/窒化タンタルの拡散障壁の積み重ねを形成する方法において、後の高温の加工中における膜の積み重ねの付着性及び耐久性を改善する。 - 特許庁
The processing liquid has at least a hydrophilic group and a hydrophobic group respectively in its one molecule, and includes an organic substance having volatility at a room temperature.例文帳に追加
低誘電率材料が少なくとも表面の一部に露出している基板を処理する処理液であって、1分子中に親水基並びに疎水基を少なくともそれぞれ1つ有し、かつ室温において揮発性を有する有機物を含む。 - 特許庁
To provide an image processor and an image processing method capable of surely detecting a pixel defect that later occurs due to changes over time and temperature characteristics of an imaging element and the reflection of foreign matters attached to the imaging element.例文帳に追加
撮像素子の経時変化や温度特性により後発的に発生する画素欠陥及び撮像素子に付着した異物の写り込みを確実に検出することができる画像処理装置及び画像処理方法を提供する。 - 特許庁
This solid pharmaceutical preparation of gastric suspending type is composed of (A) a suspending type preparation part including an expanding type polymer molecule expanded by a low temperature plasma processing and (B) a pharmaceutical preparation part containing a medicament.例文帳に追加
低温プラズマ処理により膨張した膨張性高分子を含有する浮遊性製剤部分(A)と、薬物を含有する製剤部分(B)とから構成された製剤が、胃内浮遊型固形製剤として可能であることを見出した。 - 特許庁
The smoothness, the surface temperature, and the pressurizing pressure of the heat roller 328a on the upstream side in the conveying direction of the recording medium are not higher than those of the heat roller 328b at the downstream side, and hot pressing fixing processing is performed in accordance with the fixing and the progress of drying and fixing.例文帳に追加
記録媒体搬送方向上流側のヒートローラ328aの平滑度、表面温度、加圧圧力は下流側のヒートローラ328b以下であり、乾燥及び定着の進行に合わせた熱圧定着処理が行われる。 - 特許庁
The microcomputer 2 determines the seat on which the occupant is seated by processing a heat image data and detects the wearing state of the seat belt by using discontinuity of surface temperature distribution of an upper half body of the occupant's especially of a face and a scruff.例文帳に追加
マイクロコンピュータ2は、熱画像データを処理して、乗員の居る座席を判断するとともに、乗員の上半身の特に顔および首筋の表面温度分布の不連続性を利用して、シートベルトの着用状態を検出する。 - 特許庁
The silicon wafer is obtained by processing single crystal grown by a Czochralski method, a rapid temperature rising/falling heat treatment of ≤10 seconds is applied to the wafer having an initial interstitial oxygen concentration of ≥1.4×10^18atoms/cc (ASTM F-121, 1979).例文帳に追加
チョクラルスキー法によって育成された単結晶から加工されたシリコンウェーハであって、初期格子間酸素濃度が1.4×10^18atoms/cc(ASTM F−121,1979)以上のウェーハに、10秒以下の急速昇降温熱処理を施す。 - 特許庁
Then, a signal-processing part corrects the reflection intensity, based on the visibility information from the outside (S200), and estimates the condition of the road surface for each measurement point the three pieces of information and road surface temperature information from the outside (S300).例文帳に追加
すると、信号処理部が、外部からの視程情報に基づいて「反射強度」を補正し(S200)、上述した3つの情報と外部からの「路面温度情報」とを用いて測定点毎に路面の状況を推定する(S300)。 - 特許庁
Article 252 The employer shall, as regards places where high-temperature slag are processed with water, or are disposed, in order to prevent steam explosions, take the following measures. However, this shall not apply to the case that water smash processing is carried out: 例文帳に追加
第二百五十二条 事業者は、水蒸気爆発を防止するため、高熱の鉱さいを水で処理し、又は廃棄する場所については、次の措置を講じなければならない。ただし、水砕処理を行なうときは、この限りでない。 - 日本法令外国語訳データベースシステム
Then, color shift correction processing is appropriately performed in timing that the possibility of the occurrence of color shift gets high as a result that the speed variation of the intermediate transfer belt due to the variation of the in-machine temperature and the contraction/expansion of the respective parts of the device are caused.例文帳に追加
そして、機内温度の変動に起因する中間転写ベルトの速度変動や装置各部の伸縮が生じた結果、色ずれ発生の可能性が高まるタイミングで色ずれ補正処理が適切に実行される。 - 特許庁
When the wafer W is placed on the cooling plate 60 and cooled, the cover 66 is moved down to form a processing chamber S, and the cover 66 at the low temperature is brought near to the wafer W to facilitate the cooling of the wafer W.例文帳に追加
ウェハWが冷却板60上に載置され,冷却される際に,蓋体66を下降させて,処理室Sを形成すると共に,低温の蓋体60をウェハWに近づけて,ウェハWの冷却を促進させる。 - 特許庁
Subsequently, an optical element (second optical element) is molded using a corrected mirror surface piece 17 obtained by the correction processing of the temporary mirror surface piece 4 (S05) and the temperature of the second optical element is leveled to evaluate the second optical element (S06).例文帳に追加
次にこの仮鏡面駒4を修正加工した修正鏡面駒17を用いて光学素子(第2の光学素子)の成形を行い(S05)、その第2の光学素子について温度ならしをした上で評価する(S06)。 - 特許庁
As a result, it is made possible to make the polarization of the capacitor to be zero and thus it is made possible to prevent the imprint degradation even with respect to a high temperature treatment in the succeeding packaging process by performing such a polarization erasing processing after a probe inspection.例文帳に追加
これにより、分極を0にすることが可能となり、このような分極消去処理をプローブ検査後に実施することで、後のパッケージ工程における高温処理に対してもインプリント劣化を防止することが可能となる。 - 特許庁
In the processing method of measurement data in strange condition monitoring of a crack of a construction, change over time of data of crack width of the construction is regarded as a waveform of a time of day history, are low-pass filtered, and fluctuation caused by a change of temperature is removed.例文帳に追加
構造物のひび割れの変状監視における計測データの処理方法において、構造物のひび割れ幅の経時変化データを時刻歴の波形とみなしてローパスフィルタをかけ、温度変化に起因する変動を除去する。 - 特許庁
To provide a semiconductor manufacturing apparatus provided with a wafer holder by which the cooling speed of a heater can be improved and the uniformity of temperature distribution of the heater at the time of cooling can be secured and capable of sharply shortening the processing time of a semiconductor wafer.例文帳に追加
ヒータの冷却速度の向上と共に、冷却時のヒータの温度分布の均一性を確保できるウエハ保持体を備え、半導体ウエハの処理時間を大幅に短縮することができる半導体製造装置を提供する。 - 特許庁
To provide a substrate processing apparatus and method capable of preventing the occurrence of downtime in replacing chemicals in a reservoir tank, and maintaining the temperature of a chemical to be supplied to a substrate at a constant exact time.例文帳に追加
貯留槽内の薬液の交換時におけるダウンタイムの発生が防止され、かつ基板に供給される薬液の温度を正確に一定に保つことができる基板処理装置および基板処理方法を提供することである。 - 特許庁
To provide a sound absorbing material for a vehicle excellent in sound absorbing capacity, having combustion resistance enabling sufficient use in a high temperature region, easily susceptible to molding processing, not polluting environment and easy to recycle and a method for efficiently producing this sound absorbing material.例文帳に追加
吸音性能が優れ、高温部位にも十分使用できる耐燃焼性を有し、成形加工が容易で環境を汚染することがなく、リサイクルも容易な車両用吸音材及びその効率的な製造方法を提供。 - 特許庁
When the temperature detected by all thermal detection elements constituting the infrared image sensor 9 rises substantially uniformly, the signal detecting/processing circuit 19 makes a decision that a scattering visible light entered into the sensor 9 and invalidates an acquired data.例文帳に追加
そこで、信号検出・処理回路19は、赤外線イメージセンサ9を構成する全ての熱検知素子の検知温度が略均一に上昇したときは散乱可視光が入射したと判断して取得データを無効化する。 - 特許庁
To provide a detergent processing extrusion granulating machine demonstrating the stabilized extrusion performance without being affected by a water content in a detergent raw material and the temperature thereof, and a manufacturing method for a granular detergent or detergent raw material particles using the machine.例文帳に追加
洗剤原料中の水分や温度の影響を受けず安定した押出性能を発揮する洗剤加工用押出造粒機及びそれを用いた粒状洗剤又は洗剤原料粒子の製造方法を提供する。 - 特許庁
To make a depth constant even when a workpiece temperature is unequal, in a method of laser processing, which melts a workpiece by a prescribed depth by relatively displacing a laser beam and the workpiece, while emitting the laser beam to the workpiece.例文帳に追加
レーザ光をワークに照射しながら、前記レーザ光と前記ワークとを相対的に移動させて前記ワークを所定の深さまで融解するレーザ加工方法において、ワーク温度が不均一になる場合でも、前記深さを一定にする。 - 特許庁
Lithographic imaging of a 50 nm (or less) half-pitch feature in a chemically amplified resist (usually used in the manufacture of an integrated circuit) is made possible by the use of reduced temperature post-exposure processing and a low activation energy chemically amplified resist.例文帳に追加
(集積回路の製造に通常使用される)化学増幅レジストにおける、50nm(以下)のハーフピッチ・フィーチャーのリソグラフィ・イメージングが、低温露光後処理と低活性エネルギー化学増幅レジストを用いることによって可能になる。 - 特許庁
To provide a filler for a solar cell module that uses a polyethylene-based resin, has excellent transparency and heat resistance property, and has excellent flexibility at low temperature of -50 to 0°C even after crosslink processing.例文帳に追加
ポリエチレン系樹脂を使用しながら、良好な透明性と耐熱性を有し、架橋処理をした後においても、−50〜0℃の低温で良好な柔軟性を有する太陽電池モジュール用充填材を提供することを課題とする。 - 特許庁
To provide a concentrated color developing composition which suppresses the change of oxidation-reduction potential due to storage at high temperature and effectively suppresses the change of gamma balance by development before and after storage, and also to provide a processing method using the same.例文帳に追加
高温での保存による酸化還元電位の変化を抑制し、保存前後での現像によるガンマーバランスの変化を効果的に抑制することが出来る発色現像濃縮組成物及びこれを用いた処理方法を提供する。 - 特許庁
To provide a temperature converter capable of improving a linear error, capable of preventing complicated processing and troublesome confirmation, and capable of linearizing a reference thermo-electromotive force or a reference resistance value, by optimum polynomial approximation.例文帳に追加
本発明は、直線性誤差の向上と複雑な処理、煩雑な確認を防止し、最適な多項式近似により、基準熱起電力または基準抵抗値の線形化ができる温度変換器を提供することを目的とする。 - 特許庁
To provide a method for producing an assisting food and a food additive using bone of eel as raw material suppressing offensive smell caused to bone marrow in raw bone of an eel, without using facilities for mincing, high pressure/high temperature processing.例文帳に追加
ミンチング用設備、高圧・高温処理設備を用いることなく鰻の生骨中の骨髄液による悪臭を抑制した鰻の骨を原料とする健康補助食品及び食品添加物の製造方法を提供する。 - 特許庁
A semiconductor wafer processing apparatus, more specially, a semiconductor substrate support pedestal has a substrate support, an isolator, and first and second heat transfer plates for providing a controllable, uniform temperature distribution across the diameter of a semiconductor wafer.例文帳に追加
半導体ウェーハ処理装置、より詳細には半導体基板支持台は基板支持、アイソレータ、及び第1及び第2熱伝達板を有し、半導体ウェーハの直径を横切って制御可能で一定の温度分布を供給する。 - 特許庁
To provide a photosensitive resin composition capable of developing in an alkaline aqueous solution, processing at a low temperature and giving an excellent heat-resistant resin layer, and a phenol novolak useful as a curing agent for such resin composition.例文帳に追加
アルカリ水溶液での現像及び低温での加工が可能で耐熱性の優れた樹脂層を得ることができる感光性樹脂組成物、及びそのような組成物の硬化剤として有用なフェノールノボラックを提供すること。 - 特許庁
By this invention, by controlling the temperature of the oxidation catalyst on the downstream side of the filter, oxidation processing can be suitably performed on the particulate matter flowing out of the filter while minimizing energy imparted to the oxidation catalyst.例文帳に追加
本発明により、フィルタ下流の酸化触媒の温度制御を行うことで、酸化触媒へ付与するエネルギを可及的に低減しながらフィルタから流出してくる粒子状物質を好適に酸化処理することができる。 - 特許庁
The medical appliance body is brought into contact with gas containing nitrogen at a processing temperature of 800°C or more to make the ferrite stainless steel constituting the medical appliance body absorb nitrogen and austenitize at least a part of the ferrite stainless steel.例文帳に追加
医療用具本体を、窒素を含むガスに800°Cの処理温度以上で接触させ、医療用具本体を構成するフェライト型ステンレス鋼に窒素を吸収させ、フェライト型ステンレスの少なくとも一部をオーステナイト化させる。 - 特許庁
A wafer W is heated on a hot plate 45 to a predetermined temperature, and, in such condition, a hydrofluoric acid vapor is introduced to the surface of the wafer W, and the process for removing the film which removes an oxide on the wafer surface by vapor-phase processing is performed.例文帳に追加
ホットプレート45上でウエハWを所定温度に加熱し、その状態で、ウエハWの表面にふっ酸蒸気を導き、気相エッチング処理によってウエハWの表面の酸化膜を除去する膜除去工程を行う。 - 特許庁
To provide a fixing device and an image forming apparatus by which the carrying performance of a sheet is improved while making appropriate fixing processing feasible for the sheets of the various kinds of sizes and also coping with the problem of the temperature rising of a fixing means.例文帳に追加
各種サイズのシートに対して、適切な定着処理を可能にしつつ、定着手段の昇温の問題にも対応しながら、シートの搬送性の向上を図った定着装置及び画像形成装置を提供する。 - 特許庁
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| Copyright © Japan Patent office. All Rights Reserved. |
| ※この記事は「日本法令外国語訳データベースシステム」の2010年9月現在の情報を転載しております。 |
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