「processing temperature」に関連した英語例文の一覧と使い方(53ページ目) - Weblio英語例文検索

For example, in the case that the fixing temperature of a fixing section 32 in the image forming section 14 is increased, since the density of the whole image formed is increased, accordingly a thin image is generated by the image processing section 11 and is given to the image forming section 14.例文帳に追加

例えば画像形成部１４の定着部３２の定着温度を上げる画像形成条件の場合、形成される画像全体として濃度が上昇するので、その分だけ薄い画像を画像処理部１１で生成して画像形成部１４に与える。 - 特許庁

A substantially anhydrous alkoxycarboxylate liquid precursor is prepared, which is spun on the first electrode after performing solvent exchange processing immediately before use, dried at 400°C, and annealed at the temperature between 600°C and 850°C to form a ferroelectric 22 for a BST capacitor.例文帳に追加

実質的に無水のアルコキシカルボキシレート液状先駆体を準備し、使用直前に溶媒交換工程を行った後に、先駆体を第1電極上にスピンオンし、４００℃で乾燥し、６００℃〜８５０℃でアニールしてＢＳＴキャパシタ強誘電体２２を形成する。 - 特許庁

To solve the problem that impurities may be eluted when being brought into contact with a liquid crystal layer, because heat resistance of a retardation control layer obtained by photopolymerization is deteriorated, due to high-temperature in the later processing or because chemical resistance or the like is insufficient.例文帳に追加

従来、光重合により得られる位相差制御層の耐熱性が後加工での高温で劣化したり、耐薬品性等が不充分であるために、液晶層と接触すると、不純物が溶出する恐れがあった点を解消することを課題とする。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus which decreases the ambient temperature of a passage sensor without an increase in size or decrease in processing speed even in the case where a passage sensor is located on an air path along which heated air due to heat exhaustion by the fixing unit blows.例文帳に追加

定着器の排熱による熱気が流れる空気経路上に通過センサが位置する場合であっても、大型化や処理速度低下を伴うことなく、通過センサの雰囲気温度を低下することが可能な画像形成装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

The contact surface of the sheet member 10 to the semiconductor substrate 1 has such surface roughness as blocking introduction of steam molecules and intrusion of particles of specified particle size and contamination, in the range of temperature and pressure for processing the semiconductor substrate 1.例文帳に追加

シート状部材１０の半導体基板１との接触面は、半導体基板１を処理する温度及び圧力の範囲において、水蒸気分子を導入できかつ所定の粒径以上のパーティクル及びコンタミネーションの侵入を阻止する面粗さを有する。 - 特許庁

A PET film of nonthermal processing whose thermal contraction coefficient is larger than that of the plate 102, etc., being its lower layer is used for the film 101, and the film 101 is contracted more than the plate 102 at a high temperature.例文帳に追加

膨らみ防止フィルム１０１には、その下層の偏光板１０２等に比べて熱収縮率が大きな非熱処理のＰＥＴフィルムが使用されており、高温下で膨らみ防止フィルム１０１の方が偏光板１０２より大きく収縮するように構成される。 - 特許庁

To provide a gas barrier film laminate having excellent gas barrier properties so that its content is visible therethrough, capable of using a metal detector, suppressing temperature and moisture dependence and having excellent processing suitability and a small environmental load at a low cost.例文帳に追加

本発明は、優れたガスバリア性を有し、内容物が透視可能で且つ金属探知器が使用でき、また温湿度依存性が抑制され、加工適性にも優れ、更に環境負荷が少なく、低コストのガスバリアフィルム積層体を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a wafer-processing apparatus for manufacturing a semiconductor element, wherein uniformity in a process such as etching process or cleaning process is improved by minimizing changes in temperature of a wafer process solution supplied on a wafer attached stably to a spin chuck.例文帳に追加

スピンチャックに安着されたウェーハ上に供給されるウェーハ処理溶液の温度変化を最小化することでエッチング工程または洗浄工程等の処理工程の均一度を向上させる半導体素子製造用ウェーハ処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a temperature control device for a planar workpiece, the device capable of easily and simultaneously controlling a plurality of planar workpieces which are to be subjected to precision processing and disposed at a predetermined interval, and easily destaticizing electrostatic charges in the workpieces.例文帳に追加

所定間隔を置いて精密加工が施される複数枚の板状の各ワークに対して同時に且つ容易に温度調整を施すことのでき、且つワークに帯電した静電気を容易に除電できる板状ワークの温度調整装置を提供する。 - 特許庁

To obtain maximum efficient throughput while occurrence of an image margin due to the temperature rise of a paper non-passing part caused when small size paper passes as processing speed gets higher is suppressed the minimum, in a heating device where carried and introduced material P to be heated is heated by a heating part N and ejected.例文帳に追加

搬送導入される被加熱材Ｐを加熱部Ｎで加熱して排出する加熱装置において、プロセススピードの高速化にともなう小サイズ通紙時の非通紙部昇温の像代を最小限に抑えつつ、最大限効率的なスループットを得ること。 - 特許庁

To realize a self-control type heat roller capable of realizing the prolongation of a service life and high speed heating, responding to processing speed at high speed in the case of systematizing with other digital equipment and having strong temperature homeostasis in an electrophotographic device such as a copying machine or a printer.例文帳に追加

複写機やプリンター等の電子写真装置において、長寿命かつ高速加熱が可能で、他のデジタル機器とシステム化した際に処理スピードに高速に応答でき、しかも強力な温度恒常性を有する自己制御型ヒートローラーを実現する。 - 特許庁

To seek and a cause easily by monitoring the amount of warp of a substrate indirectly when processing of a substrate, e.g. deposition of a film or the like, is performed under a state of uneven in-plane temperature of the substrate and incomplete characteristics of the substrate, e.g. uneven film thickness or the like, occur.例文帳に追加

基板の反り量を間接的に監視することで、基板面内温度が不均一な状態で成膜等の基板処理が行われ、膜厚均一性等の基板特性不良が発生した時の、原因追及を容易に行うことを可能にする。 - 特許庁

The electrophotographic toner is manufactured by kneading a raw material mixture including a binder resin containing polylactic acid with a molecular weight of 5,000-50,000, thermally processing the kneaded mixture at a temperature between a glass transition point or higher and a melting point or lower of the binder resin, and pulverizing the thermally-processed kneaded mixture.例文帳に追加

５，０００〜５０，０００の分子量を有するポリ乳酸を含有する結着樹脂を含む原料混合物を混練した後、結着樹脂のガラス転移点以上、融点以下の温度で熱処理し、微粉砕してなることを特徴とする電子写真用トナー。 - 特許庁

To suppress temperature distribution shift in heating by sustaining ignition over a specified period of an ignition burner and performing a transition processing for stopping suction at a specified period of an extinguishing suction burner in order to reverse ignition and extinguishing suction thereby restricting shift of heating capacity distribution at each part in a furnace.例文帳に追加

被加熱材所要熱量の変動に応じて燃焼量を調整するため、バーナ対の一部を間引き、あるいは間引いたバーナ対を燃焼する際、炉内各部位の加熱能力分布の偏りを抑え、温度分布の偏りを抑制した加熱を行う。 - 特許庁

When the ceramic substrate and the metal plate M are brought into contact with each other and pressed and joined at a high temperature to manufacture a circuit board, they are subjected to blast processing with brazing material powder B to increase the junction area of the metal plate M, and the metal plate M is joined with the ceramic substrate.例文帳に追加

セラミックス基板と金属板Ｍとを接触させ、高温下で加圧接合して回路基板を製造する際に、ろう材粉末Ｂによってブラスト処理して金属板Ｍの接合面積を増大させ、この金属板Ｍをセラミックス基板と接合する。 - 特許庁

To provide a new power generation method and power generator at reduced cost using exhaust gas which can utilize or oxidize H_2 or CO contained in the high-temperature exhaust gas generated in a converter or a coke oven, and to provide a method and device for oxidation processing of exhaust gas.例文帳に追加

転炉やコークス炉で発生する高温の排ガス中のＨ_２またはＣＯを少ないコストで活用または酸化処理できる新規な排ガスを用いた発電方法および発電装置、ならびに排ガスの酸化処理方法および酸化処理装置の提供。 - 特許庁

To provide a signal processing apparatus, capable of always measuring with a constant precision even in the presence of the temperature change of a fluid to be measured, the mixing-in of bubbles and the rapid change from gas to liquid, having a high filtering capacity, and capable of performing a phase measurement with reduced computational complexity.例文帳に追加

被測定流体の温度の変化、気泡の混入、気体から液体への急速な変化があった場合でも、常に一定の精度で計測でき、高いフィルタリング能力をもち位相計測を少ない演算量で行える信号処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a surface treatment method of a conductive base material for packaging a semiconductor which allows for good adhesion to a sealing material or the like, minimization of degradation in electrical characteristics and heat dissipation, low temperature processing, excellent productivity, and reduction of marks such as scratches or rubbing.例文帳に追加

封止材等との接着性が良好であり、電気特性及び放熱性の低下を抑制することができ、低温処理可能であって、生産性に優れ、キズやコスレなどの痕が付きにくい、半導体実装用導電基材の表面処理方法を提供する。 - 特許庁

When the detected temperature is equal to or below the reference value as the result of comparison (YES in the step S3), a warm-up operation is performed by the control part 326 (step S4), and also processing for color slurring correction is performed by a color slurring correction control part 327 or the like (step S5).例文帳に追加

その比較の結果、検出温度がその基準値以下のとき（ステップＳ３でＹＥＳ）、ウォームアップ制御部３２６によりウォームアップ動作が実行される（ステップＳ４）とともに、色ずれ補正制御部３２７等により色ずれ補正処理が実行される（ステップＳ５）。 - 特許庁

This method comprises a first process where three semiconductor substrates 1 or less are introduced into a processing chamber 3, a second process where the semiconductor substrates 1 are heated up to a prescribed temperature, and a third process where a natural oxide film formed on the surface of the semiconductor substrate 1 is completely removed in a hydrogen atmosphere.例文帳に追加

３枚以下の半導体基板１を処理室３に設置する工程と、半導体基板１を所定の温度に加熱する工程と、所定の温度の水素雰囲気中で半導体基板１の表面の自然酸化膜を除去する工程とを含む。 - 特許庁

To provide a high speed rotation chuck system for cooling a spindle by a processing liquid, preventing a temperature increase of a built-in motor and a bearing by effectively and rapidly cooling the built-in motor and the bearing through the spindle, and realizing a high speed rotation of the spindle by reducing the weight of the spindle.例文帳に追加

この高速回転チャックシステムは，スピンドルを加工液で冷却し，ビルトインモータ及び軸受をスピンドルを介して効果的に迅速に冷却してビルトインモータと軸受の温度上昇を防止し，スピンドルを軽量化してスピンドルの高速回転を実現する。 - 特許庁

To prepare an aromatic polyamide film for optical use, excellent in rigidity, heat resistance, and transparency, and processable into a thin film, while its optical characteristics is slightly affected when placed under great tension during processing or when exposed to high temperature and high humidity during prolonged storage.例文帳に追加

剛性、耐熱性及び透明性に優れ、薄膜化が可能で、かつ、加工時に大きな張力がかかる場合や高温・高湿度下に長期保存する場合にも光学特性の変化の極めて少ない、光学用芳香族ポリアミドフィルムを提供すること。 - 特許庁

To provide a signal processing apparatus, capable of always measuring with a constant precision even in the presence of the temperature change of a fluid to be measured, the mixing-in of bubbles and the rapid change from gas to liquid, having a high filtering capacity, and capable of performing a phase measurement with reduced computational complexity.例文帳に追加

被測定流体の温度の変化、気泡の混入、気体から液体への急速な変化があった場合でも、常に一定の精度で計測でき、高いフィルタリング能力をもつ、位相計測を少ない演算量で行える信号処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a semiconductor mounting polyimide film which is free of elongation, warpage, or curling during the step of processing a TAB tape or a flexible printed board and, further, is high in temperature resistance during the step of reflow soldering for semiconductor mounting.例文帳に追加

ＴＡＢテープやフレキシブルプリント基板への加工工程において、伸びが生じることがなく、そりやカールすることのない、さらには半導体実装工程においてハンダリフロー時の耐熱温度の高い半導体実装用ポリイミドフィルムを提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a polypropylene multilayered sealant film for a retort containing no air bubbles at the laminating interface with a heat-resistant film, excellent in laminate appearance, capable of easily taking out content after retort processing and capable of performing heat sealing at a relatively low temperature.例文帳に追加

耐熱性フィルムとの貼り合せ界面に気泡を含有せず、ラミネート外観が優れ、かつレトルト加工後に内容物を容易に取り出すことができる上、比較的低温度でヒートシールすることが可能なレトルト用のポリプロピレン系多層シーラントフィルムを提供する。 - 特許庁

In a process of etching the wiring of a printed board using an etchant prepared by mixing a plurality of constituents for formation, temperature control and stirring are performed for a supplemental chemical solution for supplementing the etchant consumed for the etching processing or at a standby time.例文帳に追加

複数の成分を混合したエッチング液を用いてプリント基板の配線をエッチング処理して形成する工程において、エッチング処理又は待機時に消費されたエッチング液を補充するための補充薬液に対して、温度調節および攪拌を行う。 - 特許庁

To prevent a sub-scanning shift of an amount of one plane of a polygon mirror at the time of imaging processing while a phase of a Y-IDX signal is prevented from skipping that of a reference-IDX signal even when the Y-IDX signal causes a drift variation following a temperature change.例文帳に追加

温度変化に伴いＹ−ＩＤＸ信号がドリフト変動を起こした場合であっても、Ｙ−ＩＤＸ信号の位相が基準−ＩＤＸ信号を飛び越えることなく、作像処理時、多面鏡１面分の副走査ずれを防止できるようにする。 - 特許庁

The fine processing method of a glassy carbon base material has a step for providing the glassy carbon base material and performing a heat treatment for 1-10 hours at a temperature not lower than 2,000°C and not higher than 2,500°C in an atmosphere of a halogen gas, and a step for performing a dry etching process after said step.例文帳に追加

本ガラス状カーボン基材の微細加工方法は、ガラス状カーボン基材を用意し、ハロゲンガス雰囲気、２０００℃以上２５００℃以下の温度で１〜１０時間の熱処理を行う工程と、この工程後にドライエッチング加工を行う工程を有する。 - 特許庁

To provide a heat shrinkable polyester-based film which not only has an excellent antistatic property on both surfaces of the film in an ordinary-temperature and ordinary-humidity atmosphere, but also has excellent processing suitability in a low-humidity atmosphere, such as in winter, and to provide a heat shrinkable label.例文帳に追加

フィルム両面の常温常湿雰囲気下での帯電防止性能に優れることはもとより、冬場等での低湿度下雰囲気下でも加工適性に優れた熱収縮性、ポリエステル系フィルム及び熱収縮性ラベルを提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a device and method capable of securely performing a temperature detection by determining an interference waveform from each measurement point even when the number of measurement points is large so that precise and efficient substrate processing or the like can be performed.例文帳に追加

測定ポイント数が多い場合であっても、各測定ポイントからの干渉波形を同定して確実に温度検出を行うことができ、より精度良くかつ効率良く基板処理等を行うことのできる温度測定装置及び温度測定方法を提供する。 - 特許庁

In the heat radiating plate made of silicon carbide obtained by processing silicon carbide monocrystal or silicon carbide polycrystal produced by a sublimation recrystallization method, the heat conductivity of the heat radiating plate at an ordinary temperature is 200 to 550 W/mK.例文帳に追加

昇華再結晶法により作製された炭化珪素単結晶又は炭化珪素多結晶から加工してなる放熱板であって、該放熱板の常温での熱伝導率が２００〜５５０Ｗ／ｍＫであることを特徴とする炭化珪素製放熱板である。 - 特許庁

The internal combustion engine is designed for switchable execution of stratified charge combustion and homogeneous mixture combustion, and when the catalyst temperature elevating processing is executed, stratified charge combustion is developed in the cylinders whose combustion is by the rich air-fuel ratio.例文帳に追加

成層燃焼と均一混合気燃焼とを切り換えて実行することができるように内燃機関を構成し、触媒温度上昇処理が実行されるときに、リッチ空燃比にて燃焼が行われる気筒においては成層燃焼が行われるようにする。 - 特許庁

The SOI substrate is heat-treated at a temperature of 600-1,250°C, and gettering is performed to metal impurities accidentally mixed into the interface of the SOI film and quartz substrate and into the SOI film in the process of plasma processing, or the like to the surface region of the silicon film 12.例文帳に追加

次にこのＳＯＩ基板を６００℃〜１２５０℃の温度で熱処理し、プラズマ処理等の工程においてＳＯＩ膜／石英基板界面およびＳＯＩ膜中に偶発的に混入した金属不純物をシリコン膜１２の表面領域にゲッタリングする。 - 特許庁

To conduct appropriate color correction by checking the accuracy of image processing on the occasion of correcting a difference in a color space due to an instrumental error according to each photographing device or nonuniformity in photographing conditions of an illuminating light, environmental temperature or others.例文帳に追加

本発明の課題は、各々の撮影装置による機差、又は照明光や環境温度等の撮影条件のばらつきによる色空間の違いを修正する際の画像処理の精度を確認することにより適切な色修正を行えるようにする。 - 特許庁

The coupling surface processing step includes an OH radical increasing step S100 for increasing OH radicals on the coupling surface, and a moisture reducing step S120 for reducing moisture by heating the coupling surface whereon the OH radicals are increased, at a temperature within the range of 50 to 200°C.例文帳に追加

結合面処理工程は、結合面のＯＨ基を増加させるＯＨ基増加工程Ｓ１００と、ＯＨ基が増加した結合面を５０℃〜２００℃の範囲内の温度で加熱して水分量を低減する水分量低減工程Ｓ１２０とを含む。 - 特許庁

To provide an inkjet recording apparatus capable of recording a test pattern while a recording head is held at a constant temperature without using an additional means such as a cooling mechanism and capable of precisely and appropriately performing a correcting processing of image data, and to provided an inkjet recording method.例文帳に追加

冷却機構などの付加的な手段を用いることなく、記録ヘッドを一定の温度に保ちながらテストパターンを記録でき、画像データの補正処理を高精度かつ適正に行うことが可能なインクジェット記録装置およびインクジェット記録方法を提供する。 - 特許庁

To provide an optical disk processing device which can stabilize the various kinds of automatic control for reading the information on the optical disk when reproducing the information in a high temperature environment and prevent the time delay from the start of reading information to the output of images or sounds.例文帳に追加

光ディスク処理装置において、高温環境下で情報を再生する際に、光ディスクから情報を読取るための各種自動調整を安定化できると共に、光ディスクから情報の読取を開始して出画、出音するまでの時間の遅れを防止できる。 - 特許庁

To provide an insulating oil cover which is more improved in oil resistance, thermal resistance, cold temperature resistance, impermeability to gases, flexibility, flexing characteristics, processability during processing, and workability in a fixing operation than a conventional one formed of synthetic rubber laminated cloth as components.例文帳に追加

従来の合成ゴム積層布を構成材とするものに比し、耐油性、耐熱性、耐寒性及びガス不透過性に富み、柔軟性があって屈曲特性が優れ、更に、加工時の作業を向上させると共に取り付け時の作業をも容易にしたことにある。 - 特許庁

When the temperature state in the processing vessel is determined as adjusted by the part 270, the part 280 does not make the part 275 to execute, but immediately controls to execute the etching process to the product substrate.例文帳に追加

判定部２７０により処理容器の温度状態が整えられていると判定された場合，基板処理実行部２８０は，ダミー処理実行部２７５にダミー処理を実行させることなく，直ちに製品基板に対してエッチング処理を実行するように制御する。 - 特許庁

The one-piece molding body comprises a room temperature cure type liquid silicone containing acetic acid; and a thermoplastic polyurethane elastomer film (TPU film) in which the adhesion with a different material is possible by heating compression bonding, and mirror processing is performed to a surface to which the liquid silicone is made to adhere.例文帳に追加

酢酸含有の室温硬化型液状シリコーンと、加熱圧着により異素材との接着が可能であって、前記液状シリコーンが接着せしめられる面がミラー加工されている熱可塑性ポリウレタンエラストマーフィルム（ＴＰＵフィルム）とからなる一体成形体。 - 特許庁

This heat treatment equipment is equipped with halogen lamps 22 which preheat a semiconductor wafer W, xenon flash lamps 21, which heat the semiconductor wafer W preheated by the halogen lamps 22 up to a processing temperature by irradiating the wafer W with flashes, and a control unit 50 which controls the preheating temperature by the halogen lamps 22, according to the light volume of flashes radiated from the xenon flash lamps 21.例文帳に追加

熱処理装置は、半導体ウエハーＷを予備加熱するハロゲンランプ２２と、半導体ウエハーＷに対して閃光を照射することによりハロゲンランプ２２で予備加熱された半導体ウエハーＷを処理温度まで昇温させるキセノンフラッシュランプ２１と、キセノンフラッシュランプ２１から出射される閃光の光量に応じて対応するハロゲンランプ２２による予備加熱温度を制御する制御部５０とを備える。 - 特許庁

The substrate with the first resist film formed thereon is heated at a temperature equal to or higher than a glass transition point of a resin contained in the first resist film in post-application heat treatment to be executed after the first resist film forming processing or post-exposure heat treatment to be executed after exposure treatment for the first resist film.例文帳に追加

ただし、第１レジスト膜形成処理後に行われる塗布後加熱処理、もしくは、第１レジスト膜に対する露光処理後に行われる露光後熱処理において、第１レジスト膜が形成された基板を第１レジスト材料に含まれる樹脂のガラス転移点以上の温度で加熱する。 - 特許庁

Subsequently, the transistor interface characteristic is improved by omitting oxygen which has been left in the HfAlOx film 10 in the first PDA by conducting the second PDA under the condition that the temperature is 600°C, nitrogen atmosphere includes partial pressure of oxygen of 1%, and the processing time is 15 minutes.例文帳に追加

続いて、温度が６００℃、酸素分圧が１％の窒素雰囲気、処理時間が１５分の条件で２回目のＰＤＡを行うことにより、１回目のＰＤＡにより生じたＨｆＡｌＯｘ膜１０の酸素抜けを回復させて、トランジスタ界面特性を改善する。 - 特許庁

To obtain acrylic false-twisted blend yarns free from non-cohesion of yarns in post-processing such as dyeing, knitting or the like excellent in converging property having appropriate crispness, dry feeling, firm texture, low temperature finish setting property characteristic in acrylic fiber and an elegant gloss.例文帳に追加

染色、編成等の後工程での糸条のばらけのない集束性の良好な、かつ適度なシャリ感、ドライ感、張り腰と、アクリル繊維の特徴である低温での仕上セット性、優雅な光沢感を併せ持つアクリル仮撚複合糸を提供し、またかかるアクリル仮撚複合糸を仮撚加工により得る。 - 特許庁

A/D conversion circuit 50 (51) for conversing an analog signal of the hall element output via the amplification circuit into a digital signal, and digital processing circuits 54 (55) for digitally conducting temperature compensation of the hall element and zero span adjustment, are provided in the other control unit than the sensor chip 6.例文帳に追加

センサチップ６と別体のコントロールユニットに、前記増幅回路を介して出力されるホール素子のアナログ出力をデジタル信号に変換するＡ／Ｄ変換回路５０（５１）と、ホール素子の温度補償及び零スパン調整をデジタル的に行うデジタル処理回路５４（５５）とを設けた。 - 特許庁