「processing temperature」に関連した英語例文の一覧と使い方(50ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a substrate processing apparatus which can prolong the life of a heating apparatus while downsizing, and can improve the throughput by lowering the temperature in a furnace quickly, and to provide a method of manufacturing a semiconductor device and a heating apparatus.例文帳に追加

本発明の目的は、装置の小型化を図りつつ加熱装置の寿命を長くし、炉内温度を迅速に低下させてスループットを向上させることができる基板処理装置、半導体装置の製造方法及び加熱装置を提供することにある。 - 特許庁

To provide a rewrite recording medium processing apparatus erasing displaying information of a rewrite recording medium which can repeatedly print/erase the displaying information by reversibly changing the color in accordance with temperature in a short time with no frost sticking to the medium surface.例文帳に追加

温度に応じて可逆的に変色して表示情報の印刷・消去の繰返しが可能なリライト記録媒体の表示情報を、媒体表面に霜が付着することなく短時間で消去可能なリライト記録媒体処理装置を提供する - 特許庁

In the resist film ashing process for lower electrode processing in the MIM capacitor, the proportion of the oxygen gas for ashing at the predetermined temperature without a bias is set to the proportion of the oxygen at which the oxidation amount of a first metal film is independent of the ashing time.例文帳に追加

ＭＩＭキャパシタの下部電極加工のレジスト膜アッシング工程において、バイアス無しで所定の温度で行う際の酸素ガスの割合が、第１の金属膜の酸化量がアッシングする時間に依存しない酸素の割合以下に設定する。 - 特許庁

To provide a metal roll and rubber rolls for an embossment apparatus for a thermoplastic resin film which can stably perform embossing processing with the surface temperature of the rolls kept within a predetermined constant range by sufficient heat exchange with a heating medium.例文帳に追加

熱媒体との熱交換を十分に行なって、表面の温度が予め定めた一定の範囲に止まっており、かくして、安定して、エンボス加工することができる熱可塑性樹脂フィルムのエンボス装置用金属ロールとゴムロールを提供する。 - 特許庁

To provide a method of forming film which can eliminate a TiN film forming process by thermal CVD method conventionally used for obtaining enough thickness as a barrier layer by using low-temperature processing tungsten film formation process.例文帳に追加

低温のプロセス温度によるタングステン膜の形成工程を用いることで、バリヤ層として十分な膜厚を得るために従来行われた熱ＣＶＤによるＴｉＮ膜の形成工程を省略することが可能な成膜方法を提供する。 - 特許庁

A correction operation circuit 14 calculates a pressure quantity detection value according to the detection signal Sd while temperature is compensated for by an operation processing based on digital data from the A/D conversion circuit 9 and a correction coefficient from an EPROM 13.例文帳に追加

補正演算回路１４は、Ａ／Ｄ変換回路９からのデジタルデータ及びＥＰＲＯＭ１３からの補正係数に基づいた演算処理により、検出信号Ｓｄに応じた圧力量検出値を温度補償した状態で算出する。 - 特許庁

To provide a distance image processing system for easily generating a background image even if an installation position of a distance image sensor is changed, and always and correctly measuring a distance even if an environmental temperature is changed and a secular change occurs.例文帳に追加

距離画像センサの設置位置を変更した場合でも、容易に背景画像を生成することができるとともに、環境温度や経年変化が生じた場合でも、常に正確な距離測定を行うことのできる距離画像処理システムを提供する。 - 特許庁

The work cooling apparatus 1 is provided with a coolant device E for supplying temperature-adjusted coolant L in a coolant tank 15 with coolant nozzles 6a, 18a mounted in the processing area A by coolant pumps 16, 17 to be sprayed onto the work W on a table 4.例文帳に追加

クーラントタンク１５内の温度調節されたクーラントＬを、クーラントポンプ１６，１７によって加工領域Ａ内に設けたクーラントノズル６ａ，１８ａに供給し、テーブル４上のワークＷに向かって吹き付けるクーラント装置Ｅを備えている。 - 特許庁

The temperature rise restraining countermeasure is any or a combination of a wetting countermeasure of the ground surface by water supply, construction of water retentive pavement, pavement surface treatment by coating of a heat shielding material, water sprinkling to the ground surface and lightness difference imparting processing.例文帳に追加

また、前記温度上昇抑制対策は、給水による地表面の湿潤対策、保水性舗装の施工、遮熱材料の塗工による舗装表面処理、地表面への散水、明度差付与処理のいずれか又は組合せとする。 - 特許庁

To provide a thin blade abrasive grain tool using a resin binder and also a manufacturing method for such tools capable of securing its performance even under a severe processing conditions such that the grinding operation involves a high temperature heat generation without sacrificing the dispersion of fine superabrasive grains, etc.例文帳に追加

微粒の超砥粒等の分散性を犠牲にすることなく、研削時に高温発熱を伴うようなより過酷な加工条件下でも性能を確保することのできる、樹脂結合材薄刃砥粒工具及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

In the small capacity partial liquid exchange and large capacity partial liquid exchange, since an amount of phosphor acid solution to be exchanged is smaller than that corresponding to the full capacity of the processing tank 1, concentration control and temperature control can be completed in a short time.例文帳に追加

小容量液交換及び大容量部分液交換は、処理槽１の全容量に相当する燐酸溶液よりも交換する燐酸溶液の量が少ないので、濃度調整及び温調を短時間で完了させることができる。 - 特許庁

In an image forming apparatus 10, when cleaning processing for the transfer belt is set, whether or not a front cover or a top cover is opened is confirmed, and when any cover is opened, toner concentration is set based on ambient temperature and humidity (steps 200 to 206).例文帳に追加

画像形成装置１０では、転写ベルトのクリーニング処理が設定されていると、フロントカバー又はトップカバーが開かれたか否かを確認し、何れかのカバーが開かれると、環境温度、湿度に基づいてトナー濃度を設定する（ステップ２００〜２０６）。 - 特許庁

To provide an inexpensive retainer ring and a polishing device provided with the retainer ring suppressing the occurrence of an abnormality in a polishing amount by suppressing the temperature rise of the retainer ring even with an increase in the processing number of polishing while causing no damage to a base outer peripheral edge of a polished object.例文帳に追加

研磨対象の基板外周縁部を破損せず、研磨の処理数が増加しても、リテーナリングの温度上昇を抑制し、研磨量異常の発生を抑制する安価なリテーナリング及びそれを備えた研磨装置を提供する。 - 特許庁

To provide a pressure sensor, the simple structure of which enables its use in a narrower spot, being robust against mechanical vibration, and also minimizing its output variation under an adverse environment due to temperature, magnetism, etc., by allowing its sensing section and electrical processing section to be non-contact.例文帳に追加

構造が簡単で狭小な場所へでの使用が可能で、機械的振動にも強く、検出部と電気処理部が非接触で、温度・磁気などによる悪環境下での出力の変動も少ない圧力検出器を提供する。 - 特許庁

When a series of processes are conducted to a substrate W in the substrate processing equipment, process history data composed of items such as a carrier time, a process time, the temperature of a plate, the number of revolution of a spin motor, the flow rate of a liquid or the like, are gained previously at every substrate W.例文帳に追加

基板処理装置にて基板Ｗに一連の処理を行っているときに、搬送時間、処理時間、プレート温度、スピンモータの回転数、液の流量等の項目からなる処理履歴データを基板Ｗごとに取得しておく。 - 特許庁

After the silicon wafer and the glass lid part are bonded by anode bonding, the metal film is melted by processing at a prescribed temperature while setting atmospheric pressure inside each cavity to a desired level so as to form a sealing plug sealing each through-hole, thereby constituting the wafer-level package.例文帳に追加

シリコンウェハとガラス蓋部とが陽極接合により接合された後に、キャビティ内の気圧を所望に設定した状態で所定の温度処理により金属膜を溶融して貫通孔を塞ぐ封止栓を形成してウェハレベルパッケージを構成する。 - 特許庁

To provide a one-component epoxy resin composition excellent in airtightness, in particular, adhesiveness with engineering plastic and a metal terminal under a high temperature condition in reflow processing in a relay formed of the engineering plastic and excellent in storage stability.例文帳に追加

エンジニアリングプラスチックからなるリレーにおいて、気密性とくにリフロー処理における高温下でもエンジニアリングプラスチックおよび金属端子との密着性に優れ、かつ保存安定性に優れた一液型エポキシ樹脂組成物を提供するものである。 - 特許庁

The image processing apparatus is provided with a determination means for determining a color temperature from a white balance control state and a correction means for correcting a quantization step calculated based on a target code amount of the whole image on the basis of a determined result of the determination means.例文帳に追加

画像処理装置は、ホワイトバランス制御状態から色温度を判定する判定手段と、判定手段の判定結果に基づき画像全体の目標符号量を元に算出された量子化ステップを補正する補正手段とを備える。 - 特許庁

To provide a film forming method capable of dispensing with a process of forming a TiN film by a hot CVD method that is usually utilized for obtaining a barrier layer of enough thickness because a tungsten film forming process of low processing temperature is used.例文帳に追加

低温のプロセス温度によるタングステン膜の形成工程を用いることで、バリヤ層として十分な膜厚を得るために従来行われた熱ＣＶＤによるＴｉＮ膜の形成工程を省略することが可能な成膜方法を提供する。 - 特許庁

To provide a picture processor and a picture processing method capable of generating an excellent picture even at the time of photographing a picture with the shutter of seconds or in a high temperature in response to user needs for the use of a high speed shutter in spite of the low luminance by changing ISO sensitivity.例文帳に追加

ISO感度を変えて、低輝度でも高速のシャッターを使用したいというユーザーニーズに応え、長秒時や高温での撮影でも優れた画像を生成することができる画像処理装置及びその方法の提供を課題とする。 - 特許庁

To provide a thermochromic composition excellent in lightfastness which can develop a clear allochroic effect, and to provide thermochromic fibers which can maintain high lightfastness even when applied to fibers to be manufactured by high temperature processing.例文帳に追加

鮮明な変色効果を発現できる耐光性に優れた感温変色性組成物を提供すると共に、高温加工により製造される繊維に応用した場合であっても、高い耐光性を維持できる感温変色性繊維を提供する。 - 特許庁

Components including a gas distribution plate 22, a chamber liner 30 and a focus ring 14 that constitute a plasma processing chamber 10 are subjected to surface plasma-splaying of ceramics or high temperature polymers having surface roughness properties to improve polymer adhesion for coating 32 thereof.例文帳に追加

プラズマ処理チャンバ１０を構成する、ガス供給板２２、チャンバライナ３０、フォーカスリング１４などの部品の表面を、ポリマーの付着を促進する表面粗さ特性を持つ、セラミック又は高温ポリマー等の材料をプラズマ溶射し、被覆３２する。 - 特許庁

To provide a method for processing a polymeric positive temperature coefficient (PPTC) conductive material having uniformly dispersed conductive particles, capable of decreasing contact resistance between an electrode and the conductive material and capable of increasing a lifetime and reliability of the material.例文帳に追加

電極と伝導性物質との間の接触抵抗を減少させ、ならびに寿命および信頼性を増加させるような、均一に分配された伝導性粒子を有するポリマー性で正の温度係数の（ＰＰＴＣ）伝導性物質をプロセスすること。 - 特許庁

To achieve reduction in energy cost for substrate processing and simplification in apparatus configuration by making it possible to process a substrate even in no heating at a low temperature of 100°C or lower and to process the substrate without narrowing a range of material selection.例文帳に追加

１００℃以下の低温で無加熱でも基板を処理できるようにして、基板処理する際のエネルギーコストの低減と装置構成の単純化を実現させると共に基板の材料選択の幅を狭めることなく、基板の処理を行う。 - 特許庁

The processing part 5 calculates a surface temperature of the thin metal film 71 based on the intensity of the reflected light 85 by a thermo-reflectance method, and receives separately an input about a film thickness of the thin metal film 71 from an input part 6 to calculate the thermal diffusivity of the thin metal film.例文帳に追加

処理部５は、サーモリフレクタンス法により反射光８５の強度から金属薄膜７１の表面温度を算出し、別途、入力部６から金属薄膜７１の膜厚の入力を受け、金属薄膜の熱拡散率を算出する。 - 特許庁

The body section 5 connected to the operation section 3 by the universal cable 4 includes a system control section 15, an LED driving section 16, a CCD driving section 17, an image processing section 18, a power supply section 19, a temperature sensor conversion section 20 and a speaker 22.例文帳に追加

操作部３とユニバーサルケーブル４によって接続される本体部５は、システム制御部１５と、LED駆動部１６と、CCD駆動部１７と、画像処理部１８と、電源供給部１９と、温度センサ変換部２０と、スピーカ２２と、を含んで構成される。 - 特許庁

By irradiating the reverse surface of the substrate W with flash light, regardless of the kind of the resist film RF formed on the front surface, flash-light absorption rate of the substrate W becomes constant so that the resist film RF can be heated to a fixed processing temperature.例文帳に追加

基板Ｗの裏面にフラッシュ光を照射しているため、表面に形成されたレジスト膜ＲＦの種類にかかわらず、基板Ｗのフラッシュ光吸収率は一定となり、レジスト膜ＲＦを一定の処理温度に加熱することができる。 - 特許庁

Thus, as an element of the group III is restricted to diffuse during a heat processing between the well layer 12 and the barrier layer 11, it is possible to heat-process under a temperature ambience of 700°C to 800°C, and to obtain a high quality semiconductor laser.例文帳に追加

こうして井戸層１２と障壁層１１の間で、熱処理中にＩＩＩ族元素が拡散が抑制されるため、７００℃〜８００℃の温度雰囲気下で熱処理することが可能になり、高品質な半導体レーザを得ることができる。 - 特許庁

When different protected developers or a mixture comprising at least two protected developers is contained in different color layers, the image discrimination of each layer is controlled at a processing temperature to balance density formation or color between the different color layers.例文帳に追加

異なるカラー層に、異なる保護されたディベロッパー又は少なくとも２種の保護されたディベロッパーからなる混合物を含有することによって、処理温度で各層の画像ディスクリミネーションを操作し、異なるカラー層の濃度生成又は色をバランスさせる。 - 特許庁

To provide a packaging body arranged with an oxygen indicator which does not lose an oxygen indicator function even after sterilization processing, can be stored at room temperature under a condition open to the atmosphere, and has no need to package under a deoxidation condition.例文帳に追加

本発明は、滅菌処理後も酸素インジケーター機能を失うことなく、尚且つ大気開放状態での室温保管が可能であり、脱酸素包装をする必要がない、酸素インジケーターが配置された包装体を提供することを目的とする。 - 特許庁

In the end face processing method of the optical fiber, the end face of an optical fiber 1 made of inorganic material is pressed onto a flat member 3 which is heated up to the temperature range of the glass transition point to the melting point of the inorganic material so as to obtain a flat end face.例文帳に追加

無機材料からなる光ファイバ１の端面を、該無機材料のガラス転移点〜融点の範囲の温度に加熱した平坦部材３上に押し付けて平坦な端面を得ることを特徴とする光ファイバの端面処理方法。 - 特許庁

With the method for fixing a component temporarily, a component is adhered using the composition to fix it temporarily, and after processing the temporarily fixed component, the processed component is soaked in hot water whose temperature is 90°C or lower and the cured material of the compsition is removed.例文帳に追加

又、前記組成物を用いて部材を接着仮固定し、該仮固定された部材を加工後、該加工された部材を９０℃以下の温水に浸漬して、前記組成物の硬化体を取り外すことを特徴とする部材の仮固定方法。 - 特許庁

When the card is erroneously inserted, in spite of the device before the heating and coloring processing enable temperature, the card insertion is recognized by an optical sensor 1, the operation of the conveyer belt 4 and heating roller 3 is stopped, and the erroneous insertion of the card is prevented.例文帳に追加

また装置が加熱発色処理可能な温度になる前にも関わらず、カードを誤って挿入した場合には、光学式センサ１でカード挿入を認識し、搬送ベルト４と加熱ローラ３の動作を停止して、カードの誤挿入防止を行う。 - 特許庁

To provide a hot blast heating type heat treatment system which can improve the temperature distribution property within a heating chamber, and shorten the processing time, and prevent the breakdown of plate-shaped substance to be processed, and reduce cost, and improve clearness, without complicating the operation or the structure.例文帳に追加

運転操作や構造を複雑化することなく、加熱室内の温度分布特性を向上し、処理時間を短縮し、板状被処理物の破損を防止し、コストを低減し、クリーン度を向上できる熱風加熱式熱処理システムを提供する。 - 特許庁

To provide a protective film having a polylactic acid type base material which has no melting and deformation of the base material even at high temperature higher than 100°C, and does not generate breakage and tearing when it is wound into a rolled shape or the like in manufacturing and processing of the protective film.例文帳に追加

１００℃を超える高温においても、基材の融解や変形が無く、しかも、保護フィルムの製造時や加工時、ロール状に巻回する際等に破断や裂けが生じないポリ乳酸系基材を有する保護フィルムを提供する。 - 特許庁

To provide a protective film having a polylactic acid type base material which has no melting and deformation of the base material even at high temperature higher than 100°C, and does not generate breakage and tearing when it is wound into a rolled shape or the like in manufacturing and processing of the protective film.例文帳に追加

１００℃を超える高温においても、基材の融解や変形が無く、しかも、保護フィルムの製造時や加工時、ロール状に巻回する際等に破断や裂けが生じない、ポリ乳酸系基材を有する保護フィルムを提供する。 - 特許庁

To provide a thermoplastic resin composition capable of providing a molded product having impact resistance and rigidity hardly reduced even if the kneading and molding processing is carried out at high temperature; and to provide the molded product having the excellent impact resistance and rigidity even if the composition is formed into an alloy with an engineering plastic.例文帳に追加

高温で混練、成形加工を行っても、耐衝撃性、剛性の低下が少ない成形品を得ることができる熱可塑性樹脂組成物、およびエンジニアリングプラスチックとアロイ化しても耐衝撃性、剛性に優れた成形品を提供する。 - 特許庁

To provide a mask for artificial respiration capable of providing soft adhesion to the face of a sick person and reducing air leakage at the time of mounting the mask on the face of the sick person and executing a high temperature sterilization processing at the time of repeatedly using it further.例文帳に追加

傷病人の顔面に対してマスクを装着する際、傷病人の顔面に対するソフトな密着性と空気漏れを少なくし、更に繰返し使用する際の高温減菌処理を可能とした人工呼吸用マスクを提供する。 - 特許庁

To provide an easy low-cost method for producing a food by electric conductive processing, capable of evenly and sufficiently raising the temperature of the surface part and the central part of a food material soaked in water or a dilute solution.例文帳に追加

本発明の課題は、水又は希薄溶液に浸漬した食品材料の表層部と中央部とを均一にかつ十分に昇温することが出来る、簡便かつ低コストな通電加熱食品の製造方法を提供することである。 - 特許庁

A value obtained by adding a correction value based on temperature, humidity and a printing rate or the like to a developer concentration adjustment value is set as a controlling voltage value Vc to be input in a toner concentration sensor, and an output value of the toner concentration sensor is detected for every speed of a plurality of processing speeds.例文帳に追加

デベ調整値に温度、湿度、印字率などに基づく補正値を加えた値を、トナー濃度センサへ入力する制御用電圧値Ｖｃとして設定し、複数のプロセス速度ごとにトナー濃度センサの出力値を検出する。 - 特許庁

This method for producing a composite false-twist textured yarn comprises excessively directly feeding a filament composed of polyester to twisting area of a filament comprising polytrimethylene terephthalate at a ratio of 1.4 to 2.5 and carrying out false twisting of filaments at processing temperature of ≥130°C and ≤190°C.例文帳に追加

ポリトリメチレンテレフタレートを含んでなるフィラメントの加撚域に直接、ポリエステルからなるフィラメントを１．４〜２．５倍の比率で過供給し、１３０℃以上１９０℃以下の加工温度で仮撚加工をする、複合仮撚加工糸の製造方法。 - 特許庁

A base station device 11 is provided with an information acquisition unit 25 to acquire base station vicinity information on, for example, temperature, humidity, and altitude near the base station device 11, and reports it to respective terminal devices 12 by a base station-side radio processing unit 21.例文帳に追加

基地局装置１１に情報取得部２５を設けて、基地局装置１１の近傍の基地局近傍情報たとえば温度、湿度および高度を取得し、基地局側無線処理部２１によって各端末装置１２に報知する。 - 特許庁

To provide a processing composition for a silver halide photosensitive material which achieves reduction of stain caused by a sensitizing dye remained in a photosensitive material after treatment and does not generate a deposit or precipitate when stored at a low temperature.例文帳に追加

処理後において感光材料の残留増感色素に起因するステインの低減が達成され、かつ処理組成物の低温保存時においても析出沈殿物の生じないハロゲン化銀カラー写真感光材料用処理組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide an ash melting furnace capable of inhibiting the increase of excess fuel expense to use an auxiliary heat source, and the equipment cost caused by the enlargement of an exhaust gas processing device to cope with the increase of exhaust gas, and accurately measuring a temperature of the molten slag.例文帳に追加

補助熱源を使用するための余分な燃料費や排ガス量増加に対応するための排ガス処理装置の大型化による設備費の増大を抑制すると共に、溶融スラグの温度を正確に測定できる灰溶融炉を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor device, which includes a process for forming a silicon oxide film that can be formed at low temperature, and has superior surface flatness, recessed part burying properties, and step coverage, and also has a superior film forming speed; and to provide a substrate processing apparatus.例文帳に追加

低温での成膜が可能であり、表面平坦性、凹部埋めこみ性、ステップカバレッジに優れ、成膜速度にも優れるシリコン酸化膜の形成工程を有する半導体デバイスの製造方法および基板処理装置を提供する。 - 特許庁