「source process」に関連した英語例文の一覧と使い方(14ページ目) - Weblio英語例文検索

When the preparation of the business process is instructed from an operation device 600, an application server 200 acquires definition information of the service component which internally includes a parameter indicating an undefined value, rewrites the acquired undefined parameter of the service component into an actual value, generates the definition information of the business process where the service component is in-lined in the usage source business process, and then, performs the business process.例文帳に追加

アプリケーションサーバ２００は、運用装置６００からビジネスプロセスの配備の指示を受けたとき、内部に未定義値を示すパラメータを含むサービス部品の定義情報を取得し、取得したサービス部品の未定義パラメータを実際の値に書き換えるとともに、そのサービス部品を利用元ビジネスプロセス内にインライン化したビジネスプロセスの定義情報を生成した後、そのビジネスプロセスを実行する。 - 特許庁

The method icnludes: a first decomposition process decomposing bean curd refuse by cultivating Trichoderma or Clostridium with the bean curd refuse as a carbon source; a sterilization process sterilizing bean curd refuse decomposed matter produced by the first decomposition process; and a second decomposition process decomposing Trichoderma or Clostridium residing in sterilized matter by contacting the sterilized matter after the sterilization process with Lysobacter to cultivate the Lysobacter.例文帳に追加

おからを炭素源としてトリコデルマ（Trichoderma）またはクロストリジウム（Clostridium）を培養することで前記おからを分解する第１分解工程、前記第１分解工程で生じたおからの分解処理物を殺菌処理する殺菌工程、および前記殺菌工程後の殺菌処理物をリソバクター（Lysobacter）と接触させ、該リソバクター（Lysobacter）を培養することで、該殺菌処理物中に存在するトリコデルマ（Trichoderma）またはクロストリジウム（Clostridium）を分解する第２分解工程を有する。 - 特許庁

A laser printer 1 connected to a power source at T0 timing is made to be ready mode when fixing temperature becomes standby temperature (T1 timing) or after the printing process (T3, T6 and T9 timing) and a subsidiary fan and a power source fan are driven at a medium rotational speed.例文帳に追加

Ｔ０タイミングに電源が投入されたレーザプリンタ１は、定着温度が待機温度となった場合（Ｔ１タイミング）、または印刷処理後（Ｔ３，Ｔ６，Ｔ９タイミング）にはレディモードとなり、サブファン、電源ファンが中速回転駆動される。 - 特許庁

When a voltage of an output power source of the power source device 30 becomes less than a power failure voltage (a value larger than an operation stop value of the controller 10 by a prescribed value), and when a power failure signal is inputted, the controller 10 executes a power failure process.例文帳に追加

また、制御装置１０は、電源装置３０の出力電源の電圧が停電電圧（制御装置が動作を停止する値より所定値だけ大きい値）未満に低下して停電信号が入力されると、停電処理を実行する。 - 特許庁

To solve a problem wherein an inclined pattern is formed due to absorption of the light by the photoresist resin at the wavelength used for the light source in a lithographic process using KrF or ArF laser, VUV rays, EUV rays, electron beams, ion beams or the like as the light source.例文帳に追加

ＫｒＦ、ＡｒＦ、ＶＵＶ、ＥＵＶ、電子線（E-beam）及びイオンビーム（ion beam）等の光源を利用したリソグラフィー工程時に、フォトレジスト樹脂が光源に用いられる波長の光を吸収して傾斜したパターンを形成することを解決する。 - 特許庁

To stabilize a temperature on a substrate surface in response to even a difference in heat generation amount at each substrate in an electron source manufacturing process, improve an electron emission property and performance such as a service life of an electron source and also reduce variations in performance of each substrate.例文帳に追加

電子源製造プロセス中の基板毎の発熱量の違いにも対応して基板表面の温度を一定に制御し、電子源の電子放出特性や寿命等の性能を向上させ、且つ、基板毎の性能ばらつきを小さくする。 - 特許庁

As the source electrode 107 can be formed of two layers and an etching process of the second metal layer 1072 of the source electrode 107 in the through hole 130 can be eliminated, the cost for manufacturing the liquid crystal display device can be reduced.例文帳に追加

ソース電極１０７を２層で形成できることと、スルーホール１３０におけるソース電極１０７の第２の金属層１０７２のエッチングプロセスを削減することができるので液晶表示装置の製造コストを低減することが出来る。 - 特許庁

To provide an electrostatic attraction device capable of securing the soaking property of a glass substrate, even in a high-temperature process in electron source formation though in large-sized constitution capable of attracting a large-sized glass substrate for the electron source formation using a single body.例文帳に追加

電子源形成用の、大型のガラス基板を単体で吸着可能な大型の構成でありながら、電子源形成における高温プロセス時においてもガラス基板の均熱性を確保することのできる静電吸着装置を提供する。 - 特許庁

In this process, the hologram memory 1 is irradiated with first reference light from a second light source to reproduce all the recorded multi-hologram and the hologram memory 2 to be a copy is irradiated with the above multi-hologram and second reference light from a third light source 5.例文帳に追加

この時、ホログラムメモリ２に第二光源から第一参照光を照射して、記録されている多重ホログラムを一括再生し、コピーとなるホログラムメモリ２に上記多重ホログラムと第三光源５から第二参照光とを照射する。 - 特許庁

When the transmission source of the illegal access is already registered in an attention-needing monitoring service list, a risk degree higher than a prescribed risk degree required from the contents of the illegal access is used in a risk degree management process of the transmission source in the blacklist management part.例文帳に追加

ブラックリスト管理部での送信元の危険度管理処理において、不正アクセスの送信元がすでに要注意監視サービスリストに登録されている場合、不正アクセスの内容から求められる所定の危険度よりも高い危険度を用いる。 - 特許庁

The light guide body 7 is formed by an integrated molding process so that the light source 6 may be included therein and the terminals 6a, 6a may be exposed outside, thereby the light source 6 is arranged always at a constant location against the light guide body 7.例文帳に追加

導光体７は光源６をその内部に含むように且つ端子６ａ，６ａがその外部に露出するように一体成形処理によって形成され、これにより、導光体７に対して光源６を常に一定の位置に配設する。 - 特許庁

This method for producing β-glucanase and xylanase includes a process for culturing a microorganism belonging to genus Trichoderma in a liquid culture medium containing (a) squeezed fruit residues as a carbon source and (b) ammonia form nitrogen or amine form nitrogen as a nitrogen source.例文帳に追加

（ａ）炭素源として果実の絞り粕、及び（ｂ）窒素源としてアンモニア態窒素又はアミノ態窒素を含む液体培地を用いて、トリコデルマ属に属する微生物を培養する工程を包含するβ−グルカナーゼ及びキシラナーゼの製造方法。 - 特許庁

This method for producing β-glucanase and xylanase includes a process for culturing a microorganism belonging to genus Trichoderma in a liquid culture medium containing (a) squeezed barley-tea residues as a carbon source and (b) ammonia form nitrogen or amine form nitrogen as a nitrogen source.例文帳に追加

（ａ）炭素源として麦茶抽出粕、及び（ｂ）窒素源としてアンモニア態窒素又はアミノ態窒素を含む液体培地を用いて、トリコデルマ属に属する微生物を培養する工程を包含するβ−グルカナーゼ及びキシラナーゼの製造方法。 - 特許庁

The method for producing β-glucanase and xylanase includes a process for culturing a microorganism belonging to genus Trichoderma in a liquid culture medium containing (a) wheat bran as a carbon source and (b) an ammonia-form nitrogen or an amino-form nitrogen as a nitrogen source.例文帳に追加

（ａ）炭素源として小麦ふすま、及び（ｂ）窒素源としてアンモニア態窒素またはアミノ態窒素を含む液体培地を用いて、トリコデルマ属に属する微生物を培養する工程を包含するβ−グルカナーゼ及びキシラナーゼの製造方法。 - 特許庁

In the fabrication process of an organic thin filter transistor, a water repellent pattern is formed on a source electrode and a drain electrode, organic semiconductor solution is introduced between the source electrode and the drain electrode and then the solvent is removed thus forming an organic semiconductor layer.例文帳に追加

ソース電極、ドレイン電極上に撥水パターンを形成した後に、ソース電極、ドレイン電極間に有機半導体溶液を導入し、溶媒を除去して有機半導体層を形成する、ことを特徴とする有機薄膜トランジスタの製造方法。 - 特許庁

To provide a means capable of obtaining the excellent read image even if ambient light has an adverse effect on the means when a light source is regulated in light volume in an image reading device which reads in images through a process of irradiating a manuscript with light emitted from a light source.例文帳に追加

光源から原稿に光を照射して画像読取りを行う画像読取装置において、光源の光量調整において外光の影響を受けた場合にも良好な読取画像を得ることができる手段を提供する。 - 特許庁

To make waste plastics containing vinyl chloride resin such as ASR (Automobile Shredder Residue) into a heat source and a chlorine source without sorting, dry distillation or dechlorination process and to make lead contained in zinc-containing waste into resources as raw materials for refining zinc or lead by being subjected to chlorination volatilization.例文帳に追加

ＡＳＲなど塩化ビニル樹脂を含有する廃プラスチックを分別や乾留・脱塩素プロセスなしで熱源及び塩素源とし、亜鉛含有廃棄物に含まれる鉛を塩化揮発させて亜鉛・鉛製錬原料として資源化する。 - 特許庁

To efficiently switch the deleting mode of data under processing in a system finishing process after switching the operation to a backup power source from the usual DC source in the event of an unimaginable power down, thus improving the security.例文帳に追加

想定しない電源遮断が発生した場合に、通常のＤＣ電源からバックアップ電源に動作を切り替えた後のシステム終了プロセス内で、処理中データの消去方式を効率的に切り替え、セキュリティ性を向上可能とする。 - 特許庁

In order to form an oxide film in a process chamber 204, the quality of the film is improved by irradiating a wafer 210 with the energy of light such as ultraviolet light from a light source 216, in addition to a heat source 214 to heat the wafer 210.例文帳に追加

酸化皮膜をプロセスチャンバ２０４内にて形成するために、ウエハ２１０を加熱するための熱源２１４に加えて、光源２１６により紫外線光等のような光のエネルギをウエハ２１０に照射することにより、皮膜の品質を向上させる。 - 特許庁

The rear localization attaching means use a transfer function from positions of front speakers to both the ears to process the sound sources so that a sound signal from the sound source of the left channel is given to the left ear and a sound signal from the sound source of the right channel is given to the right ear.例文帳に追加

このリア定位付加は、前方のスピーカの位置から両耳までの伝達関数を用いて、左の耳には左側のｃｈのみの音源が、右の耳には右側のｃｈのみの音源が入力されるように音源を加工する。 - 特許庁

In the method for manufacturing the polyurethane roller, when the polyurethane foam layer is formed by foaming a polyurethane source material, the foaming process is carried out after the conductive carbon black and the dispersant are added to the polyurethane source material.例文帳に追加

前記ポリウレタンローラの製造方法であって、ポリウレタン原料を発泡させて前記ポリウレタンフォーム層を形成する製造方法において、前記ポリウレタン原料中に、前記導電性カーボンブラックおよび分散剤を添加した後、発泡を行う。 - 特許庁

To provide a circuit for clamping a word-line voltage which can generate a pumping voltage of a potential being stable even for variation of power source voltage in a process in which power source voltage is pumped for not only a flash memory cell but an element driven by a high voltage.例文帳に追加

フラッシュメモリセルだけでなく、高電圧によって駆動される素子のために電源電圧をポンピングする過程において電源電圧の変化にも安定した電位のポンピング電圧を発生させ得るワードライン電圧クランピング回路を提供すること。 - 特許庁

To increase an output and reduce a size by using an outer rotor type electric motor as a driving source, in a portable cutting device moved along an upper face of a cut material to perform a cut process; and enable stable operation and enhance durability by considering cooling of the outer rotor type electric motor when it is used as the driving source.例文帳に追加

切断材の上面に沿って移動させて切断加工を行う携帯形の切断機において、アウタロータ型の電動モータを駆動源として用いることにより、その高出力化及びコンパクト化を図ることができる。 - 特許庁

To provide a method for stably producing a large quantity of low phosphorus steel and for achieving a high-efficient steel-making refining process without using halide material such as fluorite and Al_2O_3 source in the whole steel-making refining process using a converter.例文帳に追加

転炉を用いる製鋼精錬プロセス全体として蛍石等のハロゲン化物やＡｌ_２Ｏ_３源を使用すること無く、低燐鋼を安定的に大量製造すると共に、製鋼精錬プロセスを高能率かつ高効率化する方法を提供する。 - 特許庁

To properly use various types of recording paper according to a process mode with a limited number of paper supplying cassettes as supplying source of paper and to carry out type selection of the recording paper matching each of the various process modes.例文帳に追加

給紙元としての給紙カセットの数に限りがある中で、処理モードに応じて多様な種別の記録紙を使い分けることができ、また多様な処理モードごとにそれぞれ適合する記録紙の種別選択を行うことができるようにする。 - 特許庁

If the notification validation part 15 determines that the signal name of the anomaly notification signal is not an alarming process enabling signal name, on the other hand, the notification processing part 16 does not perform the alarming process about the source indicated by the signal name.例文帳に追加

また、通知有無判別部１５が異常通知信号の信号名がアラーム処理対象信号名でないと判別した場合には、通知処理部１６は当該信号名で示される異常発生元に関わるアラーム処理を行なわない。 - 特許庁

The manufacturing method of a subquatermicron gate FET comprises a process for simultaneously forming a source electrode 7a, a drain electrode 7b and an exposure criterion metal film on a semiconductor substrate 1 and a process for forming a gate electrode 10 on the substrate 1 with the exposure criterion metal film as the criterion.例文帳に追加

半導体基板１上にソース電極７ａとドレイン電極７ｂと露光基準金属とを同時に形成する工程と、露光基準金属を基準として半導体基板１上にゲート電極１０を形成する工程とを備える。 - 特許庁

Further, since the sensor 10 has the polysilicone-made channel 16, a silicon oxide film 12b, a drain electrode 14, a source electrode 15 and the channel 16 can be easily formed using a semiconductor manufacturing process same to a TFT manufacturing process.例文帳に追加

また、センサ１０は、チャネル１６がポリシリコンで形成されているので、ＴＦＴを製造するのと同様の半導体製造工程を用いて、容易に酸化シリコン膜１２ｂ、ドレイン電極１４、ソース電極１５及びチャネル１６を形成することができる。 - 特許庁

Further, in the case of a request from a request source employing a wireless communication system, the image processing apparatus generates a process function and shifts to a wireless queue, performs charging processing corresponding to the wireless queue and performs the process function in response to the preset state of use (322 to 326).例文帳に追加

また、無線からの要求の場合には、処理機能を生成して無線用キューに移動し、無線用キューに対応する課金処理を行うと共に、予め設定された利用状態に応じた処理機能を実施する（３２２〜３２６）。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus of which the time required for a starting process when a main power source is started and a returning process when returning from a sleep mode are shortened increasing neither the cost nor the size of the apparatus, and to provide a control method for the image forming apparatus.例文帳に追加

コストの増加や装置の大型化を招くことなく、主電源を起動する場合の起動処理及びスリープモードから復帰する場合の復帰処理に要する時間を短縮する画像形成装置及びその制御方法を提供する。 - 特許庁

To provide a material for adjusting the concentration of MgO in converter slag, which decreases the erosion of a liner refractory in a converter even though a ratio of a cold iron source is made higher than that in a conventional process, and can extend the life of a furnace body, and to provide a steel manufacturing process in the converter.例文帳に追加

本発明は、冷鉄源比率を従来より高くしても、転炉の内張り耐火物の溶損が少なく、炉体寿命を延長できる転炉スラグのＭｇＯ濃度調整材及転炉製鋼法を提供することを目的としている。 - 特許庁

In the process of making the germanium-antimony-tellurium alloy film using a process selected from the group consisting of atomic layer deposition and chemical vapor deposition, a silylantimony precursor is used as a source of antimony for the alloy film.例文帳に追加

原子層堆積及び化学気相成長からなる群より選択されるプロセスを用いてゲルマニウム−アンチモン−テルル合金膜を製造する方法であって、シリルアンチモン前駆体が該合金膜のためのアンチモン源として用いられる方法が提供される。 - 特許庁

To provide a positive photoresist composition superior in characteristics required for sensitivity and resolution and inner pattern profile dimensional stability from exposure process to heating process at the time of using far ultraviolet rays, especially, short wavelength light source, such as excimer laser beams.例文帳に追加

遠紫外光、とくにエキシマレーザー光などの短波長光源の使用に対して感度、解像力、定在波の内パターンプロファイル、露光から加熱工程までの寸法安定性などの必要特性の優れたポジ型フォトレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

Or the bidirectional optical transceiver module includes the photodetecting element which is installed on the printed board through a chip-on-board process and receives the 1st optical signal and the light source which is installed through a chip-on-board process and transmits the 2nd optical signal.例文帳に追加

または、本発明の双方向光トランシーバ・モジュールは、チップオンボード工程によりプリント基板上に設置され、第一の光信号を受信する受光素子と、チップオンボード工程により設置され、第二の光信号を送信する光源とを含む。 - 特許庁

When the source program F1 is converted into the object program F4, debugging process codes in the source program F1 are not converted into object codes and a debugging processing table T2 which is prescribed by object codes converted prior to the debugging process codes is generated to describe only the object codes needed for the actual operation in the generated object program.例文帳に追加

ソースプログラムＦ１をオブジェクトプログラムＦ４に変換する際に、ソースプログラムＦ１中のデバッグ処理コードを、オブジェクトコードに変換せず、該デバッグ処理コードに先立って変換されたオブジェクトコードに基づき規定するデバッグ処理テーブルＴ２を生成することにより、生成されたオブジェクトプログラムに実動作に必要なオブジェクトコードだけを記述する。 - 特許庁

Since the deposition or application process of the electrode films 4 and 5 and the EL emission layer 3, for forming the organic EL light source 1 and a sealing process for sealing the organic EL light source 1 in the vessel 2, can be considered as separate processes in terms of reaction and conduction, the flexibility in the sealing structure and the material are increased and a further simple method can be employed.例文帳に追加

有機ＥＬ光源１を形成する電極膜４、５およびＥＬ発光層３の蒸着または塗布工程と、有機ＥＬ光源１を容器２に密閉するための封止の工程を反応や導通の面で別の工程として考えることができるので、封止構造、材料の自由度が増し、より簡易な方法が採用できる。 - 特許庁

To provide a high-voltage transistor whose source/drain diffusion region can become a double diffusion drain junction structure, without forming a space oxide film by using a silicon nitride film as a protection film at impurity implantation, and for which the source/drain diffusion region of a more stabilized double diffusion structure can be formed by a one-time pattern process and an ion implantation process.例文帳に追加

高電圧用トランジスタの製造方法においてシリコン窒化膜を不純物注入時に防護膜とすることによってスペース酸化膜を形成しなくてもソース／ドレイン拡散領域を二重拡散ドレインジャンクション構造とし一度のパターン工程及びイオン注入工程により安定した二重拡散構造のソース／ドレイン拡散領域を形成する。 - 特許庁

When the contents of a copy source file A1 are transferred to a computer B through a communication passage C as shown by a mark (a) by a file replication process PA in a copy source computer A, a file replication process PB writes the contents of the file A1 in copy destination files B1-BN of a disc DB in parallel as shown by marks b1-bN.例文帳に追加

コピー元の計算機ＡのファイルレプリケーションプロセスＰＡによりディスクＤＡ中のコピー元ファイルＡ1の内容が通信路Ｃを介して符号ａで示すように計算機Ｂに転送されると、ファイルレプリケーションプロセスＰＢは当該ファイルＡ1の内容をディスクＤＢのコピー先ファイルＢ1〜ＢNに符号ｂ1〜ｂNで示すように並行して書き込む。 - 特許庁

In this manufacturing method for obtaining the semiconductor device, a low-resistance region in an N-type polycrystalline silicon resistor is formed simultaneously by a process for forming the source and drain of an NMOS transistor, and the low-resistance region in the P-type polycrystalline silicon resistor is formed simultaneously by a process for forming the source and drain of a PMOS transistor region.例文帳に追加

これを得る製造方法においては、ＮＭＯＳトランジスタのソース、ドレインを形成する工程で同時にＮ型多結晶シリコン抵抗体内の低抵抗領域を形成し、また、ＰＭＯＳトランジスタ領域のソース、ドレインを形成する工程で同時にＰ型多結晶シリコン抵抗体内の低抵抗領域を形成するようにした。 - 特許庁

A tomosynthesis X-ray imaging method includes a process for mechanically moving the X-ray source 3 in a stepped motion on an arc shaped path around an object using the tracks 5, 35, 45, and a process for irradiating the object with an X-ray dose from the X-ray source located at a plurality of steps along the arc shaped path.例文帳に追加

また、トモシンセシスＸ線撮像方法が、軌道（５、３５、４５）を用いて物体を中心とした円弧形経路上で段階的運動でＸ線源（３）を機械的に移動させる工程と、円弧形経路に沿った複数の段階に位置するＸ線源から一定のＸ線量で物体を照射する工程とを含んでいる。 - 特許庁

A manufacturing method of a semiconductor device includes a process for supplying a material gas, having a Si source containing H and a B source containing B and Cl into a reaction chamber to form the polysilicon film containing B on a semiconductor substrate, and a process for exhausting the material gas and then supplying O_2 gas into the reaction chamber.例文帳に追加

Ｈを含むＳｉ源およびＢおよびＣｌを含むＢ源を有する原料ガスを反応室内に供給して、半導体基板上にＢを含有したポリシリコン膜を形成する工程と、原料ガスを排出した後にＯ_２ガスを前記反応室内に供給する工程と、を具備してなることを特徴とする半導体装置の製造方法を採用する。 - 特許庁

Also, in the case of using a laser as the high energy light source, since the exposure process is performed by exposing a laser light source to the photosensitive material of an area where the microlens is scheduled to be formed and irradiating it with a laser beam, the exposed photosensitive material surface is fused by the heat treatment and the microlens is formed, a mask can be omitted at the time of the exposure process.例文帳に追加

また、高エネルギー光源としてレーザーを使用する場合、マイクロレンズが形成される予定領域の感光材にレーザー光源を当ててレーザービームを照射することにより露光工程を行い、熱処理で露光された感光材表面を溶融させてマイクロレンズを形成できるので、露光工程時にマスクを省略できる。 - 特許庁

According to a normal manufacturing process for double diffused MOSFET, p-base region 2, a p+ contact region 3, an n+ source region 4, a gate electrode layer 5, and a source electrode 15 are provided on the surface layer of an n-type semiconductor base body to form a surface MOSFET.例文帳に追加

通常の２重拡散ＭＯＳＦＥＴの製造工程に従い、ｎ型半導体基体の表面層に、ｐベース領域２とｐ^+コンタクト領域３とｎ^+ソース領域４とゲート電極層５とソース電極１５を設けて表面ＭＯＳＦＥＴを形成する。 - 特許庁

To provide a vacuum processing device constituted of an enclosure with a plurality of separated chambers formed inside, a gas distribution assembly arranged at each process chamber, a gas source connected to the separated chambers, and a power source device connected to each gas distribution assembly.例文帳に追加

複数の分離されたチャンバが内部に形成されたエンクロージャと、各処理室に配置されたガス分配アセンブリと、分離チャンバに接続されたガス源、および各ガス分配アセンブリに接続された電源装置によって構成される真空処理装置を提供する。 - 特許庁

When the position of a state serving as the source of a transition is designated by the content of operation at an operating part 11, a pointer display control part 53a displays a pointer as an icon indicating that the position of the state serving as the source of the transition has been designated by the process of the above operation step.例文帳に追加

操作部１１の操作内容により遷移元となる状態の位置が指定された場合、ポインタ表示制御部５３ａは、ポインタを前記操作ステップの処理により遷移元となる状態の位置が指定されたことを示すアイコンとして表示する。 - 特許庁