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source processの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 1590件
To provide a process for fabricating a thin film transistor in which alignment precision of a gate electrode, a source electrode and a drain electrode is enhanced without using an expensive deposition lift-off step, and overlap of the source electrode and drain electrode is reduced for the gate electrode.例文帳に追加
蒸着リフトオフという高価な工程を使用せずに、ゲート電極、ソース電極およびドレイン電極の位置合わせ精度を向上させ、ゲート電極に対するソース電極およびドレイン電極の重なりを小さい薄膜トランジスタ製造方法の提供。 - 特許庁
To provide a manufacturing method for an electron source and a manufacturing method for an image forming apparatus, capable of simplifying a manufacturing process for an electron source having a plurality of surface conductive type electron emitting element, and improving the electron emission characteristics of each element.例文帳に追加
表面伝導型の電子放出素子を複数備えた電子源の製造工程を簡略化でき、それぞれの素子の電子放出特性を改善することもできる電子源の製造方法、並びに画像形成装置の製造方法を提供すること。 - 特許庁
To provide an electron source of uniform electron emitting characteristics capable of making uniform a film thickness of a film formed from droplets ejected simultaneously from a plurality of ejection nozzles in a process of fabricating an element electrode and a conductive film of the electron source by an inkjet method.例文帳に追加
電子源の素子電極や導電性膜をインクジェット方式により作製する工程において、複数の吐出ノズルから同時に吐出された液滴から形成される膜の膜厚の均一化を図り、均一な電子放出特性の電子源を提供する。 - 特許庁
A source electrode 50S and a drain electrode 50D are provided, in contact with the crystallized film 42, thereby preventing the oxide semiconductor film 40 from being etched, when etching the source electrode 50S and the drain electrode 50D during a manufacturing process.例文帳に追加
ソース電極50Sおよびドレイン電極50Dを結晶化膜42に接して設けることにより、製造工程においてソース電極50Sおよびドレイン電極50Dをエッチングする際に酸化物半導体膜40がエッチングされてしまうことを抑える。 - 特許庁
In this way, a structure for preventing overetching up to a p-type base region 3 in rounding process of corner portions of a trench 5 is formed while allowing the density of the upper layer of the n-type source region 4 to be high density to enable ohmic contact with the source region 10.例文帳に追加
これにより、ソース電極10とオーミック接触させられるようにn型ソース領域4の上層部の濃度を高濃度にしつつ、トレンチ5のコーナー部の丸め処理時にp型ベース領域3までオーバエッチングされることを抑制できる構造にできる。 - 特許庁
To provide the manufacturing method of a structure using a high energy light source easily manufacturing not only a microlens but also an extremely small structure having a prescribed form by the exposure process of one time using the high energy light source such as an X ray and heat treatment.例文帳に追加
本発明は、X線などの高エネルギー光源を用いた一回の露光工程及び熱処理でマイクロレンズだけではなく、所定の形態を有する超小型構造物を容易に製造できる高エネルギー光源を用いた構造物の製造方法を提供する。 - 特許庁
A delay circuit 4 or the like giving a desirable characteristics has a constant current source MOS transistor formed by the same process as the replica MOS transistor, and trimming voltage Vtri is applied commonly to the constant current source MOS transistor and the replica MOS transistor 2.例文帳に追加
所望の特性とすべき遅延回路4等は、レプリカMOSトランジスタ2と同じプロセスで形成された定電流源MOSトランジスタを有し、該定電流源MOSトランジスタ及びレプリカMOSトランジスタ2のゲートにはトリミング電圧vtriが共通に印加される。 - 特許庁
A thermally treated compound oxide represented by Sb-Y-Si-C-O is used as the supply source of Sb in the production process of the compound oxide catalyst represented by formula (1), and a silicon carbide compound is used as the supply source of silicon and carbon thereof.例文帳に追加
式(1)で示される複合酸化物触媒の製造工程におけるSbの供給源として、熱処理されたSb−Y−Si−C−Oで示される複合酸化物を用い、かつそのシリコンおよび炭素の供給源として炭化珪素の化合物を用いる。 - 特許庁
To provide a method and device for converting a cement source into fuel capable of simultaneously and efficiently detoxifying a halogen in a halogen-containing waste and an alkali metal in a waste glass and also recycling as a resource by using the waste heat from a cement manufacturing process as a heat source.例文帳に追加
セメント製造プロセスからの廃熱を熱源として利用し、ハロゲン含有廃棄物中のハロゲンと廃ガラス中のアルカリ金属とを効率よく同時に無害化し、且つ再資源化することを可能とするセメント原燃料化方法及びその装置の提供。 - 特許庁
The method for depositing the ruthenium film on the substrate via liquid source chemical vapor deposition, comprises the source material which is liquid at room temperature, and utilizing process conditions such that deposition of the ruthenium films occurs at a temperature in the kinetic-limited temperature regime.例文帳に追加
液体供給源の化学気相堆積によりルテニウム膜を基板に堆積する方法では、供給源材料が室温で液体であり、ルテニウム膜の堆積が動力学的に限定された温度領域の温度で行われるように処理条件を利用する。 - 特許庁
The detection region 121, the slab type spectroscopic part 108, the light detection part 111, and the control circuit 114 are formed in one and the same manufacturing process by a heretofore known silicon processing technology, a light source 105 and the power source part are easily integrated by mounting.例文帳に追加
検出領域121,スラブ型分光部108,光検出部111、制御回路114は、公知のシリコン加工技術により同一の製造課程で形成可能であり、光源105や電源部は、装着することで一体化することが容易である。 - 特許庁
The method for producing an NiP nonmagnetic plating film by an electroplating process is characterized in that plating is performed using an NiP plating liquid containing a reagent to form into a feeding source of nickel ions and a reagent to form into a feeding source of phosphorous ions, and a reagent having carboxyl groups.例文帳に追加
電解めっき法によりNiP非磁性めっき膜を製造する方法であって、ニッケルイオンの供給源となる試薬とリンイオンの供給源となる試薬と、カルボキシル基を有する試薬を含有するNiPめっき液を使用してめっきすることを特徴とする。 - 特許庁
To make determination of high reliability according to information that closely matches the actual state of a reflection source, by calculating the position of the reflection source from the distance over which a detected reflected echo propagates, using a method for determining flaws in the specimen by means of mode conversion tandem process.例文帳に追加
モード変換タンデム法による被検査体傷判定方法において、検出された反射エコーについて、その伝搬距離から反射源の位置を算出し、反射源の実体に即した情報から信頼性の高い判定を行うことができるようにする。 - 特許庁
To process only an audio source signal by removing a dark noise signal after discriminating each of the audio source signal and the dark noise signal while using the phase change and transition of an audio signal, the amplitude strength of the signal and a frequency change caused by the Doppler effect.例文帳に追加
音声信号の位相変化及び偏移と、信号の振幅強度及びドップラー効果に起因する周波数変化を用いて、音声源信号及び暗騷音信号のをそれぞれを判別した後、前記暗騷音信号を削除し、音声源信号のみを処理する。 - 特許庁
The thin-film-forming apparatus 1 comprises: a source gas supply means for supplying the source gas containing an organosilane compound to the reaction chamber 2; and a CVD section 3 for forming the thin film on the object to be thin-film-formed in the reaction chamber 2 through a CVD process.例文帳に追加
有機シラン化合物を含有する原料ガスを前記反応室2へ供給する原料ガス供給手段と、前記反応室2内において、CVD法によって前記被薄膜形成対象物上に前記薄膜を形成するCVD部3とを備える。 - 特許庁
To shorten a period of time required to process to write a generated source code and to perform the re-build of an execution object efficiently in an apparatus of automatically creating a plurality of the source codes, based on design information and a template after change.例文帳に追加
変更後の設計情報とテンプレートとに基づいて複数のソースコードを生成するソースコード自動生成装置において、生成したソースコードの書き出し処理に要する時間を短くすると共に、実行オブジェクトの再ビルドを効率的に行えるようにする。 - 特許庁
During the treatment of the substrate W by the treatment liquid, a fluctuation is imparted to a process parameter by the control of liquid introduction valves 41-44, flow rate adjustment valves 101-104, a pure water supply source valve 51, a warm pure water supply source valve 52 and a pure water valve 5, etc.例文帳に追加
処理液による基板Wの処理中に、薬液導入バルブ41〜44、流量調整バルブ101〜104、純水供給源バルブ51、温純水供給源バルブ52、純水バルブ5などの制御によって、プロセスパラメータに揺らぎが付与される。 - 特許庁
The method for manufacturing an aluminum titanate-based ceramic includes a process for firing a raw material mixture containing a titanium source compound, an aluminum source compound and a glass frit, wherein the glass frit contains boron of 0.5-12 wt.%.例文帳に追加
チタン源化合物、アルミニウム源化合物およびガラスフリットを含む原材料混合物を焼成する工程を有するチタン酸アルミニウム系セラミックスの製造方法で、前記ガラスフリットは、ホウ素を0.5wt%以上12wt%以下で含む製造方法とすること。 - 特許庁
The method for manufacturing an aluminum titanate-based ceramic includes a process for firing a raw material mixture containing a titanium source compound, an aluminum source compound and a glass frit, wherein the glass frit contains fluorine of 0.5 wt.% or more.例文帳に追加
チタン源化合物、アルミニウム源化合物およびガラスフリットを含む原材料混合物を焼成する工程を有するチタン酸アルミニウム系セラミックスの製造方法で、前記ガラスフリットは、フッ素を0.5wt%以上含むチタン酸アルミニウム系セラミックスの製造方法とすること。 - 特許庁
Even when a source bus line or a drain wiring line in the data wiring layer 20 is short-circuited to the metal wire 31 through a conductive foreign matter or the like depositing in a manufacturing process, electric connection between the source bus line and the drain wiring line can be cut or prevented by the discontinuity 32.例文帳に追加
データ配線層20のソースバスラインまたはドレイン配線と金属線31とが、製造工程で付着した導電性異物などを介して短絡した場合にも、切れ目32によりソースバスラインとドレイン配線との電気的接続が切断ないし阻止される。 - 特許庁
In this multidimensional analysis system, the OLAP server 30 receives an update command from an OLAP database update processing part 13, receives a command from a data source selection processing part 15, selects a data source for executing connection to a relational database that is a processing target, and starts an update process.例文帳に追加
OLAPデータベース更新処理部13からの更新指令を受け、さらにデータソース選定処理部15からの指令を受けて処理対象のリレーショナルデータベースに接続するためのデータソースを選定した後に、OLAPサーバ30は更新処理を開始する。 - 特許庁
In this dish washing and drying machine, a hard water-generating tub 23 is fixed in the water supplying route and its washing process is carried out using hard water whose hardness is heightened from the water supplied from its outer water source for the water supply for the washing process.例文帳に追加
このような食器洗い乾燥機において、給水経路に硬水生成槽23を配設し、洗浄工程における給水として外部給水源から供給される供給水よりも硬度を高めた硬水を用いて洗浄工程を実行する。 - 特許庁
Codes which decide necessity of a break request according to a state of a stepwise execution activation flag to a plurality or all of execution process units of an execution program corresponding to process sections of which stepwise execution is desired to be performed on a source program, are inserted into the execution program.例文帳に追加
ソースプログラム上のステップ実行をさせたい処理区間に対応する、実行プログラムの実行処理単位の複数あるいは全てに、ステップ実行活性化フラグの状態に応じてブレーク要求の要否を決めるコードを、実行プログラムに挿入する。 - 特許庁
To provide a highly reliable process for the mass production of a junction between an electrode and an external power source or an electrical control device having an uniform and low electrical contact resistivity through an electrical lead in the field of the process and manufacture of an organic electric device.例文帳に追加
有機電子デバイスの処理および製造の分野において、電気的なリードを介して、均一かつ低い電気的接触抵抗で、電極と外部電源または電気的な制御デバイスとの接続部の量産において、高信頼性のプロセスを提供することである。 - 特許庁
The computer nodes at distribution destinations process the distributed partial inquiries and send the results back and an inquiry integrating process means 14 on a computer node at a distribution source derives the whole result while merging the returned results of the partial inquiries.例文帳に追加
配布先の各計算機ノード2−1〜2−nでは、配布された部分問合せの処理を行って結果を返し、配布元の計算機ノード上の問合せ統合処理手段14では、返却された部分問合せの結果をマージしながら問合せ全体の結果を導出する。 - 特許庁
The system and the method for accessing a data base in relation to the process control system transmit a request to information from a client application to an intermediate data server and determine whether or not the information is stored in a data source related to the intermediate data server process.例文帳に追加
プロセス制御システムに関連するデータベースをアクセスするシステム及び方法は、クラアントアプリケーションからの情報に対する要求を中間データサーバに送り、その情報がその中間データサーバプロセスに関連するデータソース内に格納されているかを決定する。 - 特許庁
In the plasma process device 100 using a gas as the process gas in which at least He and N_2 are contained, high frequency from a plasma excitation power source is impressed across electrodes under atmospheric pressure or pressure approximately of the atmosphere in order to generate the plasma, and the treating subject is plasma-treated.例文帳に追加
プラズマプロセス装置100は、プロセスガスとして、少なくともHeとN_2とを含むガスを用い、大気圧または大気圧近傍の圧力下で電極間にプラズマ励起用の電源に高周波を印加してプラズマを生成し、被処理物をプラズマ処理する。 - 特許庁
This method comprises: a process of coating an element isolation region and at least a part of an element region adjacent to the element isolation region by a resist layer; and a process of completely removing the oxide film on the source and drain regions and on the gate electrode by acidification or anisotropic etching.例文帳に追加
素子分離領域及び少なくとも素子分離領域に隣接した素子領域をレジスト層で覆う工程と、ソース、ドレイン領域及びゲート電極上の前記酸化膜を酸処理及び異方性エッチングにより完全に除去する工程を有する。 - 特許庁
Preferably in order to efficiently carry out the carbonation process, the amount of the carbon dioxide gas supplied to the source material is once decreased or stopped in the course of the carbonation process so as to suppress dissolution of carbon dioxide gas with water depositing on the surface.例文帳に追加
好ましくは、炭酸化処理を効率的に行うために、炭酸化処理の途中で、一旦原料に供給する炭酸ガス量を減少させるか若しくは炭酸ガスの供給を休止することにより、表面付着水への炭酸ガスの溶解を抑制する。 - 特許庁
Based on the reflection information of the reflection map texture, the lighting model and the light source information, the lighting process part performs a lighting process for expressing the gloss of the liquid in a liquid sticking area set as the area of the character's surface to which the liquid (sweat) sticks.例文帳に追加
ライティング処理部は、反射マップテクスチャの反射情報と照明モデルと光源情報に基づいて、キャラクタの表面のうち液体(汗)が付着する領域として設定される液体付着領域において、液体の光沢を表すためのライティング処理を行う。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing an optical fiber preform capable of suppressing the increase of polarized wave dispersion and transmission loss due to the deformation of a glass pipe at a heating process of the glass pipe by a heating source at a manufacturing process of the optical fiber preform and to provide the optical fiber preform.例文帳に追加
光ファイバ母材の製造過程での熱源によるガラスパイプの加熱工程における該ガラスパイプの変形による、偏波分散や伝送損失の増大を抑制し得る光ファイバ母材の製造方法及び光ファイバ母材を提供すること。 - 特許庁
To provide a method for fully utilizing a heat amount in which a combustible waste material holds as the heat source in a refining process in addition to minimization of the pre-process, such as molding, in a method for recovering to the maximum the heat amount in which the combustible waste material holds.例文帳に追加
可燃性廃棄物の保有熱量を最大限回収するための方法として成形などの事前プロセスを最小限とした上で、可燃性廃棄物の保有熱量を精錬プロセスの熱源として確実に利用するための方法を提供する。 - 特許庁
To provide a light source system for an aligner which can irradiate a substrate with light corresponding to the kind of a process and the characteristics of photosensing agent applied on a substrate at the process, in spite of a simple constitution, and also, which can be efficiently manufactured at a low cost.例文帳に追加
簡素な構成でありながら工程の種類や該工程中に基板に塗布される感光剤の特性に対応した光を照射することができ、かつ安価で効率よく製造することができる露光装置用光源システムを提供すること。 - 特許庁
To provide a semiconductor device having a trench isolation structure, wherein related to a CMOS integrated circuit, etc., it comprises multiple power source voltage using trench isolation as an element isolation method, both isolation characteristics between NMOS and PMOS at a low power source voltage part and a latch-up resistance of a high power source voltage part are maintained without difficulty in the manufacturing process.例文帳に追加
素子分離方法としてトレンチ分離を用いた多電源電圧を有するCMOS集積回路等において、低電源電圧部のNMOSとPMOSの分離特性と高電源電圧部のラッチアップ耐性を両立することができると共に、製造工程上の困難性を伴わないトレンチ分離構造を有する半導体装置を提供する。 - 特許庁
The source and drain electrode sections are formed by successively etching an insulating film 13, an ohmic-contact source electrode and drain electrode layer 12, and a low- resistance diamond layer 11 which transmits carriers metallically and has a certain degree of doping concentration in one photolithography process after the diamond layer 11, source electrode and drain electrode layer 12, and insulating film 13 are successively formed on the diamond layer 10.例文帳に追加
ソース及びドレイン電極部は、高抵抗ダイヤモンド層10の上にキャリアの伝導が金属的である程度のドーピング濃度を持つ低抵抗のダイヤモンド層11と、オーミック接触性のソース電極及びドレイン電極層12と、絶縁膜13とが順次積層された後、一回のフォトリソグラフィにより順次エッチングされて形成されている。 - 特許庁
A DC current for recording is supplied to a laser light source 2 when a signal is recorded, a target value pulse current for reproduction is supplied to the laser light source 2 when a signal is reproduced, and a pulse current gradually decreasing from a target value for recording to a target value for suppression is supplied to the laser light source 2 when the process is transferred from the signal recording to reproduction.例文帳に追加
信号の記録時には記録用の直流電流をレーザ光源2に供給し、信号の再生時には再生用目標値のパルス電流をレーザ光源2に供給し、信号の記録から再生への移行時には、記録用目標値から抑制用目標値に徐々に減少するパルス電流をレーザ光源2に供給する。 - 特許庁
To provide an illumination fixture in which scrape sounds between a cover covering a light source from below and the end member to support this can be suppressed and in which a process for this suppression is not necessary.例文帳に追加
光源を下方から覆うカバーとこれを支持する端部材との間での擦過音の発生を抑制できるとともに、この抑制のための工程を要しない照明器具を提供する。 - 特許庁
To provide a thermoelectric module wherein a process of heating a raw material allowing efficient heating in a short time is used as a switch for power generation by heating the raw material to use it as a heat source.例文帳に追加
効率よく短時間で熱することが可能な素材を加熱して熱源として用い、当該素材を熱する処理の有無を発電のスイッチとすることが可能な熱電モジュールの提供。 - 特許庁
The base-band section 20 is actuated only when supplied with the electric power from the DC power source 21 to process the correlation peak signal to be output from the matched filter 12.例文帳に追加
ベースバンド部20は、DC電源21から電源供給されたときのみ起動状態となり、マッチドフィルタ12から出力される相関ピーク信号に対して信号処理を行う。 - 特許庁
To provide a process for providing large amounts of defined material in the development of a defined commercial source of CLA for both therapeutic and nutritional application.例文帳に追加
治療的および栄養的応用の両方のための、CLAの規定された商業的供給源の開発において、大量の規定された材料を調製するためのプロセスを提供すること。 - 特許庁
To suppress increase in junction depth of source and drain diffusion layers connected to a second storage node electrode via an embedded strap in a high-temperature process, after forming the buried strap.例文帳に追加
埋込みストラップ形成後の高温工程における、埋込みストラップを介して第2ストレージノード電極に接続したソース/ドレイン拡散層の接合深さの増加を抑制すること。 - 特許庁
To provide a semiconductor device in which the channel formation region can be thinned without adversely affecting a source region and a drain region through a simple process, and a method for manufacturing the semiconductor device.例文帳に追加
簡単な工程でソース領域及びドレイン領域に悪影響を与えることなくチャネル形成領域の薄膜化が可能な半導体装置及びその作製方法を提供する。 - 特許庁
To solve the problem easy to generate bench cut of a subsequent pixel electrode and contact unstability in a contact forming process in five mask processes and four mask processes, when using an aluminum layer for source/drain wiring.例文帳に追加
ソース・ドレイン配線にアルミニウム層を用いると、5枚マスク・プロセスと4枚マスク・プロセスにおいてコンタクト形成工程では後続の絵素電極の段切れやコンタクト不安定が発生し易い。 - 特許庁
To provide a chip type light-emitting diode which is fitted to a motherboard together with another electronic part in the same process and is very effective as a light source of a liquid-crystal back light.例文帳に追加
マザーボードに他の電子部品と同じ工程の中で一度に取付けることができる共に、液晶バックライトの光源として極めて有用であるチップ型発光ダイオードを提供する。 - 特許庁
To guarantee data against data breakdown, when a power source is interrupted during data writing-and-reading process without the deterioration of processing time and memory-usage efficiency.例文帳に追加
データの書き込み及び読み出しの処理途中に電源が途絶した場合におけるデータ破壊に対するデータ保証を、処理時間やメモリ使用効率を劣化させることなく実現可能にする。 - 特許庁
To output a plurality of clocks in which a phase relation becomes constant in accordance with the cycle of an external clock, even if there is fluctuations in element characteristics due to power source voltage, variations in the temperature and manufacturing process.例文帳に追加
電源電圧、温度変動、製造プロセスによる素子特性の変動があっても、外部クロックの周期に応じて位相関係が一定になる複数のクロックを出力する。 - 特許庁
To provide a thin-film transistor allowing a miniaturization process to be applied while reducing contact resistance between an organic semiconductor layer and a source electrode/drain electrode, and having an excellent characteristic.例文帳に追加
有機半導体層とソース電極/ドレイン電極との間のコンタクト抵抗を図りながらも微細化プロセスの適用が可能でかつ良好な特性を有する薄膜トランジスタを提供する。 - 特許庁
In the process where the base layer 10 is formed, a silicon source 91 composed of materials including silicon, which is different from the SiC substrate 20 and the base substrate 10, is placed in the crucible 70.例文帳に追加
そして、ベース層10を形成する工程では、坩堝70内に、SiC基板20およびベース基板10とは別の、珪素を含む物質からなる珪素発生源91が配置される。 - 特許庁
The display panel 8 is a pattern itself desired to be displayed or the pattern on which a mortise process is performed, and an LED or an EL element light source is disposed on an end surface of the display panel 8.例文帳に追加
表示パネル8には表示したいパターンそのもの又はそのパターンをくりぬき加工した物であり、LED又はEL素子光源は表示パネル8の端面に配置される。 - 特許庁
In the inspection process, illuminating light having a wavelength of 400 nm or less is applied from a light source 7 to the lamination film and light from the lamination film is imaged on a CCD 24 by lens optical systems 13, 24.例文帳に追加
検査工程は、積層膜に波長400nm以下の照明光を光源7から照射し、積層膜からの光をレンズ光学系13,24でCCD24に結像させる。 - 特許庁
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