「processing temperature」に関連した英語例文の一覧と使い方(57ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a wafer lens laminate, a method of manufacturing an imaging lens, a method of manufacturing an imaging module, and a method of manufacturing an electronic apparatus, capable of preventing moisture absorption of lens parts with a functional film applied thereon and capable of minimizing deformation of the lens parts due to moisture absorption and occurrence of cracks or wrinkles in the functional film after high temperature reflow processing.例文帳に追加

機能膜を塗布したレンズ部の吸湿を防ぎ、吸湿によるレンズ部の変形や高温リフロー処理後の機能膜のひび割れや皺の発生を最小限に抑えることのできるウェハレンズ積層体、撮像レンズの製造方法、撮像モジュールの製造方法及び電子機器の製造方法を提供する。 - 特許庁

To enhance tea making quality by again roasting leaves at a high temperature in a leaf re-roasting cylinder by utilizing the remaining heat of the combustion gas of a cylinder for carrying out oxidase deactivation and by incorporating the continuous rough rubbing device effectively utilizing the combustion gas from a leaf roasting process to enhance not only heat efficiency but also leaf roasting processing capacity.例文帳に追加

殺青処理用円筒の燃焼ガスの余熱を利用して再炒り葉用円筒において高温で再度炒り葉し、炒り葉工程からの燃焼ガスを有効利用した連続粗揉装置を組み込んで熱効率を向上させると共に炒り葉処理能力を向上させて製茶品質を向上させる。 - 特許庁

To provide an adhesive film which can achieve a low dielectric constant and a low dielectric loss in the high-frequency region, has good workability such as tackiness at normal temperature and flexibility of a film in the step of processing the film, and is used in electric and electronic applications and an epoxy resin composition which is used in preparing the adhesive film.例文帳に追加

高周波領域での低誘電率化および低誘電損失化を達成することができ、かつ、常温でのタック性、フィルムの可撓性などフィルムの加工工程における作業性が良好な電気・電子用途の接着フィルム、および、該接着フィルムの作成に用いるエポキシ樹脂組成物の提供。 - 特許庁

This invention relates to the method of manufacturing the thin film solar cell including a deformation processing process S102 that simultaneously impresses a first vertical tension in a longitudinal direction and a first horizontal tension in a width direction of the flexible substrate, while letting the temperature of the belt-shaped flexible substrate reach equal to or higher than the glass transition point of the substrate material.例文帳に追加

帯状の可撓性基板をその基板の材質のガラス転移点以上の温度に到達させながら、可撓性基板の長手方向の第１の縦張力と幅方向の第１の横張力とを同時に印加する変形処理工程Ｓ１０２を含む薄膜太陽電池の製造方法。 - 特許庁

To propose a card to be made by considering disposal of it without bringing about a deformation of a card shape or change in a material quality even when used or stocked in a high temperature, without occurrence of a curl at the time of embossing processing and further without problems of generation of hydrogen chloride or dioxin when incinerated after use.例文帳に追加

本発明は、高温中で使用もしくは保管する場合でもカード形状の変形や材質の変性が起きず、またエンボス加工時にカールの発生もなく、更には使用後焼却された際に塩化水素発生の問題やダイオキシンの問題がなく、廃棄処理をも考慮したカードの提案を目的とする。 - 特許庁

To use a method for controlling a temperature of a minute area, the so-called MEMS (micro-electromechanical system), based on an integrated circuit fine processing technology, to control the steam density quickly and accurately, and to measure the amount of a substance to be adsorbed by/desorbed from the surface of an object by detecting the steam density in the atmosphere.例文帳に追加

本発明は微小な領域を温度制御する方式、集積回路微細加工技術を用いたいわゆるＭＥＭＳ（Micro Electro Mechanical System）技術を用いて迅速に精度高く蒸気密度を制御し雰囲気の蒸気密度を検出することによって物体表面の脱吸着する物質量を測定することができる。 - 特許庁

A laser beam emitted from a laser source 101 is transformed into a linear laser beam with a cylindrical lens 104 or the like, the intensity and the focal point of the laser beam are adjusted to adjust the temperature of a region irradiated with the laser beam, thus the lump processing of coat removing, cutting and fusion connection of coated optical fiber 106 is performed.例文帳に追加

レーザ光源１０１からのレーザビームをシリンドリカルレンズ１０４等により一直線状のレーザビームとし、このレーザビームの強度と焦点を調整して、レーザビームの照射領域の温度調節を行うことにより、テープ心線１０６の被覆除去、切断、融着接続を多心一括で行う。 - 特許庁

The concentration of carbon monoxide in material air is measured, and according to the concentration, a position for extracting the crude argon out of a fractionator of a low-temperature processing type air separator is selected from crude argon extraction ports 26A, 26B, 26C for separating the crude argon from the air by the fractionator.例文帳に追加

深冷分離型空気分離装置の精留塔により空気から粗アルゴンを分離するにあたり、原料空気中の一酸化炭素濃度Ｃ_ＣＯを測定し、この一酸化炭素濃度に応じて、精留塔の外へ粗アルゴンを抽出する位置を粗アルゴン抽出口２６Ａ、２６Ｂ、２６Ｃのうちから選択する。 - 特許庁

The electrophotographic image receiving sheet with water resistance is obtained by bonding plastic films to both surfaces of a base sheet, at least one of the plastic films has a toner-receiving layer and the toner-receiving layer contains a resin of 0 to 80°C glass transition temperature, a low-resistance processing agent and organic polymer particulate.例文帳に追加

本発明は、基紙の両面にプラスチックフィルムを貼り合わせてなり、少なくとも片面のプラスチックフィルムがトナー受理層を有し、該トナー受理層がガラス転移温度が０〜８０℃の樹脂、低抵抗処理剤および有機ポリマー微粒子を含むことを特徴とする耐水性を有する電子写真用受像紙である。 - 特許庁

As for the manufacturing method, a composite is constituted which is composed of laminating a boron (B) layer so as to contact a magnesium (Mg)-lithium (Li) alloy layer, and after processing this to a wire shape or a tape shape, the magnesium boride (MgB_2) superconducting layer is formed by heat-treating this at a diffusion reaction temperature of magnesium (Mg) and boron (B).例文帳に追加

製造方法は、マグネシウム（Ｍｇ）−リチウム（Ｌｉ）合金層と接触する形でボロン（Ｂ）層を積層してなる複合体を構成し、これを線状あるいはテープ状に加工した後、マグネシウム（Ｍｇ）とボロン（Ｂ）の拡散反応温度で熱処理することによって二硼化マグネシウム（ＭｇＢ２）超伝導層を生成させる。 - 特許庁

In the optical fiber end face treatment device for performing end face treatment of an optical fiber 3 by a melting method using a laser light source or a heat source 1, a temperature distribution having a plurality of peaks in a processing cross-section of the optical fiber 3 is formed using a lens, a shielding plate or a reflection plate 2.例文帳に追加

本発明は、レーザ光源もしくは熱源１を用い、溶融により光ファイバ３の端面処理を行う光ファイバ端面処理装置において、レンズもしくは遮蔽板もしくは反射板２を用いて、光ファイバ３の処理断面に複数のピークをもつ温度分布を形成することを特徴とするものである。 - 特許庁

In a method for forming a color image, the silver halide color photographic material and the photosensitive material is subjected to high-temperature quick processing by a high-speed sheet conveyance system, an emulsion layer contains high silver chloride type silver halide particles containing silver iodide or Ir halo complex salt having a specific structure, by 0.05-1 mol % per mol of silver halide.例文帳に追加

乳剤層がハロゲン化銀１モルあたり０．０５〜１モル％の沃化銀又は特定構造のＩｒハロ錯塩を含有する高塩化銀型ハロゲン化銀粒子を含むハロゲン化銀カラー写真感光材料、及び該感光材料を高速シート搬送方式で高温迅速処理するカラー画像形成方法。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a semiconductor device in which ARL is used for processing a silicon oxide film in the upper layer of a local interconnection tungsten film and subsequently even if passing through a high temperature film forming process, a defect due to the exfoliation of a boundary face between the local interconnection tungsten film and the silicon oxide film is prevented from occur.例文帳に追加

ローカル配線タングステン膜の上層のシリコン酸化膜の加工にＡＲＬを使用し、その後に高温の成膜プロセスを経ても、ローカル配線タングステン膜とシリコン酸化膜界面の膜剥がれによる欠陥の発生を抑制できる半導体装置の製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

The boiling time of immersion liquid type materials 51b of such as beans can be drastically reduced by cooking the material with the processing of causing cytoclasis with the repeated slow freezing and thawing of the immersion liquid materials 51b after the immersion of the dry matters such as dried beans at a predetermined temperature and for a predetermined time reducing the long immersing time.例文帳に追加

乾燥豆などの浸漬を一定の適温適時間で行い長時間の浸漬時間を短縮させ、浸漬後に浸漬液素材５１ｂを緩慢凍結と融解を繰り返し行なうことによる細胞破壊を起こさせる処理をすることで、豆などの浸漬液素材５１ｂを煮る時間を大幅に短縮することを目的とする。 - 特許庁

The copper foil for laser perforation processing is characterized in that a surface layer, which comprises a metal or alloy with an electric resistivity at a room temperature of 50n Ωm, a melting point of 2855 K or lower and a boiling point of 2855 K or higher or both of them, is formed on the surface on laser irradiation side of a copper foil.例文帳に追加

銅箔のレーザ照射側の表面に、室温での電気抵抗率が50n Ωm 以上であって、融点が2855K 以下であり、且つ沸点が2855K 以上である金属または合金の何れか若しくは両方からなる表面層が形成されていることを特徴とするレーザ穴あけ加工用銅箔である。 - 特許庁

To provide a release polyester film suitable for an optical-use separator, which can suppress the generation of oligomer to the minimum while a temperature of pressure-sensitive adhesive processing or the like or a pressure of a nip roll or the like is applied during process travel time, and which can change surface hardness in response to the counterpart pressure-sensitive adhesive agent.例文帳に追加

工程走行時、粘着加工などの温度、または、ニップロールなどの圧力がかかる状態において、オリゴマーの発生を極限まで抑えることができ、かつ、相手の粘着剤に応じて表面硬度を変更することができる光学用途のセパレーターとして好適な離型ポリエステルフィルムを提供する。 - 特許庁

This method for processing a raw meat is characterized in that a raw meat in a forming pipe 2 is preheated to a protein denaturation temperature or lower than it by Joule heating based on turning on electricity to the raw meat and the protein denaturation layer is formed at the surface of the raw meat by microwave heating to provide the raw meat with shape retention.例文帳に追加

成形管２内の原料食肉類を該原料食肉類への通電に基づくジュール加熱によって蛋白変成温度以下の温度まで予備加熱した後、マイクロ波加熱によって原料食肉類の表面側に蛋白変成層を形成して保形性を付与することを特徴とする。 - 特許庁

When heat distribution determined from the first and second temperature conditions does not conform to a predetermined rule for heat distribution, the information system is configured to relocate a portion of the processing load of the first computers to the second computers, or vice versa, for adapting the heat distribution to the rule.例文帳に追加

第１および第２の温度状態から決定された熱分布が熱分布の所定のルールに適合しないとき、情報システムは、熱分布をルールに適合させるために、第１のコンピュータの処理負荷の一部分を第２のコンピュータに再配置するように、またその逆も同様に行うように構成する。 - 特許庁

A resin material including a tetrafluoroethylene resin of 80-90 wt.% and a polyamide resin of 10-20 wt.% is subjected to compression molding under cooling by using a metal mold followed by burning processing, then annealed for a specified period of time within a temperature range of, preferably, 250-320°C to form the face seal 21.例文帳に追加

四弗化エチレン樹脂８０〜９０重量％に、ポリイミド樹脂を１０〜２０重量％含んだ樹脂材料を所定の金型を用いて冷却圧縮成型後、焼成処理を行い、好ましくは２５０℃〜３２０℃の温度範囲で所定時間アニール処理を行ってフェイスシール２１を形成する。 - 特許庁

The manufacturing process of the carbon nanotube-containing structure comprises the step of applying, on at least one surface of the base material, the carbon nanotube-containing composition containing the carbon nanotube (a), the urethane compound (b), and the granular substance (c), and a step of irradiating with an active energy beam and/or leaving at an ordinary temperature or heat processing.例文帳に追加

基材の少なくとも一つの面上に、カーボンナノチューブ（ａ）と、ウレタン化合物（ｂ）と、粒状物質（ｃ）とを含有するカーボンナノチューブ含有組成物を塗工し、活性エネルギー線を照射及び／または常温で放置、もしくは加熱処理することを特徴とするカーボンナノチューブ含有構造体の製造方法。 - 特許庁

To provide a film formation apparatus and a film formation method which can prevent temperature rise caused by a housing frame, pipelines or the like heated due to a magnetic field generated by coils, reduce a leakage field leaking to the outside of the apparatus and reduce an installation area of the device, when performing film formation processing by induction heating.例文帳に追加

誘導加熱により成膜処理する際に、コイルが発生する磁界により、筐体のフレーム等又は配管等が加熱され、温度が上昇することを防止し、装置の外部に漏洩する漏れ磁界を低減し、装置の設置面積を低減することができる成膜装置及び成膜方法を提供する。 - 特許庁

An organic resist material has not heat resistance, so that the metal sacrificial layer is previously formed, resist removal is performed before spatter of the shape memory alloy film, the metal sacrificial layer is removed after spatter and heat processing of the shape memory alloy performed at high temperature, and surplus shape memory alloy film is lifted off.例文帳に追加

有機系レジスト材は耐熱性がないことから、予め金属犠牲膜を形成し、形状記憶合金膜のスパッタ前にレジスト除去を行ない、高温下で行なわれる形状記憶合金のスパッタおよび熱処理後に金属犠牲膜を除去して、余剰の形状記憶合金膜をリフトオフする。 - 特許庁

When a printing state is a processing state such as printing quality adjustment, toner feeding operation or fixing temperature adjustment in which output is temporarily stopped during sheet output operation, a control part 90 sets an interval between sheets to be carried to a value shorter than an initial set value so as to compensate the stop period.例文帳に追加

制御部９０は、印字状態が用紙出力動作中に一時的に出力が停止する処理状態である場合、例えば、印字画質調整や、トナー補給動作、定着温度調整などの状態である場合には、その停止時間を補うように、搬送する用紙間の間隔を初期設定値より短くする。 - 特許庁

To provide an improved heat-developable image forming material, to put it concretely, a material ultrahigh in contrast and extremely small in change of photographic performances and fog due to fluctuation of developing time and temperature at the time of heat development and superior in stability in heat development processing and suitable for forming printing plates.例文帳に追加

改良された熱現像画像形成材料、より具体的には、超硬調で、かつ、熱現像時の現像温度および時間の変動などによる写真性能変化やカブリが極めて少なく熱現像処理安定性に優れた印刷製版用に適した熱現像超硬調画像形成材料を提供すること - 特許庁

To provide an improved heat-developable image forming material, to put it concretely, a material ultrahigh in contrast and extremely small in change of photographic performances and fog due to fluctuation of developing time and temperature at the time of heat development and superior in stability in heat development processing and suitable for forming printing plates.例文帳に追加

改良された熱現像画像形成材料、より具体的には、超硬調で、かつ、熱現像時の現像温度および時間の変動などによる写真性能変化やカブリが極めて少なく熱現像処理安定性に優れた印刷製版用に適した熱現像超硬調画像形成材料を提供すること。 - 特許庁

In the drying processing, the substrate W is thus heated while the high-temperature nitrogen gas is supplied to the substrate back surface Wb, so even if many steam components are present at a periphery of the substrate, no drop of water sticks on the substrate surface Wf and the substrate W is securely dried.例文帳に追加

このように乾燥処理の間、基板裏面Ｗｂに高温窒素ガスを供給して基板Ｗを加熱しているため、仮に基板の周辺に多量の水蒸気成分が存在していたとしても、基板表面Ｗｆに水滴は付着することなく、基板Ｗを確実に乾燥することができる。 - 特許庁

The organic substance processing system is provided with a reactor for decomposing an organic substance making the slurry including water and an organic substance to a high temperature and a high pressure; a separator 9 for separating a decomposed substance produced in the reactor 4 to a liquid decomposition product, a gas decomposition product and a residual solid; and a generation device 10.例文帳に追加

有機物処理システムは、水と有機物を含むスラリーを高温高圧として有機物を分解する反応装置４と、反応装置４で生成した分解物を液体分解生成物と、気体分解生成物と、残固形物とに分離する分離装置９と、発電装置１０とを備えている。 - 特許庁

By processing the carrier core material or the used carrier for electrophotography by supercritical water or subcritical water on a condition that temperature is ≥300°C and pressure is 20 MPa, the wettability of the carrier core material is made ≥3.5 g (per 50 g core material), whereby the adhesiveness of the core material to the coating resin is improved.例文帳に追加

キャリア芯材又は使用済みの電子写真用キャリアを温度３００℃以上、圧力２０Ｍｐａ超臨界水または亜臨界水で処理することにより、キャリア芯材の濡れ性を３．５ｇ以上（芯材５０ｇ当たり）とすることにより、被覆樹脂に対する芯材の接着性を改善する。 - 特許庁

In this method, when the sludge containing the phosphorus is treated under high temperature with the melting furnace 21 to be converted to slag, raw sludge 23 is mixed with polyferric sulfate 24 and dehydrated with a dehydrator 22 as a pre-processing, and a dehydrated cake is dried with a sludge dryer 27, and is charged to the fusion furnace 21.例文帳に追加

リンを含む汚泥を溶融炉２１において高温処理してスラグ化するに際し、前工程として、脱水機２２において原料汚泥２３にポリ硫酸第２鉄２４を混合して脱水処理し、脱水ケーキを汚泥乾燥機２７において乾燥し、乾燥ケーキを溶融炉２１へ投入する。 - 特許庁

The nuts which have crunchy and crispy palate feeling while leaving flavor originated from nuts more than conventional nuts can be obtained by bringing raw beans to a moist condition by boiling, processing the nuts at constant pressure (1,400-2,500 hPa) and temperature (110-280°C) for 4-6 min, and soaking the nuts in sugar solution followed by frying.例文帳に追加

生豆をボイルにより湿潤状態にした後、ナッツに一定の圧力（１４００〜２５００ｈＰａ）、温度（１１０〜１２８℃）において、４〜６分間処理し、その後、糖液浸漬し、フライすることにより、従来よりもナッツ本来の風味を残しつつ、カリッとかつサクサクした食感を有するナッツ類を得ることができる。 - 特許庁

To provide a system for direct injection of predetermined thermal-infrared (IR) wavelength radiation or energy into articles for a wide range of processing purposes, which includes heating, raising or maintaining the temperature of articles, or stimulating a target item in a range of different industrial, medical, consumer, or commercial circumstances.例文帳に追加

様々な産業、医学、民生又は商用環境において、物品を加熱しその温度を上昇又は維持するか、或いは目標物を刺激することが含まれる、種々の処理目的のために特定の熱赤外線（ＩＲ）波長放射又はエネルギーを物品に直接注入するシステムを提供する。 - 特許庁

It is newly found that it is possible to improve binding properties of coating with ingredients in fried food, and improve crispy feeling of coating by using for fried food a processed starch which is produced by adding soybean powder to starch and heat processing the product at high temperature of 151-165°C in a short time.例文帳に追加

本発明者らは、デンプンに大豆粉を加え、１５１〜１６５℃の温度域で、高温短時間の加熱処理を行って加工デンプンを製造し、その加工デンプンをフライ食品に用いることにより、衣と具材の結着性を向上させ、かつ、衣のサクサク感を向上させることができることを、新規に見出した。 - 特許庁

Parameters, such as temperature, pressure, humidity, a transfer time and the like in the substrate-processing device to have effect on the formation of a resist pattern are selected as environmental conditions around a substrate, and only normal data which enable a required resist pattern to be formed are collected from the above selected parameters (step 11).例文帳に追加

レジストパターンを形成する際に影響を及ぼす基板周囲の環境条件として例えば、装置内の温度や気圧、湿度あるいは装置内の搬送時間等のパラメータを抽出し、これら抽出された複数のパラメータのうち、所望のレジストパターンを形成するときの正常データ値のみを収集する（ステップ１１）。 - 特許庁

A gas composition in an exhaust gas is measured when coal, as a raw material, is decarbonized by using a rotary kiln or a batch type carbonization furnace and when the exhaust gas is a hydrogen gas, exhaust of the hydrogen gas is maintained to adjust decarbonization processing temperature in the range of 650 to 850°C, and thus the char as the fuel coal material for sintering is produced.例文帳に追加

石炭を原料とし、これをロータリーキルンまたはバッチ式炭化炉により乾留する際に排ガス中のガス組成を測定し、排ガスが水素ガスであると、水素ガスの排出を維持して乾留処理温度を６５０〜８５０℃の範囲内に調整し、焼結用燃料炭材としてのチャーを製造する。 - 特許庁

To provide a cooling method and a system, and a continuous cooling method and a system, applicable to a batch method or a continuous method, without regularly making cold air flow in one direction, by highly maintaining the temperature and humidity of the cold air contacting with a processing object, by reducing a supply speed of dry cooling gas.例文帳に追加

乾燥冷却気体の供給速度を低下させて、被処理物と接触する冷気の温度と湿度とを高く維持し、冷気を一方向に規則的に流すことがなく、バッチ法又は連続法に適用可能な冷却方法及び装置、並びに連続式冷却方法及び装置を提供する。 - 特許庁

To provide a heat developable photosensitive material for plate making excellent in dimensional stability even at a high temperature in heat development, less liable to curl even when provided in a roll shape and suitable for multi-plate printing, a processing method for the photosensitive material, a photographic substrate constituting the photosensitive material and a method for adjusting the substrate.例文帳に追加

熱現像による高温下でも寸法安定性に優れ、ロール状形態で提供されても巻き癖カールが少ない、多版印刷に好適な印刷製版用熱現像感光材料およびその処理方法並びに感光材料を構成する写真用支持体及びその調整方法を提供する。 - 特許庁

As a result, higher the RF power representing plasma generation energy set to the device side is raised, from 700 W to 900 W or higher, when forming the plasma SiN film 22, the larger the amount of hydrogen leaving from the plasma SiN film 22 will be, at a low temperature processing during later sintering treatment, thereby making the sintering treatment sure.例文帳に追加

これによって、プラズマＳｉＮ膜２２の成膜時に装置側で設定するプラズマ発生エネルギーを示すＲＦパワーを７００Ｗから９００Ｗさらにそれ以上に上げるほど、後のシンター処理時にプラズマＳｉＮ膜２２から低温で離脱する水素量が多くなってシンター処理が確実に行われる。 - 特許庁

This constitution enables setting of a heating amount of the heating means 26 and an air supply amount of the blower 25 to obtain maximum drying efficiency according to a kind and a quantity of refuse without exceeding the upper limit value of the internal temperature of the drying processing part 21, and promotes drying efficiency, resulting in shortening of a drying time.例文帳に追加

これによって、生ごみの種類や量に応じて、乾燥処理部２１の内部温度の上限値を超えることなく最大の乾燥効率が得られる加熱手段２６の加熱量と送風機２５の送風量が設定でき、そして乾燥効率が促進されるので乾燥時間の短縮が図れる。 - 特許庁

To provide a signal processing method and apparatus, and Coriolis flow meter, capable of always measuring with a constant precision even in the presence of the temperature change of a fluid to be measured, the mixing-in of bubbles and the rapid change from gas to liquid, having a high filtering capacity, and capable of performing a phase measurement with reduced computational complexity.例文帳に追加

被測定流体の温度の変化、気泡の混入、気体から液体への急速な変化がある場合でも、常に一定の精度で計測することができ、高いフィルタリング能力をもち位相計測を少ない演算量で行うことのできる信号処理方法、信号処理装置、およびコリオリ流量計を提供する。 - 特許庁

To provide a method for production of an organyloxy group-containing organosilicone compound that does not have a disadvantage that it needs a higher temperature than that usual at the mixing step, since the reaction time is very long, or needs such a high catalyst concentration that the catalyst must be removed or deactivated in the catalyst treatment and/or processing steps.例文帳に追加

反応時間が非常に長く、そのため混合に際して通常生じる温度より高い温度が必要とされ、もしくは触媒を付加的な処理工程において除去または不活性化させなければならないほど必要とされる触媒濃度が高いという欠点を有さない製造法。 - 特許庁

The method of manufacturing a nitride-based semiconductor layer includes a step of applying nitride processing to one main surface of the sapphire substrate at a temperature of 800-1,200°C before forming the nitride-based semiconductor layer, and a step of forming the nitride semiconductor layer by an organic metal vapor phase growing method on the surface of the nitride-processed sapphire substrate.例文帳に追加

窒化物系半導体層の形成方法は、窒化物系半導体層の形成前にサファイア基板の一主面を８００℃から１２００℃の範囲の温度で窒化処理し、その窒化処理されたサファイア基板面上に有機金属気相成長法により窒化物半導体層を結晶成長させる。 - 特許庁

To provide a washing-alternative stabilizing solution which prevents wet heat cyan fading and improves image preservability, when a processed photosensitive material is stored over a long period of time in a high-humidity or high-temperature environment, and which prevents adhesion of processing solution components to a squeeze roller in a stabilizing solution tank, roller contamination and occurrence of a dent on a photosensitive material surface.例文帳に追加

処理済み感光材料の高湿度又は高温度で経時したときの湿熱シアン褪色を防止して画像保存性を改良し、安定液槽のスクイズローラーに処理液成分の付着、ローラー汚れ、感光材料面に押し後発生を防止する水洗代替安定液を提供すること。 - 特許庁

To provide an environmental recycling thermoelectric power generation system in which the volume of organic waste is reduced and organic waste is rendered harmless and recycled under environmental recycling by processing food waste and other organic waste with high temperature superheated steam and performing thermoelectric power generation by utilizing inflammable gas thus obtained.例文帳に追加

食品廃棄物その他の有機性廃棄物を高温過熱水蒸気により処理すると共にそれにより得られた可燃性ガスを利用して熱電発電を行なうことにより、環境循環下に有機性廃棄物の減容化、無害化及び再資源化を可能にした環境循環型熱電発電システムを提供する。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus which performs fixation processing, based on the pixel density of a side end of an unfixed image, even if the temperature of the end of a fixing member is not high enough to have no fixation defect at the side end, and also acceletes energy saving by shortening a time of recovery from a preheat mode "waiting time" etc.例文帳に追加

定着部材の端部の温度が十分な温度になくとも、未定着画像の側端部の画素密度に基づいて定着処理を行い、側端部に定着不良がなく、予熱モード等からの復帰時間“待ち時間”を短縮し、省エネルギー化を促進する画像形成装置を提供する。 - 特許庁

In a processing circuit 20 of a compensation data generating circuit 18, the data signal DP generated by the time numerical value converting circuit 16 is compensated to generate a compensated data signal DH on the basis of the reference data signal DK stored (recorded) previously in the memory 22 and a temperature data signal DT generated by an A/D converter 14.例文帳に追加

補正データ生成回路１８の演算回路２０は、予めメモリ２２に記憶（記録）してある基準データ信号ＤＫとＡ／Ｄコンバータ１４が生成した温度データ信号ＤＴとに基づいて、時間数値変換回路１６が生成したデータ信号ＤＰの温度補正を行って補正後データ信号ＤＨを生成する。 - 特許庁