「processing temperature」に関連した英語例文の一覧と使い方(54ページ目) - Weblio英語例文検索

After the FSG layer 13 is formed to cover aluminum wirings 12 on a substrate 11 in a chamber of a plasma processing apparatus, an NSG layer 14 is continuously formed in the chamber subsequent to the formation of the FSG layer 13 on the condition of higher temperature when the FSG layer 13 is formed.例文帳に追加

基板１１上のアルミニウム配線１２を覆う状態で、プラズマ処理装置のチャンバ内においてＦＳＧ層１３を形成した後、このチャンバ内においてＦＳＧ層１３の形成に連続させてＦＳＧ層１３の形成温度よりも高い温度条件でＮＳＧ層１４を形成する。 - 特許庁

The manager of a building monitors the developing conditions of a fire by comparing the time Δt with the phase development reference time T_f based on the temperature information acquired by the heat detecting function of a sensor 2 concerning a room where there is any possibility of fire generation by using a central processing unit 3.例文帳に追加

建築物の管理者は、中央処理装置３を用いて火災発生の可能性がある部屋について、感知器２の熱検知機能で得られる温度情報を基に、フェイズ進展基準時間Ｔ_ｆと比較することにより、火災の進展状況をモニタリングする。 - 特許庁

To provide a seaweed processed food preservable for a long period at normal temperature by adjusting the color of a raw material of tropical Kappaphycus Alvarezii from a thick blue green to a white, pickling with hardness of good palate feeling, the raw material in vinegar, sake lees or rice bran, and adding sea tangle or vegetables as taste component to the product followed by processing.例文帳に追加

熱帯キリンサイを濃青緑色から白色まで原料の色の調整を行い、食感のよい硬さの状態で、酢漬け、酒粕漬けあるいは糠漬けにして、呈味成分の昆布や野菜を加えて加工し、常温で長期間保存できる海藻加工食品。 - 特許庁

This resin composition comprises 59.9-90 vol.% of at least one kind selected from the group consisting of a polyurethane elastomer, a polyester elastomer and a polyamide elastomer, 0.1-5 vol.% of a processing auxiliary including polytetrafluoroethylene and 5-40 vol.% of a filler and has 0.4-2.0 W/m.°C coefficient of thermal conductivity at a room temperature.例文帳に追加

ポリウレタンエラストマー、ポリエステルエラストマー、及び、ポリアミドエラストマーからなる群より選ばれる少なくとも１種 59.9〜90体積％、 ポリテトラフロロエチレンを包含する加工助剤 0.1〜5 体積％、及び 充填剤 5〜40体積％ を含み、室温における熱伝導率が0.4〜2.0 W／m・℃である樹脂組成物。 - 特許庁

When the image forming apparatus resumes from the low power mode in which the energization to a fixing unit is stopped when a printing processing is not performed for a predetermine period of time, a CPU 401 determines, based upon a print mode of a job to be processed first, the temperature of a fixing unit at which printing is started.例文帳に追加

所定時間プリント処理が行われない場合定着ユニットの通電を遮断する低電力モードから復帰する時、ＣＰＵ４０１が、最初に処理されるジョブの印刷モードに基づいて、プリントを開始する定着ユニットの温度を決定する構成を特徴とする。 - 特許庁

To provide a photographing apparatus for controlling a fan without having no adverse effect on a photographed image to efficiently reduce a temperature in the apparatus, and to provide the photographing apparatus capable of efficiently consuming the stored power of a battery in a photographing processing operation requiring fan driving.例文帳に追加

撮影画像に悪影響を与えないようにファンを制御して効率的に装置内の温度を低減する撮影装置を提供すること、及びファン駆動を伴う撮影処理動作においてバッテリの蓄電力を効率よく消費することができる撮影装置を提供すること。 - 特許庁

To provide an image fixing device constituted so that the excessive rising of temperature at both ends on a fixing roller is restrained even in the case of consecutively processing paper whose width is smaller than heating width on the fixing roller by simple constitution.例文帳に追加

簡単な構成により、定着ローラ上の加熱幅に対して幅の小さな用紙を連続的に処理している場合でも、定着ローラ上の両端部における温度の過剰な上昇を抑制する事ができるように構成した画像定着装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a production method which is a method for producing a polyamide/polyphenylene ether resin composition by means of a twin-screw extruder and overcomes a marked rising of a resin temperature during the processing, the consequent decomposition of the resin composition and discoloration of strands, and surging during extrusion.例文帳に追加

二軸押出機を用いてポリアミド／ポリフェニレンエーテル樹脂組成物を製造する工程において、加工時の樹脂温度の大幅な上昇及びそれに起因する樹脂組成物の分解とストランドの変色、及び押出時のサージングをも解消した製造方法を提供すること。 - 特許庁

The ITO powder is manufactured by firing tin-containing indium oxide in an atmosphere of an inert gas and reducing gas and processing the same for the prescribed time in the inert gas and/or reducing gas atmosphere including moisture at temperature of ≥0 to ≤100°C prior to exposure into the atmospheric air.例文帳に追加

錫含有水酸化インジウムを不活性ガスおよび還元性ガスの雰囲気下で焼成し、大気中に暴露する前に、０℃以上１００℃以下の温度で、水分を含む、不活性ガスおよび／または還元性ガス雰囲気下で所定の時間処理してＩＴＯ粉体を製造する。 - 特許庁

To provide an effective technology for easily preventing reduction in output torque of an engine generated when raising an exhaust air temperature by throttling-adjusting an exhaust passage of the engine for performing regenerating processing of a collecting means for collecting particulates without complicating control.例文帳に追加

パティキュレートを捕集した捕集手段の再生処理を行うべくエンジンの排気径路を絞り調節し排気温度を上昇させたときに発生するエンジンの出力トルク低下を、制御を複雑化させることなく簡便に防止するのに有効な技術を提供する。 - 特許庁

The control board and the signal conditioning circuit board each comprise electrical circuit components that define an analog signal processing path and have accuracy and precision characteristics that drift in response to component aging and to changes in the temperature to which the hub unit is subjected.例文帳に追加

制御ボード及び信号調整ボードは各々、アナログ信号処理経路を定め且つ精度及び精密特性を有する電気回路構成要素を含み、該精度及び精密特性は、構成要素の経年変化並びにハブユニットが受ける温度変化に応答してドリフトする。 - 特許庁

To provide a dicing device having a multiblade that can be corrected appropriately in position even when thicknesses of blades or spacers constituting the multiblade fluctuate and a thickness change, etc., occurs in the spacers due to a change in ambient temperature during the course of processing.例文帳に追加

マルチブレードを有するダイシング装置の、マルチブレードを構成する各ブレードや各スペーサに厚さのバラツキがあっても、また、加工中の周囲の温度変化によるスペーサの厚さの変化等があっても、マルチブレード全体の位置補正を適正に行うことのできるダイシング装置を提供すること。 - 特許庁

To prevent a sapphire substrate from completely peeling off a GaN layer after laser lift-off in a laser lift-off apparatus even if a work temperature somewhat rises, in laser lift-off processing for peeling off a GaN-based compound crystal layer formed on a surface of the sapphire substrate.例文帳に追加

サファイア基板の表面に形成されたＧａＮ系化合物結晶層を剥離するためのレーザリフトオフ処理において、ワークの温度が多少上昇したとしても、レーザリフトオフ装置内で、レーザリフトオフ後のサファイア基板がＧａＮ層から、完全に剥がれてしまうことがないようにすること。 - 特許庁

To provide an infrared two-wavelength processing method capable of determining accurately a target temperature and a distance to the target from an output value from a two-wavelength infrared camera, even when the distance to the target is unknown or when a wavelength band wherein an atmospheric attenuation rate is fluctuated greatly is used.例文帳に追加

目標までの距離が不明であり、また大気減衰率が大きく変動している波長帯を用いても、２波長赤外線カメラの出力値から目標の温度と目標までの距離を正確に求めることができる赤外線２波長処理方法を提供する。 - 特許庁

As explained above, the substrate processing apparatus 1 can improve the accuracy of temperature control for the hot plate 2 without alteration of the control constant 512, by compensating variation of power resulting from difference between the actual power supply voltage 514 and the reference power supply voltage 513.例文帳に追加

このように、基板処理装置１では、実電源電圧５１４と基準電源電圧５１３との相違に起因する電力の変動を補正することにより、制御定数５１２を変更することなくホットプレート２に対する温度制御の精度を向上することができる。 - 特許庁

The fluctuating power supply voltage or ambient operating temperature is detected and defined as a reference value, and timing adjusting processing is performed when the reference value is fluctuated over a preset range or according to temporal presetting, so that the signal transmission is performed in the accurate timing.例文帳に追加

変動する電源電圧または動作周囲温度などを検出して基準値とし、基準値に対してあらかじめ設定した範囲を超える変動があった場合、または、あらかじめの時間的な設定によりタイミング調整処理を行なって、正確なタイミングで信号伝送を行なう。 - 特許庁

The correction arithmetic circuit 14 calculates a pressure quantity detection value corresponding to the detection signal Sd in the temperature compensated state by arithmetic processing based on digital data from an A/D conversion circuit 9 and the correction coefficients applied from the EPROM 13 through the weighting arithmetic 15.例文帳に追加

補正演算回路１４は、Ａ／Ｄ変換回路９からのデジタルデータ及びＥＰＲＯＭ１３から重み付け演算回路１５を介して与えられる補正係数に基づいた演算処理により、検出信号Ｓｄに応じた圧力量検出値を温度補償した状態で算出する。 - 特許庁

A TFT for composing a differential amplification circuit 15 has a single-crystal silicon layer, thus speedily processing first and second potential signals and rapidly outputting high-potential and low-potential signals as compared with a TFT having, for example, a high-temperature polysilicon layer as a channel layer.例文帳に追加

差動増幅回路１５を構成するＴＦＴは、単結晶シリコン層を有しているため、例えば高温ポリシリコン層をチャネル層として備えるＴＦＴに比べて、第１電位信号及び第２電位信号を高速で処理し、高電位信号及び低電位信号を迅速に出力できる。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a medical guide wire using a stainless steel wire as a core wire, as technologies for appropriate conditions for improving the tensile strength characteristics of the core wire by focusing on the temperature and the tension strength characteristics of the core wire subjected to a high processing wire drawing.例文帳に追加

芯線にステンレス鋼線を用いた医療用ガイドワイヤにおいて、強加工伸線を行なった芯線の温度と引張強度特性に着目して、芯線の引張強度特性を向上させる好適条件としての技術課題である製造方法等を開示するものである。 - 特許庁

To provide a new meta-type wholly aromatic polyamide fiber having high breaking strength, capable of inhibiting coloration or discoloration under high temperature and deterioration of fiber processing equipment, while retaining properties inherent to meta-type wholly aromatic polyamide fiber such as heat resistance and flame resistance.例文帳に追加

耐熱性、難燃性などのメタ型全芳香族ポリアミド繊維が本来有する性質を維持しつつ、破断強度が高く、かつ、高温下での着色または変色、および原綿加工の設備劣化を抑制することのできる新規なメタ型全芳香族ポリアミド繊維を提供する。 - 特許庁

The control part 100 controls the heating heater 16 to heat the inside of the reaction tube 2 to a predetermined temperature, and controls the MFC control part to supply ethylene into the heated reaction tube 2 from a processing gas introduction tube 17, whereby an amorphous carbon film is formed on the semiconductor wafer W.例文帳に追加

そして、制御部１００は、昇温用ヒータ１６を制御して、反応管２内を所定の温度に加熱し、ＭＦＣ制御部を制御して、加熱された反応管２内に処理ガス導入管１７からエチレンを供給することにより、半導体ウエハＷにアモルファスカーボン膜を形成する。 - 特許庁

A single-crystal Si substrate 10 subjected to plasma processing for surface activation is bonded to a quartz substrate 20 at low temperature, external impact is given to it, and a silicon film is mechanically peeled from the bulk of a single-crystal silicon, thus obtaining a semiconductor substrate (SOI substrate) with a silicon film (SOI film) 12.例文帳に追加

プラズマ処理して表面活性化させた単結晶Ｓｉ基板１０と石英基板２０を低温で貼り合わせ、これに外部衝撃を付与して単結晶シリコンのバルクからシリコン膜を機械的に剥離してシリコン膜（ＳＯＩ膜）１２を備えた半導体基板（ＳＯＩ基板）を得る。 - 特許庁

This process imparts abrasive resistance as austemper ductile iron to the oscillating pipe 6a, and the cast iron article is held at the atmosphere adjusting sub-temperature for a predetermined time prior to so-called austemper processing, thereby reducing the distortion amount due to thermal treatment as compared with the case where austemper treatment is merely performed.例文帳に追加

これにより、揺動管６ａに、オーステンパダクタイルアイアンとしての耐摩耗性を付与させると共に、所謂オーステンパ処理の前に雰囲気調整副温に所要時間保持することで、熱処理に伴う歪量を、単なるオーステンパ処理を行う場合に比して低減させる。 - 特許庁

To provide a housing for stands of information processing devices by which heat dissipation is easily performed in the device stands without changing the size of the conventional housing and the high-temperature air into which heat is exhausted is cooled by an air conditioner inside the housing so that it may not flow in the whole housing.例文帳に追加

従来の収容箱の大きさを変えることなく装置架内の熱放散が容易で、排熱された温度の高い空気は収容箱内全般に流れないよう収容箱内の空調機により冷却されるようにした情報処理装置架収容箱を提供する。 - 特許庁

To provide a conductive polyester fiber whose conductivity fluctuation in the longitudinal direction of the fiber does not depend on a change in temperature nor moisture, exhibiting excellent conductivity, hardly causing pollution, scraping and thread breakage in after processing, and excellent in higher-order processes and to provide brush products made of the fiber.例文帳に追加

繊維長手方向における導電性の変動が温湿度変化に依存せず、かつ優れた導電性を示し、さらには高次工程における汚れや削れ、断糸が少なく工程通過性に優れた導電性ポリエステル繊維と、それからなるブラシ製品を提供する。 - 特許庁

This method for processing lettuce comprises spraying hot salt water on an uncut lettuce in its entirety continuously while maintaining the temperature of the outer periphery of the lettuce at 55-60°C, and that of the core part of the lettuce at ≤45°C, and thereafter, spraying cold salt water on the thus processed lettuce to cool it.例文帳に追加

レタスを切断することなく丸ごと温塩水をスプレイして加熱処理するが、この加熱処理は、レタスの外周部の温度が５５℃〜６０℃の温度を維持し、芯部の温度が４５℃を超えない範囲で継続して行い、その後このレタスに冷塩水をスプレイして冷却処理する。 - 特許庁

To obtain a thermoplastic resin composition causing no molding-related problems including laminar flaking-off phenomena even in undergoing thin-wall molding and cut processing, excellent in rigidity, heat resistance, chemical resistance, surface appearance, especially impact resistance both at room temperature and low temperatures, and good in fluidity as well.例文帳に追加

薄物成形時や切削加工時にも層状剥離等の成形上の問題が起こらず、剛性、耐熱性、耐薬品性、表面外観、とりわけ常温、低温における耐衝撃性に優れ、さらに上記特性の他に優れた流動性をも兼備した熱可塑性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To obtain a thermoplastic resin composition causing no molding-related problems including laminar flaking-off phenomena even in undergoing thin-wall molding and cut processing, excellent in surface appearance, rigidity, heat resistance, chemical resistance, especially impact resistance both at room temperature and low temperatures, and good in fluidity as well.例文帳に追加

薄物成形時や切削加工時にも層状剥離等の成形上の問題が起こらず、表面外観、剛性、耐熱性、耐薬品性、とりわけ常温、低温における耐衝撃性に優れ、さらに上記特性の他に優れた流動性をも兼備した熱可塑性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

The electroforming mold 7 has an electroforming shell 1 having a molding surface 10 and formed by electroforming processing, the backing material 71 line one the electroforming shell 1 and the medium flow channel 2 formed in the electroforming shell 1 and allowing a heating medium to flow so as to adjust the temperature of the molding surface 10.例文帳に追加

電鋳成形型７は、成形面１０を有し電鋳加工により形成された電鋳シェル１と、電鋳シェル１に裏打ちされたバッキング材７１と、電鋳シェル１の内部に形成され成形面１０の温度調整を行うよう熱媒体を流通させる媒体流路２とを有する。 - 特許庁

The tungsten film 204 is formed on the oxide layer (Fig. 2b) by processing an oxide 202 using a silane-based gas mixture (for example, SiH6, SiCl2H2, or a combination of these gases) (Fig. 2a), and then thermally decomposing a W(CO)6 precursor at a temperature between about 250°C and 550°C.例文帳に追加

タングステンの膜２０４は、シランベースのガス混合体（例えば、ＳＩＨ_6、ＳｉＣｌ_2Ｈ_2およびそれらの組合せ）を用いて酸化物２０２を処理し（図２ａ）、続いて、Ｗ（ＣＯ）_6の先駆物質を約２５０℃から５５０℃の温度範囲で熱分解することによって酸化物層の上に形成される（図２ｂ）。 - 特許庁

This molded product of the thermoplastic resin is obtained by processing a pulverized material of a skinny material (having ≤5 wt.% moisture content and ≤100 μm particle diameter) disclosed in Japanese published patent application number H09-122216 and added in an amount of ≤70 wt.% at ≤200°C molding temperature.例文帳に追加

そこで、様々な成型方法（フィルム成形、押し出し成形、射出成形、中空成形、圧縮成型、発泡成形等）での加工が可能で、高い消臭効果と天然素材の自然の芳香をもった上記課題を解決するプラスチック成型品を製造することを目的とする。 - 特許庁

In the color shift correction processing, the present temperature is detected during image formation (S101), and the amount of the shift is acquired (S102) by referencing the various amounts of the color shifts saved according to the detected temperatures and the control conditions are corrected based on the acquired amount of the shift and the appropriate image output is obtained.例文帳に追加

色ずれ補正処理では、画像形成時に現在温度を検知し（Ｓ１０１）、検知した温度に応じた各種色ずれ量を保存しておいたテーブルデータを参照、取得し（Ｓ１０２）、得たずれ量に基づいて制御条件を補正し、適正画像出力を得る。 - 特許庁

A process control system 1 is equipped with: an ozone processing furnace 2 wherein the ozone-containing gas is supplied to the substrate 10, and irradiated with ultraviolet light; and an ozone concentration measuring part 3 for detecting the temperature of the substrate 10 based on an ozone concentration in the ozone-containing gas discharged therefrom.例文帳に追加

プロセス制御システム１は、基板１０に対してオゾン含有ガスが供されると共に紫外光が照射されるオゾン処理炉２と、これから排出されたオゾン含有ガス中のオゾン濃度に基づき基板１０の温度を検出するオゾン濃度測定部３を備える。 - 特許庁

In the linear injection needle flexible and soft at a low or ordinary temperature, the injection needle is formed from a shape memory alloy and shape memory processing is performed beforehand so as to increase the hardness of the injection needle by heating.例文帳に追加

低温又は常温において可撓性を有し柔軟な線状の注射針であって、該注射針が形状記憶合金で形成されており、加温することにより該注射針の硬度が高くなるようにあらかじめ形状記憶処理されていることを特徴とする、上記注射針。 - 特許庁

In the thermal processing apparatus, the semiconductor wafers are conveyed in the heating furnace and individual semiconductors never stay only at a specified position, so even when the temperature distribution in the heating furnace is not uniform, all the semiconductor wafer can be given the same thermal hysteresis.例文帳に追加

この熱処理装置にでは、半導体ウエハが搬入口から搬出口まで加熱炉内を搬送され、各々の半導体が特定の位置のみに留まることがないので、加熱炉内の温度分布が均一でなくとも、全ての半導体ウエハに同じ熱履歴を与えることができる。 - 特許庁

A substrate treatment device has: a treatment chamber for treating a substrate; a heater for heating the substrate; a substrate supporting table accommodating the heater and provided in the processing chamber; a shaft for supporting the substrate supporting table; a wire inserted through the shaft; a holding part for holding the wire; and a temperature sensor connected to the holding part.例文帳に追加

基板を処理する処理室と、基板を加熱するヒータと、ヒータを内包し処理室内に設けられた基板支持台と、基板支持台を支持するシャフトと、シャフト内に挿通された配線と、配線を保持する保持部と、保持部に接続された温度検出部と、を有する。 - 特許庁

Furthermore, fast and high-temperature annealing (400 to less than 850°C, in the case of the ITO film) processing is performed after the transparent electrode film 16 is formed, thereby attaining the light-emitting diode element 10e preferable in practical use in which resistivity of the transparent electrode film 16 is equal to or less than 1.0×10^-3 Ω cm.例文帳に追加

また、透明電極膜１６の成膜後に高速高温アニール（ＩＴＯ膜の場合は４００℃以上８５０℃未満）処理を行うことにより、透明電極膜１６の抵抗率が１．０×１０^-3Ω・ｃｍ以下である実用上好ましい発光ダイオード素子１０ｅが得られる。 - 特許庁

To provide an exhaust emission control device for a Diesel engine, which is equipped with a DOC and a DPF in the exhaust passage for performing a regenerative processing for DPF, maintains the inlet temperature of the DPF stably at a level required to make regeneration even for a deterioration with time or a change in environmental conditions.例文帳に追加

排気通路にＤＯＣおよびＤＰＦを備え、ＤＰＦの再生処理を行わせるようにしたディーゼルエンジンの排気浄化装置において、経時劣化時や環境条件の変化時においてもＤＰＦの入口温度が再生に必要な温度に安定的に維持することを課題とする。 - 特許庁

The meat emulsion product may be produced by a method comprising steps of comminuting and heating a meat emulsion formed from protein and fat to a temperature of at least 132°C, introducing the emulsion into a processing tube, subjecting the meat emulsion to a pressure of at least 100 psi, and discharging the meat emulsion.例文帳に追加

肉エマルジョン製品はタン白および脂肪から形成した肉エマルジョンを細砕し、少なくとも１３２℃の温度に加熱し、エマルジョンを加工管に導入し、肉エマルジョンを少なくとも１００ｐｓｉの圧に加圧し、次いで肉エマルジョンを排出する工程から成る方法により製造できる。 - 特許庁

This adhesive film includes a base material film, and a pressure sensitive adhesive layer formed on the base material film, and is used for processing a semiconductor wafer, wherein weight reduction in the pressure sensitive adhesive at a reflow temperature measured by differential thermal analysis is ≤1.5%.例文帳に追加

本発明の粘着フィルムは、基材フィルムと該基材フィルム上に設けられた粘着剤層とからなり、半導体ウエハを加工するために用いる粘着フィルムであって、示差熱分析により測定した、リフロー温度における前記粘着剤層の重量減少が１．５％以下である。 - 特許庁

To provide a cooling device for an exhaust-driven supercharger, capable of reducing fuel consumption by securing the execution frequency of automatic stop processing while suppressing an excessive temperature rise of the exhaust-driven supercharger mounted on an in-vehicle internal combustion engine, and a control device for the internal combustion engine provided with the same.例文帳に追加

車載内燃機関に搭載される排気駆動式過給機の過度な温度上昇を抑制しつつ、自動停止処理の実行頻度を確保して燃費の低減を図ることのできる排気駆動式過給機の冷却装置及びこれを具備する内燃機関の制御装置を提供する。 - 特許庁

Compressing processing of gain, gamma, color-temperature or the like is carried out to input raw image data D1 when the raw image data D1 is input into a first image generating process 42, and a first image data D2 is generated, in which the color balance optimally displayed is held, when a color fundus oculi image is displayed.例文帳に追加

第１画像生成プロセス４２に生画像データＤ１が入力されると、入力された生画像データＤ１に対してゲイン、ガンマ、色温度等圧縮処理を行い、カラー眼底画像が表示された際に、最適に表示されるカラーバランスが保持された第１画像データＤ２を生成する。 - 特許庁

To provide a professional-use quick freezing apparatus with which an extremely low temperature set to -50°C or the like unsuitable for large-sized food materials such as tuna in conventional supercool freezing processing can be applied to the food materials, so that the food materials maintain their favorable freshness with less discoloration and deterioration when thawed.例文帳に追加

従来の過冷却冷凍処理ではマグロ等の大型食材に不向きであった温度設定−５０℃などの超低温であっても適用でき、解凍時に変色や劣化の少ない良好な鮮度に維持することができる業務用の急速冷凍装置を提供する。 - 特許庁

On the conveyance line A, a precleaning unit 21, a coating unit 22, a heating unit 23, a temperature control unit 24, a rinse unit 25, a release agent reforming unit 26, and a post cleaning unit 27 which perform prescribed processing for the template T during conveyance, are arranged in this order, in the conveyance direction of the template T.例文帳に追加

搬送ラインＡには、搬送中のテンプレートＴに対して所定の処理を行う、前洗浄ユニット２１、塗布ユニット２２、加熱ユニット２３、温度調節ユニット２４、リンスユニット２５、離型剤改質ユニット２６、後洗浄ユニット２７がテンプレートＴの搬送方向に順に配置されている。 - 特許庁

To provide a resistance heating apparatus that can generate a concentrated hot blast of high temperature and high pressure, does not need to be fixed, is easy to be reduced in size, manufactured and handled, is applicable to soldering, metal processing, etc., and has higher heat exchange efficiency than before.例文帳に追加

高温・高圧で集中した熱風を発生させることができ、かつ固定性を要求されず、小型化・製造・取り扱いが容易で、ロウ付けや金属加工などにも適用可能で、さらに熱交換効率を従来以上に高めた抵抗加熱機器を提供すること。 - 特許庁