「reactive layer」に関連した英語例文の一覧と使い方(10ページ目) - Weblio英語例文検索

The gate insulation layer 3 contains a material in which a first monomer (α-methylstyrene or the like) of at least one of styrene and styrene derivatives and a second monomer (glycidyl methacrylate or the like) having a carbon-carbon double bond and a cross-linking reactive group are copolymerized and cross-linked.例文帳に追加

このゲート絶縁層３は、スチレンおよびその誘導体のうちの少なくとも一方である第１単量体（α−メチルスチレンなど）と、炭素間二重結合および架橋性反応基を有する第２単量体（メタクリル酸グリシジルなど）とが共重合および架橋された材料を含んでいる。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a group III nitride semiconductor light emitting device having superior light emission characteristics, the method being capable of forming a buffer layer on a substrate using a reactive sputter method and growing a group III nitride semiconductor superior in crystallinity thereon.例文帳に追加

基板上に、反応性スパッタ法を用いてバッファ層を形成し、その上に結晶性の良好なＩＩＩ族窒化物半導体を成長させることができ、優れた発光特性を有するＩＩＩ族窒化物半導体発光素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a technique capable of reducing the increased reactive resistance (interface resistance), while preventing corrosion of an electrode collector in forming an electrode active material layer using an aqueous paste, and to provide a manufacturing method of an electrode excellent in the electrical performance by using such a technique.例文帳に追加

水性ペーストを用いて電極活物質層を形成する際に、反応抵抗（界面抵抗）の増加を抑制しつつ電極集電体の腐食を防止し得る技術を提供することであり、かかる技術を適用して電気的性能に優れる電極の製造方法を提供する。 - 特許庁

To prevent such a situation as a product of reactive gas permeates the continuous hole of a low dielectric constant film when a barrier film of high melting point metal is formed, by atomic layer deposition, on the wall surface and the bottom face of a recess formed in the low dielectric constant film exhibiting gas permeability.例文帳に追加

ガス透過性を有する低誘電率膜に形成された凹部の壁面及び底面に原子層堆積法により高融点金属からなるバリア膜を形成する際に、反応性ガスよりなる生成物が低誘電率膜の連続孔に浸潤する事態を防止する。 - 特許庁

By forming the furnace tube 5 of quartz and etching the surface layer portion of the furnace tube with a hydrogen fluoride (HF) solution or carrying out gas phase etching with a highly reactive gas to quartz, the average weight concentration is set to be 2 ppm or less, then dehydration and sintering are carried out.例文帳に追加

また、炉心管５を石英で形成し、炉心管表層部をフッ化水素（ＨＦ）溶液によりエッチング、または、石英と反応性の高いガスにより気相エッチングすることにより、平均重量濃度を２ｐｐｍ以下にして脱水、焼結を行なう。 - 特許庁

The catalyst structure 1 includes: a base material 3 having a plurality of recesses 2 which radiate wavelength of a particular region which is absorbed by reactive molecules by heating; and a catalyst layer 4 which is provided on the recesses 2 of the base material 3 in the state of holding a space part 2a of the recesses 2.例文帳に追加

加熱により反応分子が吸収する特定領域の波長を放射する凹部２を複数有する基材３と、該基材３の凹部２上に、凹部２の空間部２ａを維持した状態で設けられた触媒層４とを備えた触媒構造体１である。 - 特許庁

A solution liquid in which a fluorine-containing polymer (A) substantially having no reactive functional group (x) is solved in a solvent is applied on the pattern of a mold 4 having the reverse pattern of the fine pattern, and the solvent is removed at a temperatures below 80°C to form a fluorine-containing polymer layer 1 on the surface of the mold 4.例文帳に追加

微細パターンの反転パターンを有するモールド４の該パターン上に、反応性官能基（ｘ）を実質的に有さない含フッ素重合体（Ａ）を溶媒に溶解させた溶液を塗布し、８０℃未満で溶媒を除去して、モールド４の表面に含フッ素重合体層１を形成する。 - 特許庁

The substrate for growing a GaN-based crystal is obtained by depositing a mask layer 2 comprising a compound material (especially, a nitride of silicon) on which the GaN-based crystal does not grow substantially by reactive sputtering and then fabricating a necessary pattern.例文帳に追加

ＧａＮ系結晶が成長可能な結晶基板１の該基板面に、ＧａＮ系結晶が実質的に成長し得ない化合物材料（特に、シリコン窒化物）からなるマスク層２を反応性スパッタリングによって成膜し、必要なパターンとしてＧａＮ系結晶成長用基板を得る。 - 特許庁

Plural layers 5a-5c for constituting the GMR element 5 are formed on the shield gap layer 4a, a part of the thickness direction of the plural layers 5a-5c is etched by reactive ion etching, the remaining part is etched by ion milling and the GMR element 5 is formed.例文帳に追加

ＧＭＲ素子５を構成する複数の層５ａ〜５ｃはシールドギャップ膜４ａの上に形成され、反応性イオンエッチングによって複数の層５ａ〜５ｃの厚み方向の一部がエッチングされ、イオンミリングによって残りの部分がエッチングされて、ＧＭＲ素子５が形成される。 - 特許庁

The reactive gas is vertically supplied to a film surface on the lower side of the tape-like wire 6 in a similar fashion to react the film body of the tape-like wire with the superconductive layer; and the reacted gas is exhausted from gas exhaust holes of exhaust tubes 4c and 4d for the reacted gas at the same time.例文帳に追加

同様に、テープ状線材６の下部側の膜面に対して垂直方向から反応性ガスを供給し、テープ状線材の膜体を超電導層に反応させるとともに、同時に反応後のガスの排出管４c、４dのガス排出孔から反応後のガスを排出する。 - 特許庁

To provide such a gate insulation film for semiconductor device that has a high dielectric constant and less deterioration and can be made smaller in film thickness, and in which an reactive (diffusion) layer is difficult to be formed between the Si base on a substrate and itself and a stable characteristic with less leak current is given.例文帳に追加

誘電率が高くかつ劣化が少なく、より薄膜化することが可能であり、基板上のＳｉ下地との間に反応（拡散）層が形成され難い等、リーク電流が少ない安定した特性を有する半導体装置用ゲート絶縁膜を得ることを課題とする。 - 特許庁

A semiconductor element is constituted in a structure that a high-concentration B-doped semiconductor diamond layer is formed on an insulative high-pressure synthetic diamond single crystal substrate 1, and semiconductor layers 2a and 2b used as source and drain regions are formed on the substrate 1 by a reactive ion etching.例文帳に追加

絶縁性の高圧合成ダイヤモンド単結晶基板１上に、高濃度Ｂドープ半導体ダイヤモンド層を形成し、反応性イオンエッチングにより、ソース及びドレイン領域となる半導体ダイヤモンド層２ａ及び２ｂを形成する。 - 特許庁

By forming a resin layer 30 on the inner surface of the groove 20 of the separator 10, the inner surface of the groove 20 becomes smooth, water can be smoothly discharged, turbulence of flows of the fuel and the reactive gas is prevented, and the output of the fuel cell can be stabilized.例文帳に追加

セパレータ１０の溝２０内面に樹脂層３０を形成することで、溝２０内面が平滑になり、水の排出がスムーズに行われ、燃料・反応ガスの流れが乱れることを防止し、燃料電池の出力を安定化させることができる。 - 特許庁

A high water absorbable nonwoven fabric is formed by adhering a (meth)acrylate resin containing a heat-reactive crosslinker to the surface of a fiber material for constituting the nonwoven fabric, and then heating to be heat-crosslinked to form a high water absorbable resin layer on the surface of the fiber.例文帳に追加

熱反応性架橋剤を含有する(メタ)アクリル酸塩系樹脂を不織布を構成する繊維材料の表面に付着させたのち、加熱して熱架橋させることにより繊維表面に高吸水性樹脂層が形成された高吸水性不織布。 - 特許庁

To obtain an electrophotographic photoreceptor excellent in strength characteristics and electrical characteristics by sufficiently carrying out the crosslinking reaction of a siloxane resin while suppressing the decomposition of an electric charge transferring compound having a reactive group when a coating solution for a resin layer is dried.例文帳に追加

樹脂層塗布液の乾燥を行うに当たり、反応性基を有する電荷輸送性化合物の分解を抑制しながらシロキサン系樹脂の架橋反応を十分に行って強度特性及び電気的特性に優れる電子写真感光体を提供すること。 - 特許庁

The method for manufacturing a thin film solar cell includes a step of forming a photoelectric conversion layer 230 on a substrate 200 using a plasma CVD method by introducing a reactive gas into a reaction chamber 100 and applying a high frequency to an RF electrode 120 to generate plasma.例文帳に追加

この薄膜太陽電池の製造方法は、反応室１００内に反応ガスを導入し、かつ高周波電極１２０に高周波を印加してプラズマを生成することにより、プラズマＣＶＤ法を用いて基板２００に光電変換層２３０を形成する工程を備える。 - 特許庁

To provide an arc type evaporation source stably maintaining arc discharge without depending on whether reactive gas or the like are introduced or not, capable of obtaining a layer with a uniform film thickness over a wide range, and provided with a cathode feeding mechanism corresponding to the consumption of a cathode.例文帳に追加

反応性ガス等の導入の有無に係わらず、アーク放電を安定して維持させ、広い領域で均一な膜厚の層を得ることを可能とし、カソード消費量に応じたカソード送り出し機構を備えるアーク式蒸発源を提供する。 - 特許庁

Substantially simultaneously with the first photo alignment, the photo reactive polymer layer is subjected to second photo alignment by radiating second light to a second exposure area of another unit pixel area, the second light being polarized at a second inclination angle with respect to the substrate in a second direction.例文帳に追加

第１光配向させることと実質的に同時に他の単位画素領域の第２露光領域に基板と第２方向に第２傾斜角をなして偏光された第２光を照射して光反応性高分子膜を第２光配向させる。 - 特許庁

The welded joint is employed by welding an Al plate 1 to a steel plate 2 by electrical resistance welding, while interposing a reactive layer 5 containing V at the ratio of 0.1-5 mass%, Fe and Al between the Al plate 1 and the steel plate 2.例文帳に追加

Ａｌ板１と鋼板２とが電気抵抗溶接によって溶接された溶接継手であって、Ａｌ板１と鋼板２との間に、Ｖを０．１〜５質量％の割合で含有し、更にＦｅとＡｌを含む反応層５が形成されてなる溶接継手を採用する。 - 特許庁

An insert speed is raised to 300-600 [mm/min] or the heating temperature at inserting is lowered to 400-600 [°C] so that no poor thermally oxidized film is grown on the surface of the amorphous silicon layer 14 when a semiconductor substrate 10 is inserted into a reactive chamber of the thermal CVD system.例文帳に追加

熱ＣＶＤ装置の反応室内に半導体基板１０を挿入する際にアモルファスシリコン層１４の表面に粗悪な熱酸化膜が成長しないように挿入速度を３００〜６００［ｍｍ／ｍｉｎ］と速くしたり、挿入の際の加熱温度を４００〜６００［℃］と低くしたりする。 - 特許庁

A reactive group is made to project by a plasma irradiation to at least one of areas 17a and 18a to be repaired of a shell 17 constituting the external surface of the flexible tube 1 and a top coating layer 18 which overlies the surface of the shell 17, so that plasma treated sections 20 and 23 of which the surfaces are roughened are formed.例文帳に追加

可撓管１の外表面を構成する外皮１７と、外皮１７の表面に積層されたトップコート層１８の少なくともいずれか一方の被修理部位１７ａ，１８ａにプラズマ照射によって反応基を突出させ、表面を粗面化したプラズマ処理部２０，２３を形成する。 - 特許庁

In the method for producing the electrophotographic photoreceptor, a coating liquid containing a reactive electric charge transferring compound, an organosilicon compound having a β-(3,4-epoxycyclohexyl) group or its hydrolyzate and a solvent is applied and cured to form a resin layer.例文帳に追加

反応性電荷輸送性化合物とβ−（３，４−エポキシシクロヘキシル）基を有する有機ケイ素化合物、又はその加水分解生成物、及び溶媒を含有する塗布液を塗布後、硬化し、樹脂層を形成して作製することを特徴とする電子写真感光体の製造方法。 - 特許庁

In a method of manufacturing a coil, the insulated wire 1 is wounded to form the coil 7, and the coil is impregnated with the main agent 8 containing the reactive resin to be cured in reaction with the curing agent forming the curing agent layer 4, and the coil 7 is cured in reaction with the main agent 8.例文帳に追加

コイル製造方法は、絶縁電線１を巻き回すことによりコイル７を形成し、硬化剤層４を形成する硬化剤と反応して硬化する反応性樹脂を含む主剤８をコイル７に含浸させ、主剤８と反応させ硬化させる。 - 特許庁

The reversal pattern of a mold having the reversal pattern of the fine pattern is coated with a solution, which is prepared by dissolving a fluorine-containing polymer (A) not substantially containing a reactive functional group (x) in a solvent, and the solvent is removed to form a fluorine-containing polymer layer 1 on the surface of the mold 4.例文帳に追加

微細パターンの反転パターンを有するモールド４の該パターン上に、反応性官能基（ｘ）を実質的に有さない含フッ素重合体（Ａ）を溶媒に溶解させた溶液を塗布し、溶媒を除去して、モールド４の表面に含フッ素重合体層１を形成する。 - 特許庁

This coated sheet is obtained by forming the coated layer by using the triacetylcellulose film characterized as having ≤14% plasticizer content expressed in terms of average weight content and ≤6% standard deviation thereof as a support and coating the triacetylcellulose film with a coating containing an organic solvent and a reactive organic compound having ≤800 molecular weight.例文帳に追加

支持体として可塑剤含有量が平均重量含有率で１４％以下、かつ標準偏差が６％以下であることを特徴とするトリアセチルセルロースフィルムを用い、有機溶剤と分子量８００以下の反応性有機化合物を含有する塗料を塗布し塗工層を形成する。 - 特許庁

To provide a catalyst by which a gas stream is effectively disturbed, hence the thickening of a boundary layer generated on the wall face of a passage in the long passage is prevented, and a reactive component in the main gas stream is smoothly diffused to the wall face.例文帳に追加

ガス流れを効果的に撹乱し、これによって長い流路において流路壁面上で発生する境界層が厚みを増すのを防止し、もってガス主流中の反応成分の流路壁面への拡散を支障なく行うことができる触媒を提供する。 - 特許庁

The system has a connected dual remote plasma supply source for facilitating layer deposition onto a substrate and introducing two streams of reactive species into the chemical vapor deposition(CVD) treatment chamber, and simultaneously, the two streams are kept in a separated state until they reach a treatment region adjacent to the substrate.例文帳に追加

層の基板への堆積を容易にし、反応性の種の２つの流れを化学気相堆積処理チャンバへ送出する連結されたデュアル遠隔プラズマ供給源を特徴とし、同時に、基板に近接した処理領域に到達するまでは、２つの流れを分離状態で維持する。 - 特許庁

A thin film of the tetragonal MgSiO_3 crystal is formed on a crystalline substrate (a silicon single crystal substrate or a substrate obtained by forming a buffer layer on the substrate) by the epitaxial growth of Mg and Si in an oxygen atmosphere using a PVD method (helicon wave reactive sputtering method or the like).例文帳に追加

結晶質下地（シリコン単結晶基板又はその上にバッファー層を形成したもの）上に、Ｍｇ及びＳｉを酸素の雰囲気中でＰＶＤ法（ヘリコン波反応性スパッタリング法など）を用いてエピタキシャル成長させることにより、正方晶ＭｇＳｉＯ_３結晶の薄膜を形成する。 - 特許庁

To provide a high-strength barium-aluminum-based sputtering target of which the strength does not decrease even when having been left in the atmosphere for a long period of time, and which is used for a reactive sputtering method for forming an EL light-emitting layer of an inorganic EL device.例文帳に追加

無機ＥＬ素子のＥＬ発光層の形成において、反応性スパッタリング法に用いるバリウムアルミニウム系スパッタリングターゲットについて、大気中に長期間放置しても強度が低下することのない、高強度のスパッタリングターゲットを提供する。 - 特許庁

In the first process, a paste for an air electrode is produced by mixing a Pt-holding carbon catalyst, a Nafion (R) solution and carbon black, and after coating the paste for the air electrode on a conductive substrate, the paste is dried to form an air electrode reactive layer 3a.例文帳に追加

第１工程において、Ｐｔ担持カーボン触媒とナフィオン（登録商標）溶液とカーボンブラックとを混合して空気極用ペーストを作製し、この空気極用ペーストを導電性のある基材に塗布した後、乾燥させて空気極反応層３ａを形成する。 - 特許庁

A liquid adhesive obtained by adding a heat conductive filler to a reactive resin is applied in one line or a plurality of lines on one or both of opposing faces of the panels 12 and 14, and then the connecting means is formed by a connecting layer 16 by pressing and curing.例文帳に追加

反応性樹脂に熱伝導性フィラーを配合した液状接着剤を、両パネル１２、１４の対向面の一方又は双方に、かつ、一本又は複数本の線状に塗布後、圧着・硬化させた結合層１６で前記結合手段を形成する。 - 特許庁

A reactive gas is introduced into a treatment chamber where a substrate is placed, microwaves are introduced into the treatment chamber via a slit provided on a waveguide oppositely disposed substantially in parallel to the substrate to generate plasma, and a photoelectric conversion layer made of a semi-amorphous semiconductor is formed on the substrate.例文帳に追加

基板が載置された処理室内に反応性気体を導入し、前記基板と略平行に対向配置された導波管に設けられたスリットを介して前記処理室内にマイクロ波を導入してプラズマを生成して前記基板上にセミアモルファス半導体でなる光電変換層を形成する。 - 特許庁

In the first process, a paste for an air electrode is produced by mixing a Pt-holding carbon catalyst, a Nafion (R) solution and a highly water-absorbable polymer, and after coating the paste for the air electrode on a conductive substrate, the paste is dried to form an air electrode reactive layer 13a.例文帳に追加

第１工程において、Ｐｔ担持カーボン触媒とナフィオン（登録商標）溶液と高吸水性ポリマーとを混合して空気極用ペーストを作製し、この空気極用ペーストを導電性のある基材に塗布した後、乾燥させて空気極反応層１３ａを形成する。 - 特許庁

To provide a group III nitride semiconductor light-emitting device which has excellent light-emitting property and in which a buffer layer is formed on a substrate by a reactive sputtering method and a group III nitride semiconductor with good crystallinity can be formed thereon, and provide a method for manufacturing thereof and a lamp.例文帳に追加

基板上に、反応性スパッタ法を用いてバッファ層を形成し、その上に結晶性の良好なＩＩＩ族窒化物半導体を成長させることができ、優れた発光特性を有するＩＩＩ族窒化物半導体発光素子及びその製造方法、並びにランプを提供する。 - 特許庁

Etching for forming a side wall 51 is performed by two steps of reactive ion etching (RIE) and wet etching, i.e. a silicon oxide film 5A is left on an LDD layer 4 on a silicon substrate 1 by the RIE and the silicon oxide film 5A is removed by the wet etching.例文帳に追加

サイドウォール５１形成時のエッチングをＲＩＥとウエットエッチングの二段階で行い、ＲＩＥでシリコン基板１のＬＤＤ層４上に酸化シリコン膜５Ａを残存させ、ウエットエッチングでこの酸化シリコン膜５Ａを除去する。 - 特許庁

A metal composite layer having an inner region and a surface region is formed by actively providing reactive atoms of higher concentration (a 3B group, a 4B group, and rare earth elements or the like) to the surface region compared with the inner region and it is made to be the solder material.例文帳に追加

表面領域によりも内部領域のほうに、より高濃度の反応性原子（３Ｂ族、４Ｂ族、希土類元素など）を能動的に提供することによって、内部領域および表面領域を有する金属複合層を形成しろう材とする。 - 特許庁

The method of manufacturing the laminated film is carried out by applying a coating liquid containing a sol-gel reactive silicon compound and a hollow fine particle directly or through another layer on a supporting body containing a transparent resin and drying the liquid to obtain a film on which a coating film is formed and irradiating the film with electromagnetic wave.例文帳に追加

透明樹脂を含有してなる支持体の上に、直接又は他の層を介して、ゾル−ゲル反応性ケイ素化合物と中空微粒子を含有する塗工液を塗布、乾燥して、被膜を形成したフィルムを得、次いで該フィルムに電磁波を照射してなることを特徴とする積層フィルムの製造方法。 - 特許庁

This hydrophilic film is obtained by applying a blended solution of hydrophilic inorganic particles, minute polymer particles dispersed in an aqueous medium, and a reactive organic fluorine compound onto the surface of a substrate resin formed in a film shape, followed by drying to form a coating layer.例文帳に追加

フイルム状に成形した基体樹脂表面に、親水性無機微粒子、水媒体に分散された重合体微粒子、反応性有機フッ素化合物からなる配合液を塗布、乾燥させたコーティング層を設けた親水性フイルムにより上記課題を解決した。 - 特許庁

In the manufacturing apparatus 101 for the particulate material of which a surface is coated with a ferrite layer, the manufacturing apparatus 101 comprises mechanisms 6, 7 for bringing an oxidation medium containing a reactive solution containing at least ferrous ions, at least an oxidizing agent or at least oxygen into contact with a substrate.例文帳に追加

表面がフェライト層で被覆された粒子状物の製造装置１０１であって、前記製造装置は少なくとも第一鉄イオンを含む反応液、少なくとも酸化剤もしくは少なくとも酸素を含んだ酸化媒体を基体に接触させる機構６，７を備えている。 - 特許庁

To provide a method for producing a laminate-structure porous ceramic material having a substrate and at least one ceramic layer formed on the surface of the substrate and having a pore diameter different from that of the substrate while reducing a manufacturing cost (especially, material cost) by utilizing reactive sintering.例文帳に追加

反応焼結を利用して製造コスト（特に原料コスト）を抑えつつ、相互に細孔径の異なる基材と該基材の表面上に形成された少なくとも一のセラミック層とを有する積層構造タイプの多孔質セラミック材を製造する方法を提供すること。 - 特許庁

In the vapor deposition film, plasma treatment by a reactive ion etching (RIE) method is applied to one side of a coextrusion stretched film base material made of at least a polyester resin and a polyamide resin, and a vapor deposition film layer of an inorganic compound is formed on the plasma-treated surface.例文帳に追加

少なくともポリエステル樹脂とポリアミド樹脂からなる共押出し延伸フィルム基材の片面に、リアクティブイオンエッチング（ＲＩＥ）法によるプラズマ処理を施し、該プラズマ処理面上に無機化合物の蒸着膜層を設けたことを特徴とする蒸着フィルムである。 - 特許庁

A formed part composed essentially of amorphous alloy is heat treated under a reactive-gas-containing atmosphere and under the conditions of temperature and time within the amorphous region of the isothermal transformation curve (TTT curve) of the material, by which a ceramic hard layer is formed on the surface of the formed part.例文帳に追加

実質的に非晶質の合金からなる成形品を、反応性ガスを含む雰囲気下にてその材料の等温変態曲線（ＴＴＴ曲線）のアモルファス領域内の温度及び時間で熱処理し、上記成形品表面にセラミック系硬質層を形成する。 - 特許庁

To provide a hetero-junction field effect transistor by which plasma damage of a reactive ion or the like entering a crystal due to dry etching for selective removal of an insulation layer or a semiconductor layer above a barrier layer is suppressed in a crystal structure, where the barrier layer with a larger atomic weight than an electron supply layer is formed on the electron supply layer of the hetero-junction field effect transistor.例文帳に追加

ヘテロ接合電界効果トランジスタの電子供給層上に電子供給層よりも平均原子量の大きなバリア層を形成した結晶構造において、バリア層より上の絶縁膜もしくは半導体層を選択に除去する際のドライエッチングによって結晶内に侵入する反応性イオン等のプラズマ損傷を抑制することを目的したヘテロ接合電界効果トランジスタの製造方法を提供すること。 - 特許庁

The layer A is a coated layer of a surface treating agent selected from a reactive organopolysiloxane, an polyolefin, a hydrogenated lecithin, an N-acyl amino acid, a fatty acid and a dextrin fatty acid ester in a solid state at a normal temperature.例文帳に追加

が：Ａ層；反応性オルガノポリシロキサン、ポリオレフィン、水添レシチン、Ｎ−アシルアミノ酸、脂肪酸及びデキストリン脂肪酸エステルの中から選択される、常温で固体状の表面処理剤被覆層；及びＢ層；片末端官能基変性オルガノポリシロキサン、片末端官能基変性アルキルシラン及び分岐脂肪酸の中から選択される。 - 特許庁

In the electrophotographic photoreceptor having a photosensitive layer on a conductive supporting body, the surface layer of the photoreceptor contains a siloxane resin having a crosslinked structure and a modified silicone oil obtained by the reaction of a reactive silicone oil and a silane coupling agent.例文帳に追加

導電性支持体上に感光層を有する電子写真感光体において、前記電子写真感光体の表面層が架橋構造を有するシロキサン系樹脂、及び反応性シリコンオイルとシランカップリング剤とを反応して得られる変性シリコンオイルを含有することを特徴とする電子写真感光体。 - 特許庁