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processing temperatureの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 2994件
The tungsten film 204 is formed on the oxide layer (Fig. 2b) by processing an oxide 202 using a silane-based gas mixture (for example, SiH6, SiCl2H2, or a combination of these gases) (Fig. 2a), and then thermally decomposing a W(CO)6 precursor at a temperature between about 250°C and 550°C.例文帳に追加
タングステンの膜204は、シランベースのガス混合体(例えば、SIH_6、SiCl_2H_2およびそれらの組合せ)を用いて酸化物202を処理し(図2a)、続いて、W(CO)_6の先駆物質を約250℃から550℃の温度範囲で熱分解することによって酸化物層の上に形成される(図2b)。 - 特許庁
This molded product of the thermoplastic resin is obtained by processing a pulverized material of a skinny material (having ≤5 wt.% moisture content and ≤100 μm particle diameter) disclosed in Japanese published patent application number H09-122216 and added in an amount of ≤70 wt.% at ≤200°C molding temperature.例文帳に追加
そこで、様々な成型方法(フィルム成形、押し出し成形、射出成形、中空成形、圧縮成型、発泡成形等)での加工が可能で、高い消臭効果と天然素材の自然の芳香をもった上記課題を解決するプラスチック成型品を製造することを目的とする。 - 特許庁
In the color shift correction processing, the present temperature is detected during image formation (S101), and the amount of the shift is acquired (S102) by referencing the various amounts of the color shifts saved according to the detected temperatures and the control conditions are corrected based on the acquired amount of the shift and the appropriate image output is obtained.例文帳に追加
色ずれ補正処理では、画像形成時に現在温度を検知し(S101)、検知した温度に応じた各種色ずれ量を保存しておいたテーブルデータを参照、取得し(S102)、得たずれ量に基づいて制御条件を補正し、適正画像出力を得る。 - 特許庁
A process control system 1 is equipped with: an ozone processing furnace 2 wherein the ozone-containing gas is supplied to the substrate 10, and irradiated with ultraviolet light; and an ozone concentration measuring part 3 for detecting the temperature of the substrate 10 based on an ozone concentration in the ozone-containing gas discharged therefrom.例文帳に追加
プロセス制御システム1は、基板10に対してオゾン含有ガスが供されると共に紫外光が照射されるオゾン処理炉2と、これから排出されたオゾン含有ガス中のオゾン濃度に基づき基板10の温度を検出するオゾン濃度測定部3を備える。 - 特許庁
In the linear injection needle flexible and soft at a low or ordinary temperature, the injection needle is formed from a shape memory alloy and shape memory processing is performed beforehand so as to increase the hardness of the injection needle by heating.例文帳に追加
低温又は常温において可撓性を有し柔軟な線状の注射針であって、該注射針が形状記憶合金で形成されており、加温することにより該注射針の硬度が高くなるようにあらかじめ形状記憶処理されていることを特徴とする、上記注射針。 - 特許庁
In the thermal processing apparatus, the semiconductor wafers are conveyed in the heating furnace and individual semiconductors never stay only at a specified position, so even when the temperature distribution in the heating furnace is not uniform, all the semiconductor wafer can be given the same thermal hysteresis.例文帳に追加
この熱処理装置にでは、半導体ウエハが搬入口から搬出口まで加熱炉内を搬送され、各々の半導体が特定の位置のみに留まることがないので、加熱炉内の温度分布が均一でなくとも、全ての半導体ウエハに同じ熱履歴を与えることができる。 - 特許庁
To provide an exhaust emission control device for a Diesel engine, which is equipped with a DOC and a DPF in the exhaust passage for performing a regenerative processing for DPF, maintains the inlet temperature of the DPF stably at a level required to make regeneration even for a deterioration with time or a change in environmental conditions.例文帳に追加
排気通路にDOCおよびDPFを備え、DPFの再生処理を行わせるようにしたディーゼルエンジンの排気浄化装置において、経時劣化時や環境条件の変化時においてもDPFの入口温度が再生に必要な温度に安定的に維持することを課題とする。 - 特許庁
The meat emulsion product may be produced by a method comprising steps of comminuting and heating a meat emulsion formed from protein and fat to a temperature of at least 132°C, introducing the emulsion into a processing tube, subjecting the meat emulsion to a pressure of at least 100 psi, and discharging the meat emulsion.例文帳に追加
肉エマルジョン製品はタン白および脂肪から形成した肉エマルジョンを細砕し、少なくとも132℃の温度に加熱し、エマルジョンを加工管に導入し、肉エマルジョンを少なくとも100psiの圧に加圧し、次いで肉エマルジョンを排出する工程から成る方法により製造できる。 - 特許庁
A substrate treatment device has: a treatment chamber for treating a substrate; a heater for heating the substrate; a substrate supporting table accommodating the heater and provided in the processing chamber; a shaft for supporting the substrate supporting table; a wire inserted through the shaft; a holding part for holding the wire; and a temperature sensor connected to the holding part.例文帳に追加
基板を処理する処理室と、基板を加熱するヒータと、ヒータを内包し処理室内に設けられた基板支持台と、基板支持台を支持するシャフトと、シャフト内に挿通された配線と、配線を保持する保持部と、保持部に接続された温度検出部と、を有する。 - 特許庁
Furthermore, fast and high-temperature annealing (400 to less than 850°C, in the case of the ITO film) processing is performed after the transparent electrode film 16 is formed, thereby attaining the light-emitting diode element 10e preferable in practical use in which resistivity of the transparent electrode film 16 is equal to or less than 1.0×10^-3 Ω cm.例文帳に追加
また、透明電極膜16の成膜後に高速高温アニール(ITO膜の場合は400℃以上850℃未満)処理を行うことにより、透明電極膜16の抵抗率が1.0×10^-3Ω・cm以下である実用上好ましい発光ダイオード素子10eが得られる。 - 特許庁
To provide a cooling device for an exhaust-driven supercharger, capable of reducing fuel consumption by securing the execution frequency of automatic stop processing while suppressing an excessive temperature rise of the exhaust-driven supercharger mounted on an in-vehicle internal combustion engine, and a control device for the internal combustion engine provided with the same.例文帳に追加
車載内燃機関に搭載される排気駆動式過給機の過度な温度上昇を抑制しつつ、自動停止処理の実行頻度を確保して燃費の低減を図ることのできる排気駆動式過給機の冷却装置及びこれを具備する内燃機関の制御装置を提供する。 - 特許庁
Compressing processing of gain, gamma, color-temperature or the like is carried out to input raw image data D1 when the raw image data D1 is input into a first image generating process 42, and a first image data D2 is generated, in which the color balance optimally displayed is held, when a color fundus oculi image is displayed.例文帳に追加
第1画像生成プロセス42に生画像データD1が入力されると、入力された生画像データD1に対してゲイン、ガンマ、色温度等圧縮処理を行い、カラー眼底画像が表示された際に、最適に表示されるカラーバランスが保持された第1画像データD2を生成する。 - 特許庁
To provide a professional-use quick freezing apparatus with which an extremely low temperature set to -50°C or the like unsuitable for large-sized food materials such as tuna in conventional supercool freezing processing can be applied to the food materials, so that the food materials maintain their favorable freshness with less discoloration and deterioration when thawed.例文帳に追加
従来の過冷却冷凍処理ではマグロ等の大型食材に不向きであった温度設定−50℃などの超低温であっても適用でき、解凍時に変色や劣化の少ない良好な鮮度に維持することができる業務用の急速冷凍装置を提供する。 - 特許庁
On the conveyance line A, a precleaning unit 21, a coating unit 22, a heating unit 23, a temperature control unit 24, a rinse unit 25, a release agent reforming unit 26, and a post cleaning unit 27 which perform prescribed processing for the template T during conveyance, are arranged in this order, in the conveyance direction of the template T.例文帳に追加
搬送ラインAには、搬送中のテンプレートTに対して所定の処理を行う、前洗浄ユニット21、塗布ユニット22、加熱ユニット23、温度調節ユニット24、リンスユニット25、離型剤改質ユニット26、後洗浄ユニット27がテンプレートTの搬送方向に順に配置されている。 - 特許庁
To provide a resistance heating apparatus that can generate a concentrated hot blast of high temperature and high pressure, does not need to be fixed, is easy to be reduced in size, manufactured and handled, is applicable to soldering, metal processing, etc., and has higher heat exchange efficiency than before.例文帳に追加
高温・高圧で集中した熱風を発生させることができ、かつ固定性を要求されず、小型化・製造・取り扱いが容易で、ロウ付けや金属加工などにも適用可能で、さらに熱交換効率を従来以上に高めた抵抗加熱機器を提供すること。 - 特許庁
To provide a manufacturing method of a new and improved organic light-emitting device and the organic light-emitting device without causing changes of characteristics of barrier layers even at a high temperature at a TFT process, not only enabling to enhance processing stability by the reduction of stress to substrates but also capable of mass-producing the substrates.例文帳に追加
TFT工程時に高温でもバリア層の特性に変化がなく、基板のストレスを軽減させて工程安定性を高めることができるだけでなく、基板の量産が可能な、新規かつ改良された有機発光装置の製造方法及び有機発光装置を提供する。 - 特許庁
This adhesive film includes a base material film, and a pressure sensitive adhesive layer formed on the base material film, and is used for processing a semiconductor wafer, wherein weight reduction in the pressure sensitive adhesive at a reflow temperature measured by differential thermal analysis is ≤1.5%.例文帳に追加
本発明の粘着フィルムは、基材フィルムと該基材フィルム上に設けられた粘着剤層とからなり、半導体ウエハを加工するために用いる粘着フィルムであって、示差熱分析により測定した、リフロー温度における前記粘着剤層の重量減少が1.5%以下である。 - 特許庁
To provide a processing method for a planographic printing plate capable of always achieving high ink acceptability and high printing resistance independently of difference in sensitization temperature and time with respect to a method for developing a printing plate in which a photographically formed silver halide image is applied as lipophilicity and ink acceptability.例文帳に追加
写真的に形成されたハロゲン化銀像を親油性、インキ受容性として応用する印刷版の現像処理方法に於いて、感脂化処理の処理温度、処理時間の差異に拘わらず、常に高いインキ受容性と高い耐刷性を実現できる平版印刷版の処理方法である。 - 特許庁
The processing method for a warp knit fabric comprises the dyeing of a warp knit fabric containing a latent crimp-developing polyester fiber containing polytrimethylene terephthalate as at least one component and the relaxation of the fabric at 60-80°C for 10-30 min in the temperature rising stage of the dyeing process.例文帳に追加
少なくとも一成分がポリトリメチレンテレフタレートである潜在捲縮発現性ポリエステル系繊維を含有する経編地の染色において、染色における昇温時に60℃〜80℃の温度で10〜30分間編地をリラックスする事を特徴とする経編地の加工法により達成される。 - 特許庁
Such glass does not release any semiconductor poison such as iron, arsenic and boron, can be used for high temperature processing, and especially, is suitable for application to Cd-Te-photovoltaic power generation, application to CIS-photovoltaic power generation, or application to CIGS-photovoltaic power generation.例文帳に追加
これらガラスは、半導体毒、例えば鉄、ヒ素及びホウ素を放出することなく、高温処理に使用することができ、かつとりわけCd−Te−太陽光発電適用もしくはCIS−太陽光発電適用ないしはCIGS−太陽光発電適用に適当である。 - 特許庁
To provide an adhesive film, in which a low frequency of blocking between adhesive films occurs, particularly, a low frequency of blocking occurs even after keeping the adhesive films in a roll state, processing suitability is excellent, foaming is inhibited even if processed at high temperature after affixing to an adherent, and both sides of the adherent can easily be determined.例文帳に追加
粘着フイルム同士のブロッキングが少なく、特に粘着フイルムをロール状態で保管した後にもブロッキングが少なく、加工適性に優れ、被着体に貼り合せ後、高温で処理しても発泡しにくく、被着体の表裏が判断できやすい粘着フイルムを提供すること。 - 特許庁
To provide an ink composition for inkjet recording that is excellent in processing suitability of a cured film and does not cause contamination by a volatile component even under a high temperature, to provide an inkjet recording method using the ink composition for inkjet recording, to provide printed matter, to provide a method for producing molded printed matter and to provide molded printed matter.例文帳に追加
硬化膜の加工適性に優れ、高温下でも揮発成分による汚染が発生しないインクジェット記録用インク組成物、該インクジェット記録用インク組成物を用いたインクジェット記録方法、印刷物、成形印刷物の製造方法、及び、成形印刷物を提供すること。 - 特許庁
To provide an image-fixing device by which the excess rise of temperature at both end parts of a fixing roller is suppressed, even in the case of successively processing a small-sized transfer material for the heating width of the fixing roller with a simple constitution.例文帳に追加
簡単な構成により、定着ローラ上の加熱幅に対して小さなサイズの転写材を連続的に処理している場合でも、定着ローラ上の両端部における温度が過剰に上昇することを抑制しうるように構成した画像定着装置を提供すること。 - 特許庁
To provide a thermal color card handling device, with which a user can naturally know the case of inserting a card before it reaches proper temperature, operability is improved, heating and coloring processing is enabled just after the card is inserted and a duration can be reduced.例文帳に追加
適正温度になる前にカードを挿入した場合にはそれが利用者に自然にわかるようにするとともに、操作性を向上し、カードを挿入後すぐに加熱発色処理が可能となり待ち時間を少なくすることが可能な加熱発色カード取扱装置を提供すること。 - 特許庁
To provide a fluorine-containing copolymer which can be melt-processed at a relatively low processing temperature, has a high light transmittance and a low refractive index, and exhibits by itself good adhesive properties to various substrates without requiring a surface treatment, the use of adhesives, or the like.例文帳に追加
比較的低い加工温度で溶融加工することができ、高光透過率かつ低屈折率であり、しかも表面処理や接着剤の使用などを必要とはせず、それ自体各種基材に対して良好な接着性を有する含フッ素共重合体を提供する。 - 特許庁
Furthermore, by keeping the temperature of an n^+ type single crystal silicon substrate 1 at 5°C in processing the gate electrode 9a, the reattachment of an etching residue to the processed surface can be prevented, and by making the shape of the processed surface smooth, the yield and reliability of the trench gate MOSFET can be improved.例文帳に追加
また、ゲート電極9aの加工時のn^+型単結晶シリコン基板1の温度を5℃とすることで、エッチング残渣が加工表面へ再付着するのを防ぎ、加工表面を滑らかな形状にすることにより、トレンチゲート型MOSFETの歩留まりおよび信頼性を高めることができる。 - 特許庁
This method for producing the oil and fat food comprises using a magnetic field apparatus in which magnetic field generating coils are continuously extended around pipes in a production line and performing specific pulse magnetic field processing for a short time at a temperature at which oil and fat crystallization starts to deposit so as to efficiently promote or stabilize the crystallization of oil and fat.例文帳に追加
磁場発生コイルを製造ライン中の配管周りに連続的に延長させた磁場装置を使用し、油脂結晶が析出し始める温度で特定のパルス磁場処理を短時間行うことにより油脂の結晶化を効率的に促進または安定化させることができる。 - 特許庁
To provide a method of manufacturing a compound semiconductor which can accelerate the etch rate of even an SiC wafer which requires a high processing temperature, can process a via hole into a rectangular cross-sectional shape with a vertical side wall without extremely thinning the SiC wafer, and allows easy handling of wafers.例文帳に追加
必要とする加工温度が高いSiCウエハでもエッチング速度を早くすることができ、しかもSiCウエハを極度に薄板化せずにバイアホールの断面を側壁が垂直な矩形状に加工でき、ウエハのハンドリングが容易な化合物半導体の製造方法を得る。 - 特許庁
A heater for water temperature adjustment is provided with a stainless pipe 100 with easy processing and transportation, silicon impregnated glass cloth fiber pipe 150, which is insulating material stored in a space in the stainless pipe 100 and heating wire 160 stored in the space in the silicon impregnated glass cloth fiber pipe 150.例文帳に追加
水温調整用ヒータは、加工や輸送等が容易なステンレスパイプ100と、ステンレスパイプ100内の空間に収容される絶縁物であるシリコン含浸ガラスクロス繊維パイプ150と、シリコン含浸ガラスクロス繊維パイプ150内の空間に収容される電熱線160とを有する。 - 特許庁
At this time, information on the filter array, etc., of a sensor necessary for interpolation, setting information on color balance, an outline emphasis degree, image side, compressibility, etc., color temperature information obtained by a colorimetry means of the silver camera, information necessary for general image formation, etc., are also transmitted for processing on the image storage device side.例文帳に追加
その際、補間に必要なセンサのフィルタ配列などの情報、カラーバランス、輪郭強調度合い、画像サイズ、圧縮率などの設定情報、銀塩カメラの測色手段で得られる色温度情報、汎用画像作成に必要な情報なども画像蓄積装置側での処理のため送信する。 - 特許庁
In the method for manufacturing the heat-resistant thermoplastic resin film with a glass transition temperature of 160°C or higher, foreign matter contained in a resin raw material or formed at the time of molding processing is removed by a filter wherein the intermediate pore size of a filter medium calculated by a bubble point pressure measuring method is 1-10 μm.例文帳に追加
樹脂原料に含まれるか、成形加工時に生成される異物をバブルポイント圧測定法で求めたフィルターメディアの中間孔径が1〜10μmであるフィルターで除去するガラス転移温度が160℃以上の耐熱性熱可塑性樹脂フィルムの製造方法。 - 特許庁
The data analyzing apparatus 1 comprises an image capturing part 5 for capturing thermal images of a biological surface in the form of moving images and a data processing part 7 for detecting the transition of changes in the temperature of the biological surface from the moving image of the thermal images captured by the image capturing part 5 to analyze the sweating status of a living body.例文帳に追加
データ解析装置1に、生体表面の熱画像を動画で撮影する画像撮影部5と、画像撮影部5により撮影された熱画像の動画から生体表面の温度変化の推移を検出して生体の発汗状況を解析するデータ処理部7とを設ける。 - 特許庁
To provide an adhesive composition having high initial adhesion power to fix an adherend strongly, and easily peeling off by irradiating a light even after a high-temperature processing of 200°C or more, and to provide an adhesive tape using the adhesive composition.例文帳に追加
高い初期粘着力を有し強固に被着体を固定可能であるとともに、200℃以上の高温加工プロセスを経た後であっても、光を照射することにより容易に剥離することができる粘着剤組成物、及び、該粘着剤組成物を用いた粘着テープを提供する。 - 特許庁
To provide a heat treatment equipment which is capable of preventing ions from diffusing by heating a substrate, up to a processing temperature in a short time and making the substrate undergo a thermal treatment stably, even if a flash radiated from a flash heating means changes in light quantity.例文帳に追加
基板を短時間に処理温度まで昇温させることによりイオンの拡散を防止することができ、また、フラッシュ加熱手段から出射される閃光の光量に変化が生じた場合においても基板を安定して熱処理することが可能な熱処理装置を提供することを目的とする。 - 特許庁
To provide a non-slip sheet for a tatami backing which prevents loss of a slip resistance due to flattening of a resin film surface due to temperature increase at moisture adjustment processing of an insulation board used for a tatami core material and has good projection abrasion and slip resistances.例文帳に追加
畳芯材に用いられるインシュレーションボードの水分調整加工時の温度上昇により樹脂フィルム表面が平滑化して防滑性を喪失することのない、耐突起物擦傷性及び防滑性にすぐれた畳裏貼り用滑り止めシートを提供すること。 - 特許庁
To provide a method for heating and transferring of a material to be processed, which minimizes temperature loss during transfer after discharging from a heating furnace till charging into a processing machine such as a forging machine, causing almost no distortion during heating in the furnace and using a very simple structured equipment for practice.例文帳に追加
加熱炉から取り出して鍛造機等の加工機までの運搬における冷却がわずかであり、また加熱炉での加熱中の曲がりがほとんどなく、かつ実施するために使用する器具が極めて簡単な構造のものである被加工材の加熱及び運搬方法を提供すること。 - 特許庁
The color temperature processing circuit can include first and second logarithmic amplifiers 61, 62 for generating first and second logarithmic signals, respectively, from the first and second photodetector signals, and a subtraction circuit 51 for generating a signal indicative of the difference between the first and second logarithmic signals.例文帳に追加
色温度処理回路は、第1及び第2の光検出器信号からそれぞれ第1及び第2の対数信号を生成する第1及び第2の対数増幅器(61,62)と、第1の対数信号と第2の対数信号との差を示す信号を生成する減算回路(51)と、を含み得る。 - 特許庁
Subsequently, the controller 100 controls the heater 16 to heat the inside of the reaction tube 2 to a predetermined temperature, and then controls the MFC control unit to supply ethylene into the heated reaction tube 2 from a processing gas introduction tube 17, so that amorphous carbon films are formed on the semiconductor wafers W.例文帳に追加
そして、制御部100は、昇温用ヒータ16を制御して、反応管2内を所定の温度に加熱し、MFC制御部を制御して、加熱された反応管2内に処理ガス導入管17からエチレンを供給することにより、半導体ウエハWにアモルファスカーボン膜を形成する。 - 特許庁
This method for controlling the circulation fan of the banana maturity processing chamber comprises periodically changing the blowing directions of the circulation fan 3 in a chamber during maturation of bananas 5 and extremely reducing a flesh temperature difference between both ends in the ventilation direction of the bananas 5 in the box.例文帳に追加
バナナ5の熟成中に於いて、室内に設けた循環ファン3の吹出し方向を周期的に切換えて、箱中にあるバナナ5の通気方向に於ける略両端の果肉温度差が極めて小さく出来るバナナ熟成加工室の循環ファン制御方法と成す。 - 特許庁
To suppress generation of a product having a low molecular weight in the period from the latter half to the end of a polymerization reaction since with a conventional method of solution polymerization, adiabatic polymerization in particular, the temperature range becomes wide and the molecular weight distribution of a water soluble (co)polymer obtained becomes wide, large flocks are not easily formed when processing sludge or the like.例文帳に追加
従来の水溶液重合、とくに断熱重合法では、重合温度幅が広くなることから得られる水溶性(共)重合体の分子量分布が広く、該(共)重合体からなる高分子凝集剤では、汚泥等の処理の際に粗大フロックが形成されにくい。 - 特許庁
In an electronic part having lead terminal with an Ni film formed on the surface, when an Sn-0.75Cu plated film for the lead terminal is formed by a dip forming method, the plating processing temperature by the method is set at nearly 20-40°C higher than the melting point of the plating material.例文帳に追加
表面にNi被膜が形成されたリード端子を有する電子部品において、当該リード端子に対しSn−0.75Cuメッキ膜をディップ形成法により形成するにあたり、ディップ形成によるメッキ処理温度をメッキ材料の融点より、略20〜40℃高く設定した。 - 特許庁
To easily enable information processing closer to tactile sensation which a human being has for various uses in different fields, such as the surface conditions of paper, various uneven patterns, etc., an input device to an information apparatus, etc., concerning various tactile information, such as temperature, pressure, etc., without damaging the device.例文帳に追加
温度や圧力等の各種触覚情報について、各種の凹凸パターン、紙などの表面状態、情報機器への入力デバイスなど、異なる分野の幅広い用途に人間の持つ触覚により近い情報処理を安易にデバイスを損ねることなく可能とする。 - 特許庁
When the sensor 20b detects a person, for example, the control device 24 performs a control for unwinding curtains 12a and 12b to form the partitioning space 10b, and controls air conditioning processing of at least one of air blowing quantity, speed and temperature/humidity by a fan coil unit 14b according to the partitioning.例文帳に追加
制御装置24によって、例えばセンサ20bが人を検知した際に、カーテン12a,12bを伸ばす制御により間仕切り空間10bを形成し、この際の間仕切りに応じてファンコイルユニット14bによる送風の量、速度及び温湿度の少なくとも1つの空調処理を制御する。 - 特許庁
To provide an image forming apparatus in which a considerable high quality image output is obtained even in a compensation mode with priority on processing time required for a compensation, and interruption of image formation is suppressed as much as possible, even in a state of use when the temperature inside the apparatus is varied by the minute.例文帳に追加
補正の要処理時間を優先する補正モードにおいても相当に高品質な画像出力が得られるとともに,機内温度が刻々と変化する使用状況においても画像形成の中断を極力抑制した画像形成装置を提供すること。 - 特許庁
To provide a rubber additive composition which is well compatible with rubber materials, can more well and more quickly be dispersed, can uniformly be distributed, is stable even close to basic substances or in rubbers, when stored, and is stable even at temperature of ≤130°C on the processing treatments of the rubbers.例文帳に追加
ゴム材料と良く混合し(compatible)、より良い及びより速い分散ができ、均一に分布することができ、保存にあたって塩基性物質の近く又はゴム内でも安定であり及びゴムの加工処理にあたって130℃以下の温度でも安定であるゴム添加剤組成物の提供。 - 特許庁
This method for heat treatment comprises arranging an annealing means 100 for annealing the workpiece W, as a pretreatment step prior to main treatment such as solution treatment, rapidly heating the workpiece W by using a rapid temperature-raising furnace of a hot-blast circulation type, and removing the internal stress accumulated in the workpiece W during processing.例文帳に追加
溶体化処理などの本処理する前処理工程として、ワークWを焼き鈍し処理するアニール手段100を設け、ワークWを熱風循環式の高速昇温炉を用いて高速加熱し、加工時にワークW内に蓄積した内部応力を除去する。 - 特許庁
This device comprises a temperature rise control part 15 for processing input present speed and pressure as predetermined and outputting a first switch instruction and a switch part 16 to be controlled by the first switch instruction for controlling the ON/OFF of a power supply to a fan motor 7a.例文帳に追加
現在速度および現在圧力を入力として所定の処理を行って第1のスイッチ指令を出力する昇温制御部15と、第1のスイッチ指令により制御されてファンモータ7aへの供給電源のON/OFFを制御するスイッチ部16とを有している。 - 特許庁
To provide a processing agent kit for a silver halide color photographic sensitive material using a packaging container in which the interior of a packaging bag excellent in suitability to partial delivery even after long-term storage in a high temperature environment is divided into two or more chambers by a strippable fusion-bonded part.例文帳に追加
本発明の目的は、高温環境下で長期間保存しても、分納性に優れた包装袋の内部が剥離可能な熱融着部によって2室以上に区分された包装容器を用いたハロゲン化銀カラー写真感光材料用処理剤キットを提供することにある。 - 特許庁
In second arithmetic processing, on the basis of a temperature difference before contact between the specific part of the first member and the specific part of the second member constituting the structure, a heat quantity Q that moves between the members by the contact of the specific part of the first member and the specific part of the second member is computed.例文帳に追加
第2の演算処理では、構造体を構成する第1の部材の特定部分および第2の部材の特定部分の接触前の温度差に基づき、第1の部材の特定部分および第2の部材の特定部分の接触により部材間を移動する熱量Qを演算する。 - 特許庁
For depositing a gate oxide film 8, such as tantalum oxide film, etc., on the surface of a work W such as semiconductor wafer, etc., a raw material of tantalum pentachloride solid at room temperature is dissolved in a solvent, e.g. diethyl sulfur in a coordinate bond condition, and it is vaporized and fed into a processing chamber.例文帳に追加
半導体ウエハ等の被処理体Wの表面に、タンタル酸化膜などのゲート酸化膜8を堆積するに際して、原料として常温で固体の五塩化タンタルを溶媒、例えばジエチル硫黄に配位結合状態で溶解させて、これを気化して処理室へ供給する。 - 特許庁
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