「reference stage」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索

A reference passing-through cross sectional area S1 and initial-stage values J2-J5 of the first to the fifth rolling mills R1-R5, are set.例文帳に追加

第１〜第５圧延機Ｒ１〜Ｒ５の基準通過断面積Ｓ１および初期値Ｊ２〜Ｊ５を設定する。 - 特許庁

A guide member 14 has an attracting function, and a dry plate 13 is accurately mounted at a reference position on an exposure stage 12.例文帳に追加

ガイド部材14に吸着機能を持たせ、乾板13を露光ステージ12上の基準位置に正確に装填する。 - 特許庁

Further, also on a reticle stage RST, the reticle R is matched mechanically with a predetermined reference in terms of an outer shape reference using a reference member 82, the reticle stage RST is moved so as to cancel the estimated drawing error of the pattern, and thereafter reticle alignment is implemented.例文帳に追加

また、レチクルステージＲＳＴ上においても、基準部材８２を用いてレチクルＲを外形基準で機械的に所定の基準に整合させるとともに、求めておいたパターンの描画誤差を相殺するようにレチクルステージＲＳＴを移動させた後に、レチクルアライメントを実施する。 - 特許庁

The segmentation of the consecutive media is divided into a first stage based on the reference time and a second stage based on the synchronizing time, so that the segmentation based on the synchronizing time can be performed subsequently to the segmentation on the first stage.例文帳に追加

連続メディアの切出しを参照時刻に基づく第１段階と同期時刻に基づく第２段階とに分けているため、同期時刻に基づく切出しを第１段階の切出し後に遅れて行える。 - 特許庁

In a solder resist printing stage (S4), a wiring pattern and a tape base material provided with a reference mark are fed to a printing mechanism in a loading stage (S41).例文帳に追加

ソルダーレジスト印刷工程（Ｓ４）において、ロード工程（Ｓ４１）は、上記配線パターン及び基準マークを設けたテープ基材を上記印刷機構へ順次繰り出す。 - 特許庁

A liquid crystal cell (a panel to be cleaned) 20a mounted on a processing stage 1 is made to be coaxially rotated in synchronization with a reference panel 5 mounted on a rotating stage 4.例文帳に追加

処理ステージ１上に設置された液晶セル（被洗浄パネル）２０ａは、回転ステージ４上に設置された基準パネル５と同期して同軸回転される。 - 特許庁

To solve a problem of a conventional technique for conversion of reference information that can have coped with single stage conversion only and has been unavailable of complicated name resolution needing multi-stage converter.例文帳に追加

従来の参照情報の変換は一段階の変換にしか対応できず、多段階の変換を必要とするような複雑な名前解決に用いることはできない。 - 特許庁

For example, during motion estimation and compensation, a video encoder uses stage-alternating rounding control when computing pixel values in reference video frames by multi-stage interpolation.例文帳に追加

例えば、動き推定および動き補償中に、ビデオエンコーダは、マルチステージ補間によって基準ビデオフレーム内のピクセル値を計算する時に、ステージ交互丸め制御を使用する。 - 特許庁

Even if a noise component is generated at the reference signal input stage of the voltage comparing section 252 belonging to some block, the noise component is not transmitted to the reference signal input stage of the voltage comparing section 252 belonging to the separated block.例文帳に追加

あるブロックに属する電圧比較部２５２の参照信号入力段に雑音成分が発生しても、分離された方のブロックに属する電圧比較部２５２の参照信号入力段には、その雑音成分が伝達されない。 - 特許庁

The surface is pushed against the tool reference plane 31 for adjustment of the tilting angle of the stage 15 so that the surface may be in parallel to the tool reference plane 31 and, in this condition, the tilting of the stage 15 is clamped.例文帳に追加

先ず、基準面３１に対して前記表面を押し当てることによって、基準面３１に対して前記表面が平行になる様にステージ１５の傾動角度を調整し、この状態で、ステージ１５の傾動をクランプする。 - 特許庁

A drive stage 14 driving in a prescribed direction 17 and reflective mirrors 15a, 15b on the drive stage 14 vary the length of optical path of reference light, and thereby vary the difference of phase between the reflecting light and the reference light.例文帳に追加

また、所定の方向１７に駆動する駆動ステージ１４、および駆動ステージ１４上の反射ミラー１５ａ，１５ｂによって参照光の光路長を変化させることにより、反射光と参照光の位相差を変化させる。 - 特許庁

For each region of interest, a reference stage image best matching the displayed region of interest is selected and the score number associated with the selected reference stage image is associated with the region of interest.例文帳に追加

各対象領域について、表示された対象領域と最も良く適合する基準年齢段階像が選定され、そして選定された基準年齢段階像と組み合わせられた査定数値が対象領域と組み合わせられる。 - 特許庁

A plurality of buffer circuits 280 for receiving reference signals RAMP generated from a reference signal generating section 27 and supplying them to the reference signal input stage of a predetermined number of voltage comparing sections 252 are provided and the reference signal RAMP supplied through one reference signal line 251 is supplied while being separated to a reference signal RAMP_k through a reference signal output line _k for each block BK_k.例文帳に追加

参照信号生成部２７で生成された参照信号RAMPを受け、所定数の電圧比較部２５２の参照信号入力段に供給するバッファ回路２８０を複数設けることで、１つの参照信号線２５１を介して供給される参照信号RAMPを、各ブロックBK_k用の参照信号出力線_kを介して参照信号RAMP_kに分離して供給する。 - 特許庁

A relative positional relation between the first reference mark 60 and the second reference mark 62 is calculated to thereby obtain a displacement of the optical head with respect to the stage.例文帳に追加

第１基準マーク６０と第２基準マーク６２の相対位置関係を算出することで、光学ヘッドのステージに対する位置ずれを取得することができる。 - 特許庁

The data sizes of the original images of a reference stereoscopic image and a comparative target stereoscopic image are contracted to set the reference stereoscopic image and comparative target stereoscopic image of a first stage.例文帳に追加

基準立体画像および比較対象立体画像の原画像のデータサイズを縮小し、第１ステージの基準立体画像および比較対象立体画像とする。 - 特許庁

The reference voltage control circuit 17 controls the range of a reference voltage of the A/D conversion circuit 12 depending on the stage of the conversion by the analog to digital converter 100.例文帳に追加

リファレンス電圧制御回路１７は、ＡＤ変換器１００における変換の段階に応じてＡＤ変換回路１２のリファレンス電圧のレンジを制御する。 - 特許庁

Reference voltages V1, V2, and V3 generated by a reference voltage generating circuit 5 are actually measured in an IC inspection stage, and ideal A/D converted values corresponding to the measured reference voltages V1, V2, and V3 are computed and written as reference data V1D, V2D, and V3D to a memory 14.例文帳に追加

基準電圧生成回路５で生成された基準電圧Ｖ１、Ｖ２、Ｖ３をＩＣ検査工程で実際に測定し、その実測した基準電圧Ｖ１、Ｖ２、Ｖ３に対応する理想Ａ／Ｄ変換値を求めて基準データＶ1D、Ｖ2D、Ｖ3Dとしてメモリ１４に書き込む。 - 特許庁

The X-Y stage device 2 is moved to the pre-input coordinate position while the reference substrate 6 being set, the reference substrate 6 is moved, and the actually moving coordinate value is read from the two-dimensional reference shape on the moving reference substrate 6.例文帳に追加

そして、基準基板６がセットされた状態でＸ−Ｙステージ装置２を予め入力された座標位置に移動して、基準基板６を移動させるとともに、移動する基準基板６上の二次元基準形状から実際に移動する座標値を読み取る。 - 特許庁

At this time, the obtained image does not perfectly coincides with the reference image because of stage moving accuracy to become a slightly shifted image.例文帳に追加

この際、ステージ移動精度により、得られた画像は完全には基準画像とは一致せず、僅かにずれた画像となる。 - 特許庁

Thus, the potential of the node C is started to prevent a reference potential VR to be fed to a circuit on the next stage from going down.例文帳に追加

これにより、ノードＣの電位を立ち上げ、次段の回路に供給する基準電位Ｖ_Rの低下を防止する。 - 特許庁

Further, the still image is photographed after the shake amount at the photographing stage becomes smaller than the 2nd shake amount estimation reference value.例文帳に追加

さらに、該撮影段階のぶれ量が、第２のぶれ量評価基準値より小となるまで待って静止画を撮影する。 - 特許庁

The candidate recognition dictionary 12h is provided with Nh pieces of reference patterns in accordance with each narrowing stage h for every category.例文帳に追加

候補認識辞書１２ｈは、各カテゴリ毎に当該絞込段階ｈに応じたＮ_ｈ個の参照パターンを持つ。 - 特許庁

On a detailed matching stage, detailed matching is performed between the reference document 12 and candidates 17 while using end point features.例文帳に追加

詳細マッチング段階では、端点特徴を用いて照会文書１２と候補１７との詳細マッチングを行う。 - 特許庁

To precisely adjust the phase difference of a reference clock between first and second circuits in each stage of data processing.例文帳に追加

データ処理の各段階における第１回線と第２回線との間の基準クロックの位相差を精度よく調整する。 - 特許庁

On a transfer stage 2, an alignment mark 8 is provided as a reference in adjusting an initial position of a photomask 4.例文帳に追加

搬送ステージ２には、フォトマスク４の初期位置を調整する際の基準となるアライメントマーク８が設けられている。 - 特許庁

REFERENCE PLATE HOUSING TYPE SPECIMEN SUPPORTING STAGE, SPECIMEN WAVE FRONT MEASURING DEVICE USING THE SAME AND MEASURING METHOD THEREFOR例文帳に追加

基準板収納型被検体支持ステージおよびこれを用いた被検体波面測定装置ならびにその測定方法 - 特許庁

The reference data as a standard are generated while the position shift quantity of an XY stage 2 holding an inspected body 1 is corrected.例文帳に追加

基準となる参照データを、被検査体１を保持したＸＹステージ２の位置ずれ量分を補正して発生させる。 - 特許庁

Also, the print area of the game data which are scheduled to be acquired is assigned to the lower stage of the reference data so as to be printed.例文帳に追加

また、このとき取得予定の遊技データの印刷領域は、基準データの下段に割当てられて印刷される。 - 特許庁

A position adjusting device 26 can adjust the position of the wafer stage 16 relative to the mask stage 14, and adjusts the position of the wafer stage 16 based upon image data obtained by imaging the mask stage reference mark 15 and alignment mark 44 by the on-axis camera 20.例文帳に追加

位置調整装置２６は、マスクステージ１４に対するウェハステージ１６の位置を調整可能であって、かつ、マスクステージ基準マーク１５とアラインメントマーク４４をオンアクシスカメラ２０によって撮像することにより得られる画像データに基づいて、ウェハステージ１６の位置を調整する。 - 特許庁

Since the current shift stage is the seventh speed (reference sign Sa0), the fourth speed of the requested shift stage is set as a target shift stage as it is, and down shift is performed from the seventh speed to the fourth speed by skipping two stages.例文帳に追加

ここで、現在の変速段が第７速であることから(符号Ｓａ０)、要求変速段の第４速がそのまま目標変速段として設定され、第７速から第４速に２段飛ばしてダウンシフトが実行される。 - 特許庁

A series regulator 1 is provided with a resistor division part 3, a differential amplification part 4 and an output stage 5, the reference voltage Vref1 generated from a reference voltage generation circuit 2 is inputted, and the output voltage Vout is outputted from the output stage 5.例文帳に追加

シリーズレギュレータ１には、抵抗分割部３、差動増幅部４及び出力段５が設けられ、基準電圧発生回路２から発生される基準電圧Ｖｒｅｆ１を入力し、出力段５から出力電圧Ｖｏｕｔを出力する。 - 特許庁

The initial stage differential amplifier 4 differentially amplifiers input cell voltages using an electrical potential of a minimum electric potential end of a cell set 1 as a reference, and a latter stage differential amplifiers an output voltage of the initial differential amplifier using a vehicle body electric potential as a reference.例文帳に追加

初段差動増幅器４は、組電池１の最低電位端の電位を基準として入力単電池電圧の差動増幅を行い、後段差動増幅器は、初段差動増幅器４の出力電圧を車体電位を基準として増幅する。 - 特許庁

Next, a register mark 30 based on the printing unit at the front stage of the whole is made a reference register mark 30a of the whole, while the register mark 30 based on the printing unit at the front stage of each group is made a group reference register mark 30b of each group.例文帳に追加

次に、全体の最前段の印刷ユニットによる見当マーク３０を全体基準見当マーク３０ａとし、一方、各グループの最前段の印刷ユニットによる見当マーク３０を各グループのグループ基準見当マーク３０ｂとする。 - 特許庁

N-pieces of second delay elements D2 are multi-stage connected and delay a reference strobe signal STRB on a one-stage basis to generate multi-strobe signals STRB_1 to STRB_N.例文帳に追加

Ｎ個の第２遅延素子Ｄ２は多段接続され、基準となるストローブ信号ＳＴＲＢに対し１段ごとに遅延を与え、マルチストローブ信号ＳＴＲＢ_１〜ＳＴＲＢ_Ｎを生成する。 - 特許庁

A counter circuit (CNT) 120 counts a reference delay stage number DREF equivalent to one period of the clock, a duty adjustment circuit (DUTY-ADJ) 130 calculates a delay setting stage number DREFH on the basis of the reference delay stage number DREF and outputs it to the programmable delay line (DL-MTX) 140.例文帳に追加

カウント回路（ＣＮＴ）１２０は、クロックの１周期に相当する基準ディレイ段数ＤＲＥＦをカウントし、デューティ調整回路（ＤＵＴＹ＿ＡＤＪ）１３０は、基準ディレイ段数ＤＲＥＦに基づいてディレイ設定段数ＤＲＥＦＨを算出し、プログラマブル・ディレイライン（ＤＬ＿ＭＴＸ）１４０へ出力する。 - 特許庁

According to the biaxial hole machining method, a first reference surface 4e and a second reference surface 4b of a reference block 4 set in a pallet 1, and coordinate locations of a first axial hole H_1 of a workpiece W are detected before rotation of the pallet 1 in a downstream stage P_2.例文帳に追加

下流側ステージＰ_２でパレット１の回転前にパレット１に設けられている基準ブロック４の第１基準面４ｅと第２基準面４ｂ、及びワークＷの第１軸孔Ｈ_１の各座標位置を検出する。 - 特許庁

A unit register circuit 38 of a k stage has a set circuit which makes a reference point an H level with a pulse input, a reset circuit which makes the reference point an L level with the pulse input, and a circuit which synchronizes with a clock signal to output a pulse Pk at the H level of the reference point.例文帳に追加

第ｋ段の単位レジスタ回路３８は、パルス入力で基準点をＨレベルにするセット回路、Ｌレベルにするリセット回路、基準点のＨレベル時にクロック信号に同期しパルスＰｋを出力する回路を有する。 - 特許庁

While, each extension resistor corresponding to an extended amount of the distance between the voltage extraction points in the group of reference resistors at the (N-1)-th stage is arranged above and below the group of reference resistors at the N-th stage, so as to reduce a ratio of an offset voltage V_offset included in a voltage range ΔV per bit formed for each reference resistor.例文帳に追加

一方、第Ｎ段の基準抵抗器群の上下に、第（Ｎ−１）段の基準抵抗器群における電圧取り出し点の拡張分に相応する拡張抵抗をそれぞれ配設し、１基準抵抗毎に形成されるビット当たりの電圧レンジΔＶに含まれるオフセット電圧Ｖ_offsetの割合を低減する。 - 特許庁

An opening 12c for placing the specimen onto the stage 10 is formed on the apparatus frame 70, and a reading reference surface 110b of the reading reference plate 110 is positioned in the opening 12c of the apparatus frame 70 in a way that the reading reference surface 110b is located higher than a stage surface 12 and lower than the scanning unit A.例文帳に追加

そしてこの装置フレーム７０に上記載置台１０上に読取物を載置する開口部１２ｃを設け、この開口部１２ｃに上記読取基準板１１０の読取基準面１１０ｂを、上記載置面１２より高く上記走査ユニットＡより低い位置で上記装置フレーム７０に取付ける。 - 特許庁

A reticle microscope (observation area 52RA, 52RB) is used to successively observe a plurality of mark pairs on a reticle R and a pair of reference marks on a reference mark plate on a wafer stage, and to measure a positional difference of the respective marks to the reference mark while it moves on a reticle stage RST in Y-axis direction.例文帳に追加

これによれば、レチクルステージＲＳＴをＹ軸方向に移動しながら、例えばレチクルＲ上の複数のマーク対とウエハステージ上の基準マーク板上の一対の基準マークとを、レチクル顕微鏡（観察領域５２ＲＡ、５２ＲＢ）を用いて、順次観察し、各マークの基準マークに対する位置誤差を計測する。 - 特許庁

A control section acquires a minute inclination of a reference pattern on a substrate 9 held by the stage 2 with respect to the first reference direction, and easily corrects the inclination of the reference pattern by changing relative positions of the ends 311, 312 of the guide section 31 in the second reference direction.例文帳に追加

制御部では、ステージ２にて保持される基板９上の参照パターンの第１基準方向に対する微小な傾斜が求められ、第２基準方向におけるガイド部３１の端部３１１，３１２間の相対位置を変更することにより参照パターンの傾斜が容易に補正される。 - 特許庁

Firstly, a height reference surface is formed to the substrate stage, and a second height measuring means capable of measuring the relative positional relation with the picker by pressing down the height reference surface with the lower end of the picker is provided.例文帳に追加

１、基板ステージに、高さ基準面が形成され、ピッカ下端により高さ基準面を押し下げてピッカとの相対位置関係を測定可能な第２高さ測定手段を設ける。 - 特許庁

A reference RF tag 14, disposed at a known reference position, is read from the origin position and the origin position information consisting of the position and the pointing direction of the body 4 at the stage is stored in a memory.例文帳に追加

既知の基準位置に配置された基準ＲＦタグ１４を原点位置から読取り、その際の本体４の位置及び指向方向からなる原点位置情報をメモリに記憶させる。 - 特許庁

To provide a reference voltage creating circuit in which variation in wiring resistors is corrected in a stage after a semiconductor integrated circuit is manufactured and highly accurate reference voltage can be created.例文帳に追加

半導体集積回路の製造後の段階において配線抵抗のバラツキを補正し、高精度な基準電圧を生成することが可能な基準電圧生成回路を得る。 - 特許庁

The reference signal voltage lines connected to the circuits 3-6 supply a reference voltage to sub A/D converters 9 and D/A converters 10 of each stage of the circuits 3-6.例文帳に追加

各段の回路３〜６のサブＡ／Ｄコンバータ９およびＤ／Ａコンバータ１０には、各回路３〜６に接続されたレファレンス電圧線からレファレンス電圧が供給されている。 - 特許庁