「source process」に関連した英語例文の一覧と使い方(13ページ目) - Weblio英語例文検索

An operation system 100 at a transmission source 150 generates an internal file to be sent to a transmission destination 140 as a client and stores it in a process waiting area 104.例文帳に追加

送付元１５０の業務システム１００は、取引相手先である送付先１４０に送信すべき内部ファイルを作成し、処理待ちエリア１０４に格納する。 - 特許庁

To provide a method for activating an adsorbent by liquefied dimethyl ether, in which the activation, desorption and reactivation of the adsorbent are performed by using an energy-saving process in which a heat source or post treatment is hardly required.例文帳に追加

吸着剤の活性化・脱着・再活性化を熱源や後段の処理が少ない省エネルギー型のプロセスによる吸着剤の活性化処理方法を提供する。 - 特許庁

A discrimination signal 2 is inserted into a soundless part between pieces of music gathered in a music source 1 and a compressing process 3 is carried out including the identification signal 2.例文帳に追加

音楽ソース１に収録された音楽曲の曲間にある無音部分に識別信号２を挿入し、その識別信号２も含めて圧縮プロセス３が実行される。 - 特許庁

To provide a process for fabricating an organic thin film transistor in which a source electrode and a drain electrode are formed easily on an organic semiconductor layer, and to provide an organic thin film transistor.例文帳に追加

簡易に有機半導体層上にソース電極およびドレイン電極を形成した有機薄膜トランジスタの製造方法および有機薄膜トランジスタを提供する。 - 特許庁

At the end time of the print estimated time, a power-saving process is performed for stopping the electric power feed from the power source unit 18, thereby changing it from the normal mode to a power-saving mode.例文帳に追加

印刷推定時間の終了時間となると電源部１８からの電力供給を停止する節電処理を行ない、通常モードから節電モードへと移行する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a semiconductor device which can reduce the number of manufacturing processes by restraining re-diffusion of impurities from a source/drain region, and simplifying a process.例文帳に追加

ソース／ドレイン領域からの不純物の再拡散を抑制し、かつ、プロセスを簡略化して製造工程数を削減できる半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

The by-product produced in the classifying process of the toner is reused by adding by 1 to 30 wt.% to the source material of the toner to improve the production yield and to decrease the cost.例文帳に追加

トナーの分級工程で発生した副製品物をトナーの原材料に対して１〜３０重量％加えて再使用して歩留まりを向上させ、低コスト化する。 - 特許庁

A silicide is generated in the source and drain regions of a silicon semiconductor layer, in a heating process where at least a part of the silicon semiconductor layer is crystallized.例文帳に追加

シリコン系半導体層の少なくとも一部を結晶化する加熱工程において、シリコン系半導体層のソース領域及びドレイン領域において、シリサイドを生成させる。 - 特許庁

The computer determines areas of overlapping of images by performing a correlating process for the subarrays and then generates the representation of the source image by using the determination result.例文帳に追加

コンピュータ５４は、サブアレイに相関処理を施して画像におけるオーバラップの領域を決定し、その後この決定結果を用いて、原画像の表現を生成する。 - 特許庁

To provide highly heat-resistant bonding material which keeps high flatness of a susceptor for manufacturing device and which will not become a contaminated source in a manufacturing process.例文帳に追加

半導体製造装置用サセプターの平面度を高く保つと共に製造プロセスにおいて汚染源となることがない、耐熱性の高い接合剤を提供する。 - 特許庁

Consequently the overlapped dimensions d1, d2 of the source neighborhood area 4 and the ring-shaped gate electrodes 1 are almost equal without being influenced by pattern matching errors in the photo-process.例文帳に追加

その結果、ソース近傍領域４とリング状ゲート電極１の重なり寸法ｄ１、ｄ２は、フォトプロセスのパターン合わせ誤差には影響されず、ほぼ等しくなる。 - 特許庁

To provide a method for increasing the production rate of a fatty acid ester in the process of producing a fatty acid ester from fats and oils containing free fatty acids as a source material.例文帳に追加

遊離脂肪酸を含む油脂を原料として脂肪酸エステルを製造するとき、脂肪酸エステルの生成率を高くすることができる製造方法を提供する。 - 特許庁

A clip adjusting process is performed to set one clip including multiple copy source clip configuration data corresponding to a play item in the playlist file, as a copy destination clip.例文帳に追加

プレイリストファイルに設定されたプレイアイテム対応のコピー元クリップ構成データを複数含む１つのクリップを、コピー先クリップとして設定するクリップ調整処理を行う。 - 特許庁

Further, the emitter electrode 114 can be formed together with the source electrode and drain electrode of a CMOS so that the production process can be simplified and the cost can be reduced.例文帳に追加

また、エミッタ電極１１４をＣＭＯＳのソース電極及びドレイン電極と共に形成することができるので、製造工程が簡素化し、コストダウンを図ることができる。 - 特許庁

Subsequently, an impurity implanting process is performed, and the source region S and the drain region D of the thin film transistor are formed by selectively implanting impurities.例文帳に追加

続いて注入工程を行い、半導体薄膜２に不純物を選択的に注入して薄膜トランジスタのソース領域Ｓ及びドレイン領域Ｄを形成する。 - 特許庁

A fast Fourier transforming process part (FFT) 10 transforms a digital signal as a source signal for audio output into a frequency range signal through FFT processing.例文帳に追加

高速フーリエ変換処理部（ＦＦＴ）１０は、音声出力用の元信号であるデジタル信号にＦＦＴ処理を行い周波数領域信号に変換する。 - 特許庁

An oriented alumina formed body is formed by carrying out a colloid process using alumina slurry in a magnetic field, impregnating its fine pores with a sodium source and reacting and sintering.例文帳に追加

アルミナスラリーを用いるコロイドプロセス法を磁場中で行い、配向したアルミナ成形体を形成し、その微細孔にナトリウム源を含浸処理した後に反応焼結する。 - 特許庁

To provide a process to manufacture hydrogen peroxide from inexpensive coal tar and oxygen using light energy as the energy source in place of the conventional energy-intensive processes.例文帳に追加

従来のエネルギー消費型の方法ではなく、光エネルギーをエネルギー源とし、安価なコールタールと酸素から過酸化水素を製造し得る方法を提供すること。 - 特許庁

The lateral crystallization process in which film is irradiated and crystallized by heating the substrate using CO_2 laser as heat source, and another side using ultraviolet ray laser or visible spectrum laser.例文帳に追加

ＣＯ_２レーザを加熱源として使用して基板を加熱し、他方紫外線レーザまたは可視スペクトルレーザを使用して膜を照射および結晶化するラテラル結晶化プロセス。 - 特許庁

The process for producing a metal phthalocyanine comprises mixing the resulting metal-free phthalocyanine with a metal source.例文帳に追加

一般式（１）〜（６）で表される化合物群のいずれかの化合物にリチウム塩を添加して反応を行い、後処理を施す下記一般式（７）の無金属フタロシアニンの製造方法。 - 特許庁

In order to process a frame of source data for interleave/de- interleave or an interleaved data frame, the memory stores the frame in the interleave/de-interleave processing unit.例文帳に追加

インターリーブ/ディインターリーブを行うためのソースデータのフレーム、またはインターリーブされたデータフレームを処理するために、インターリーブ/ディインターリーブ処理単位別にメモリに格納する。 - 特許庁

To improve throughput in a manufacturing process of a semiconductor device wherein impurity layers being a source or drain are provided on both the sides of a gate electrode on a semiconductor substrate.例文帳に追加

半導体基板上におけるゲート電極の両側にソース又はドレインとなる不純物層を備えた半導体装置の製造工程におけるスループットを向上させる。 - 特許庁

A thermal process for cleaning equipment surfaces having deposition of undesired silicon nitride in a semiconductor processing chamber by using a thermally activated source of pre-diluted fluorine is provided.例文帳に追加

半導体処理チャンバーにおいて、望まれていない窒化ケイ素が推積した装置表面を、熱的に活性化した、予備希釈したフッ素源を用いてクリーニングするサーマルプロセス。 - 特許庁

Because, remaining soybean protein in the final process leads to turbidity in products (in heating), and raw starch in wheat are unable to be consumed as source of nutrient by general soy-sauce yeasts. 例文帳に追加

これは、生の大豆タンパク質が最終工程に残ると製品（加熱時）の濁りにつながり、小麦の生デンプンは、一般的な醤油酵母は資化できないためである。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

Further, when the source voltage V falls below the second reference voltage V2 (step S303), a function stopping process is carried out (step S306) and the reception of the different-frequency signal is stopped.例文帳に追加

さらに、電源電圧Ｖが第２の基準電圧Ｖ２より低くなると（ステップＳ３０３）、機能停止処理を行い（ステップＳ３０６）、他周波信号の受信を停止する。 - 特許庁

To automatically determine a transfer source account of a lowest transfer fee out of a plurality of accounts a transfer requester holds depending on a transfer process condition.例文帳に追加

振込依頼者が保有する複数の口座の中から、振込処理条件に応じて、振込手数料の最も安い振込元口座を自動的に決定すること。 - 特許庁

To provide a thin film transistor device and the manufacturing method of the same, reduced in fluctuation of a parastic capacitance between the gate and the source of a TFT even when a positional deviation is generated in the process of exposure.例文帳に追加

露光工程で位置ずれが発生してもＴＦＴのゲート・ソース間の寄生容量の変動が少ない薄膜トランジスタ装置及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

A translation file separating process part 102 searches the source file 101 to extract non-global character strings so as to create a translation file 104.例文帳に追加

翻訳ファイル分離処理部１０２は、ソースファイル１０１から国際化対応されていない文字列を検索して抽出することで、翻訳ファイル１０４を作成する。 - 特許庁

When a printer is started by the turning on of the power source, the printer causes a display means to display a print setting as well as a starting screen indicating that the printer is performing a starting process.例文帳に追加

電源投入によるプリンタの起動時に、起動処理中であることを示す起動画面を前記表示手段に表示させると共に、印刷設定を表示させる。 - 特許庁

When a power source of a recorded data reproducing system is turned ON (S1), a disk type, a format and recorded information etc. of a disk driver 2 are read and an internal operation process is performed (S2).例文帳に追加

記録データ再生システムの電源がＯＮになると（Ｓ１）、ディスクドライブ部２のディスクの種類，フォーマット及び記録情報などを読み取り、内部動作処理を実行する（Ｓ２）。 - 特許庁

In this process, since waste heat form the condenser 13 is absorbed by water in a water tank 20 of the hot water heater 2, the condenser 13 works as heat source of the water heater 2.例文帳に追加

ここで、凝縮器１３からの廃熱は、温水器２の水槽２０内部の水に吸収されるので、凝縮器１３は温水器２の熱源として働く。 - 特許庁

To provide a mounting structure of a room lamp for a vehicle capable of mounting the room lamp in one process and simplifying wiring of electric power source harness.例文帳に追加

一工程でルームランプの取付けが行え、また電源ハーネスの配索を簡略化することができる車両用ルームランプの取付構造を提供するものである。 - 特許庁

When the data corresponding to the process of picking 12 are selected as the conversion source and the process of estimation 13 is selected as the conversion destination by a user, the data management system 80 prepares the converted data by executing the corresponding conversion module and stores them in a storage location corresponding to the process of the conversion destination.例文帳に追加

ユーザにより、変換元として、拾い１２の工程に対応するデータが選択され、変換先として、見積もり１３の工程が選択された場合、データ管理システム８０は、対応する変換モジュールを実行して変換データを作成し、これを変換先の工程に対応する格納場所に格納する。 - 特許庁

A method of manufacturing an optical flat plate member includes a product molding process S200 of molding a light diffusion plate and a product inspection process S300 of inspecting an optical property of the light diffusion plate molded by the product molding process using an inspection device including an inspection light source and an imaging device on the basis of an evaluation criterion obtained in advance.例文帳に追加

光拡散板を成形する製品成形工程Ｓ２００と、製品成形工程により成形された光拡散板の光学特性を予め取得した評価基準に基づいて、検査用光源および撮像装置を備える検査装置を用いて検査する製品検査工程Ｓ３００とを備えている。 - 特許庁

An anisotropic etching process carried out by the use of a magnetron etching device and an ashing process for removing a fluorocarbon polymer 14 produced in the above etching process are repeatedly carried out three times or so, by which a contact hole 13 is provided to the interlayer insulating film 9 so as to extend to a source/ drain region 6.例文帳に追加

多結晶Ｓｉ膜１０および内壁膜１２ａをマスクとして、マグネトロンエッチング装置を用いた異方性エッチングと、このエッチングで生じたフロロカーボンポリマー１４を除去するアッシングとを３回程度繰り返し行うことにより、層間絶縁膜９にソース／ドレイン領域６に達するコンタクトホール１３を形成する。 - 特許庁

To provide a simple configuration of the body 100A of an image forming apparatus employing a side orientation system and using an LED as a light source of an exposure means, the configuration ensuring the alignment accuracy between a process cartridge P and the body 100A and between the process cartridge P and an LED unit 6, and also achieving usability in inserting and removing the process cartridge.例文帳に追加

露光手段の光源としてＬＥＤが使用されるサイドオリエントの画像形成装置において、プロセスカートリッジＰと本体１００Ａ、プロセスカートリッジＰとＬＥＤユニット６の位置決め精度を保証し、かつ、プロセスカートリッジ挿抜のユーザビリティ性を両立できる簡潔な本体構成を提供する。 - 特許庁

The dish washer-dryer is capable of utilizing heat of drain drained after the washing process and rinsing process of tableware or the like and heat of exhaust exhausted by drying after the washing/rinsing process of the tableware or the like, as a heat source of the storage type hot water supply device through each heat exchanger.例文帳に追加

前記食器洗浄乾燥装置は、食器等を洗浄工程およびすすぎ工程の後に、排水される排水熱、および前記食器等を洗浄・すすぎ工程の後に乾燥を行って排気される排気熱をそれぞれの熱交換器を介して貯湯式給湯装置の熱原として利用することができる。 - 特許庁

When the procedure is compared with the acquired restriction information (S41) and the process defined by the capability information does not include a part of process defined by the procedure (NO at S41), a charge on the process of data is distributed to the users of the source and destination for charge (S48, S50, S52).例文帳に追加

そして、処理手順と取得された制限情報とを比較し（Ｓ４１）、処理手順で定義される処理の一部を能力情報で定義される処理が含まない場合（Ｓ４１でＮＯ）、データの処理に係る料金を発信元のユーザと宛先のユーザとに分配して課金する（Ｓ４８，Ｓ５０，Ｓ５２）。 - 特許庁

To provide a dubbing system which can reproduce information data simultaneously in a free order during a copying process without waiting for the copying process to end and also continuously copy data in the background even for change in use state such as ejecting a CD during the copying process and turning off the power source.例文帳に追加

コピーが完了するまでの間待たされることなく、コピー中にその情報データを同時にかつ自由な順番で再生することができるとともに、コピー中のＣＤイジェクトや電源オフ等の使用状態変化に対しても、そのバックグラウンドでデータコピーを継続して行うことができるダビングシステムを提供する。 - 特許庁

The plasma processing apparatus comprises a process chamber having a substrate holder supporting a procesing substrate, a dielectric tube installed at the upper part of the process chamber so as to be communicated with the interior of the process chamber, a helical coil wound around the dielectric tube, and an RF power source for feeding RF power to the helical coil.例文帳に追加

処理基板を支持する基板ホルダーを有する工程チャンバーと、工程チャンバーの内部と連通されるように工程チャンバーの上部に設置される誘電体管と、誘電体管の周りに巻かれた螺旋コイルと、螺旋コイルにＲＦ電力を供給するためのＲＦ電源と、を備えるプラズマ処理装置である。 - 特許庁

This reference alignment method includes: a fitting process of fitting the reference alignment instrument to the predetermined part of the base part; a spot light radiating process of radiating spot light from the light source part; and an alignment process of aligning the end effector part so that the spot light is aligned with a target point.例文帳に追加

本発明の基準位置合わせ方法は、ベース部の所定部に基準位置合わせ具を取り付ける取り付け工程と、光源部からスポット光を照射するスポット光照射工程と、スポット光が目標点と一致するようにエンドエフェクタ部の位置合わせを行う位置合わせ工程と、を備えた構成を有する。 - 特許庁

The method for manufacturing the semiconductor device comprises a process wherein a silicon oxide film 5 is formed on a semiconductor substrate 1; a process wherein a tantalum oxide film 6 is formed on the silicon oxide film 5; and a process wherein by applying IC source power by using gas containing F and etching gas containing O_2 by an IE method, the tantalum oxide film 6 is selectively processed.例文帳に追加

半導体基板１上にシリコン酸化膜５を形成する工程と、このシリコン酸化膜５上に酸化タンタル膜６を形成する工程と、ＲＩＥ法により、Ｆを含むガス及びＯ_２を含有するエッチングガスを用い、ＩＣＰソースパワーを印加して、前記酸化タンタル膜６を選択的に加工する工程とを具備する。 - 特許庁

The manufacturing method of the buried channel-type transistor by using a P-type silicon carbide substrate comprises a process for forming a buried channel area and a source/drain area, a process for forming a gate insulating film, and a process for exposing the gate insulating film to the atmosphere of not less than 500°C, which includes steam.例文帳に追加

Ｐ型の炭化珪素基板を用いた埋め込みチャネル型トランジスタの製造方法において、埋めこみチャンネル領域、および、ソース・ドレイン領域を形成する工程と、その後、ゲート絶縁膜を形成する工程と、その後に該ゲート絶縁膜を、水蒸気を含んだ５００℃以上の雰囲気に晒す工程とを含む。 - 特許庁

The method for manufacturing the metal oxide powder mainly comprising the metal oxide containing titanium includes (a) a process preparing a raw material solution in which a titanium source is dissolved in an aqueous solvent, (b) a process for forming mist from the raw material solution, and (c) a process for forming the powder by heating the mist.例文帳に追加

チタンを含む金属酸化物を主体とする金属酸化物粉末を製造する方法であって、（ａ）．水系溶媒にチタン源が溶解している原料溶液を用意する工程と、（ｂ）．その原料溶液のミストを生成する工程と、（ｃ）．そのミストを加熱して粉末を生成させる工程とを包含する。 - 特許庁

The method for producing the glass for a sealing material having the composition of SnO and P2O5 includes a process of mixing the powder source material, a reducing agent and an aqueous phosphoric acid solution to prepare slurry, a process for drying the moisture in the slurry to form granules and a process of melting the granules.例文帳に追加

ＳｎＯとＰ_2Ｏ_5の組成を有する封着材料用ガラスの製造方法において、粉末原料と還元剤とリン酸水溶液とを混合しスラリーとする工程と、このスラリーに含まれる水分を乾燥し顆粒を形成する工程と、この顆粒を溶融することを特徴とする封着材料用ガラスの製造方法。 - 特許庁