「sputtering」に関連した英語例文の一覧と使い方(77ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a barium silicide polycrystal having a low oxygen content, which has high density and no crack, and to provide a barium silicide sputtering target having a low oxygen content.例文帳に追加

高密度で割れのない低酸素含有量珪化バリウム多結晶体ならびに低酸素含有量珪化バリウムガリウムスパッタリングターゲットを提供する。 - 特許庁

To effectively detect arc discharge generated through a part subjected to capacitive coupling when film deposition is performed by sputtering using an AC power source.例文帳に追加

交流電源を用いたスパッタリングにより成膜するときに、容量結合した部分を通して発生したアーク放電を効果的に検出できるようにする。 - 特許庁

A conductor film 16 is formed by sputtering on a fine pattern formed on a glass original plate 15, and a plated film 17 is made of nickel by electrocasting.例文帳に追加

ガラス原盤１５に形成された微細パターンにスパッタで導電膜１６を形成し、さらに電鋳を行ってニッケルからなるめっき膜１７を形成する。 - 特許庁

In the structure, the titanium, tantalum or zirconium thin film and the protective thin film are formed on the surface of the substrate by performing a vapor deposition method or sputtering treatment to the substrate.例文帳に追加

その中、基板に対して、蒸着法やスパッタリング処理により、基板の表面に、チタンやタンタル或いはジルコニウム薄膜と保護薄膜が形成される。 - 特許庁

An undercoat layer 5 composed of ZnO and a transparent photocatalyst layer 7 composed of TiO_2 are sequentially formed on one side of the main body layer 3 by sputtering.例文帳に追加

この本体層３の片側に、スパッタリングにより、ＺｎＯから成るアンダーコート層５と、ＴｉＯ_２から成る透明光触媒層７とを順次形成した。 - 特許庁

To provide a cobalt-iron alloy sputtering target material which is produced by a simple melt casting method and has high leakage flux.例文帳に追加

本発明の主要な目的は、簡易な溶解鋳造法により製造する漏洩磁束の高いコバルト鉄合金スパッタリングターゲット材を提供することである。 - 特許庁

When all the layers are formed using a sputtering method, a vapor deposition method, or a chemical vapor phase growth method, a solid lithium ion secondary battery can be obtained.例文帳に追加

全ての層をスパッタ法、蒸着法、または化学気相成長法を用いて形成すれば、固体リチウムイオン二次電池も実現することができる。 - 特許庁

The magnetron sputtering apparatus 1 is provided with a cathode electrode 5, a magnetic field forming part 7 for forming the magnetic field above a workpiece 10, and an anode electrode 13.例文帳に追加

マグネトロンスパッタリング装置１において、カソード電極５と、被加工体１０上に磁界を形成する磁界形成部７と、アノード電極１３とを備える。 - 特許庁

A ferroelectrics thin film element 10 contains a single crystal substrate 12 on which a conductive thin film 14 is formed with sputtering.例文帳に追加

強誘電体薄膜素子１０は単結晶基板１２を含み、単結晶基板１２上に、スパッタリングなどによって導電性薄膜１４を形成する。 - 特許庁

The BiTi based oxide sputtering target contains a metal oxide phase including Bi and Ti, and has a thermal conductivity of ≥1.4 W/mk.例文帳に追加

ＢｉとＴｉとを含む金属酸化物相を含むＢｉＴｉ系酸化物スパッタリングターゲットであって、熱伝導率が、１．４Ｗ／ｍｋ以上である。 - 特許庁

To provide a high frequency magnetron sputtering apparatus in which consistent film deposition is performed with high productivity and high yield.例文帳に追加

基板上での膜形成で、高い生産性を有し、安定した膜形成を行うことができ、歩留まりが高い高周波マグネトロンスパッタリング装置を提供する。 - 特許庁

An antireflection film 2 of a multilayer structure is formed by sputtering on the end face as an entrance face or an exit face of the graded index lens 1.例文帳に追加

屈折率分布型レンズ１の入射面或いは出射面となる端面には多層構造の反射防止膜２がスパッタリング法にて形成されている。 - 特許庁

The discharge space by the first partition member 13 is supplied with a sputtering gas and the reaction space by the second partition member 14 is supplied with a reaction gas.例文帳に追加

第１の仕切り部材１３による放電空間にはスパッタガスを、第２の仕切り部材１４による反応空間には反応性ガスをそれぞれ供給する。 - 特許庁

To provide a sputtering target which suppresses a nodule generated at sputter deposition, and can stably obtain an oxide semiconductor film with high reproducibility.例文帳に追加

スパッタ成膜時に発生するノジュールを抑制し、酸化物半導体膜を安定かつ再現性よく得ることができるスパッタリングターゲットを提供する。 - 特許庁

HIGH-PURITY HIGH-DENSITY METAL Mo SINTERING TARGET FOR SPUTTERING WHICH ENABLES FORMATION OF HIGH-PURITY METAL Mo THIN FILM PRODUCING EXTREMELY FEW PARTICLE例文帳に追加

パーティクル発生のきわめて少ない高純度金属Ｍｏ薄膜の形成を可能とするスパッタリング用高純度高密度金属Ｍｏ焼結ターゲット - 特許庁

Furthermore, an inert gas, for example, Ar ions are implanted into the aluminum layer 14 that is formed through sputtering, thus making it amorphous.例文帳に追加

その後、スパッタ形成したアルミニウム層１４に対し不活性ガス例えばＡｒのイオン注入を施すことによってアルミニウム層１４を非結晶化させる。 - 特許庁

Consequently, the metal blocks can be protected from ion sputtering action and adhesion of plasma product due to the plasma formed in the discharge space.例文帳に追加

これにより、放電空間で形成されたプラズマによるイオンのスパッタ作用およびプラズマ生成物の付着から、金属ブロックを保護することができる。 - 特許庁

To provide a sputtering device which can rise the temperature of a semiconductor substrate rapidly while ensuring in-plane uniformity of the temperature of the semiconductor substrate.例文帳に追加

半導体基板の温度の面内均一性を確保しつつ、迅速に半導体基板を昇温することができるスパッタリング装置を提供する。 - 特許庁

In the process for forming the DLC film, an argon etching step and a carbon sputtering step are repeated in an argon atmosphere to obtain a DLC coating.例文帳に追加

ＤＬＣの成膜工程では、アルゴン雰囲気中で、アルゴン・エッチング工程と、カーボン・スパッタリング工程とを、繰り返し行うことにより、ＤＬＣのコーティングを行う。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a transparent thin film having high transmittance in a short wavelength region of visible rays, by sputtering.例文帳に追加

スパッタリング法による透明薄膜の製造方法として、短波長域の可視光線透過率の高い透明薄膜を製造する方法を提供する。 - 特許庁

To form a metallic fluoride thin film having a low refractive index of ≤1.45 and free from absorption in visible and ultraviolet regions by sputtering.例文帳に追加

屈折率１．４５以下の低い屈折率で、しかも可視および紫外領域で吸収のない金属フッ化物薄膜をスパッタリングにより形成すること。 - 特許庁

For example, the protective film 7 is formed of PMMA or polyimide, and the protective film 8 made of silicon nitride is formed by a plasma CVD method or a sputtering method.例文帳に追加

例えば、保護膜７をＰＭＭＡやポリイミドを用いて形成し、窒化シリコンからなる保護膜８をプラズマＣＶＤ法またはスパッタリング法で形成する。 - 特許庁

TRANSLUCENT REFLECTIVE FILM AND REFLECTIVE FILM FOR OPTICAL RECORDING MEDIUM, AND Ag ALLOY SPUTTERING TARGET FOR FORMING SUCH TRANSLUCENT REFLECTIVE FILM AND REFLECTIVE FILM例文帳に追加

光記録媒体用半透明反射膜および反射膜、並びにこれら半透明反射膜および反射膜を形成するためのＡｇ合金スパッタリングターゲット - 特許庁

Then, the flow of N_2 gas is stopped and a third heat-resistant metal-silicon-nitrogen layer is adhered in the sputtering manner onto the second heat-resistant metal-silicon-nitrogen layer.例文帳に追加

次に、Ｎ_２ガスのフローが停止され、第３の耐熱金属−ケイ素−窒素の層が第２の耐熱金属−ケイ素−窒素の層上にスパッタ付着される。 - 特許庁

The oxide semiconductor film 15 is formed by a DC sputtering method and a DC voltage Vdc for formation is set according to a carrier density D.例文帳に追加

酸化物半導体膜１５を、ＤＣスパッタ法を用いて成膜すると共に、その際の直流電圧Ｖdcをキャリア密度Ｄに応じて設定する。 - 特許庁

In this method for manufacturing a silicon thin film by sputtering, silicon whose crystallinity is made more satisfactory than that of a silicon thin film to be manufactured is used as a target substance.例文帳に追加

スパッタリングによってシリコン薄膜を製造する方法であって、製造されるべきシリコン薄膜より結晶性が良いシリコンをターゲット物質とする。 - 特許庁

To provide a sputtering target having excellent target characteristics (saturation magnetization) and high utilization efficiency and a thin film having excellent electrode film characteristics (conductivity and adhesion strength).例文帳に追加

ターゲット特性（飽和磁化）に優れた使用効率の高いスパッタリングターゲット、かつ、電極膜特性（導電性および密着強度）に優れた薄膜を提供する。 - 特許庁

To provide a method of producing a Co based sputtering target consisting of cobalt or a cobalt based alloy which has high magnetic anisotropy and is hard to be cracked.例文帳に追加

高い磁気異方性を有し且つヒビ割れしにくいコバルトまたはコバルト基合金からなるＣｏ系スパッタリングターゲットの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a sputtering target by which a hard nitride film can be deposited with superior reproducibility onto the surface of a metal, preferably the surface of cobalt carbide, cobalt or stainless steel.例文帳に追加

金属表面、好ましくは炭化コバルト、コバルト、ステンレスの表面に、硬質窒化膜を再現性よく成膜することが可能なスパッタリングターゲットの提供 - 特許庁

A nitrogen-containing aluminum film (Al-N film) in which a part of aluminum is nitrided is formed on a base 2 according to sputtering by using a target made of pure aluminum.例文帳に追加

純アルミニウムからなるターゲットを使用して、スパッタリングにより基体２上にアルミニウムの一部が窒化された窒素含有アルミニウム膜（Ａｌ−Ｎ膜）を形成する。 - 特許庁

However, as that was inefficient because of heat lost due to thermal radiation, smoke given off, and fire sputtering in the wind, and so on, kamado made from mud, stone or cement were invented. 例文帳に追加

が、周辺に熱が熱放射などの形で逃げる他、煙が漂う・火が風で揺らぐなど効率が悪いため、土、石、セメントで作られる竈が発明された。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

(2)The sputtering device is equipped with two or more targets with different composition in a concentric state and a means for adjusting the sputter rate of each target.例文帳に追加

（２）組成が異なるターゲットを同心円状に２個以上設け、各ターゲットのスパッタ率を調整する手段を備えたことを特徴とするスパッタリング装置。 - 特許庁

At this time, a sputtering time of Ar is adjusted to leave the non-silicide region 6n of the cap metal layer 6 on the bottom surface of the connection hole 8.例文帳に追加

この際、Ａｒのスパッタ時間を調整することにより、接続孔８の底面において、キャップメタル層６の非シリサイド領域６ｎは残留するようにする。 - 特許庁

To provide a reflective film in an optical recording medium such as an optical disk or a magneto-optical disk and to provide a sputtering target for forming the reflective film.例文帳に追加

光ディスク、光磁気ディスクなどの光記録媒体における反射膜およびこの反射膜を形成するためのスパッタリングターゲットを提供する。 - 特許庁

The Sb-Te sputtering target has an average crystal particle size of 20 μm or lower, a bending strength of 60 MPa or higher, and an oxygen content of 1,000 ppm or lower.例文帳に追加

平均結晶粒径が２０μｍ以下、抗折力が６０ＭＰａ以上、酸素含有量が１０００ｐｐｍ以下であるＳｂ−Ｔｅ系スパッタリングターゲット。 - 特許庁

In this case, the recording layer of a carbon film is formed by a sputtering method using a target of graphite for forming a recording film of the unrecorded state in an amorphous state.例文帳に追加

この場合、未記録状態の記録膜を非晶質状態とするため、グラファイトターゲットを用いてスパッタ法により炭素膜の記録層を製膜した。 - 特許庁

SPUTTERING TARGET MATERIAL FOR PRODUCING Ni-W-(Si, B)-BASED INTERMEDIATE LAYER FILM IN VERTICAL MAGNETIC RECORDING MEDIUM AND THIN FILM PRODUCED USING THE SAME例文帳に追加

垂直磁気記録媒体におけるＮｉ−Ｗ−（Ｓｉ，Ｂ）系中間層膜製造用スパッタリングターゲット材およびこれを用いて製造した薄膜 - 特許庁

To provide a magnetron sputtering apparatus suitable for forming a film consisting of a magnetic material on a substrate.例文帳に追加

本発明は、マグネトロンスパッタ装置に関し、詳しくは、基板に磁性体からなる膜を成膜するのに適したマグネトロンスパッタ装置を提供することを課題とする。 - 特許庁

The target, the substrate, and a sputtering gas can be contained in a chamber, and power of a first RF source can be applied so as to maintain a plasma in the chamber.例文帳に追加

ターゲット、基板及びスパッタリング・ガスをチャンバー内に収容し、第１のＲＦ電源の電力がチャンバー内のプラズマを維持するために加えられる。 - 特許庁

A DLC film 2 of insulating performance is formed on the surface of the substrate 1 by a film formation method of a plasma CVD method, a sputtering method, a PBII method or the like.例文帳に追加

プラズマＣＶＤ法，スパッタリング法，ＰＢＩＩ法等の皮膜形成方法により基体１表面に絶縁性のＤＬＣ皮膜２を形成する。 - 特許庁

The heat-treatable dichroic mirror has a transparent substrate having 650-800°C glass transition temperature and a plurality of films by sputtering supported on the substrate.例文帳に追加

ガラス転移温度が６５０〜８００℃の透明基材、及びこの基材に支持されるスパッタリングによる複数のフィルムを具備した熱処理可能二色性鏡とする。 - 特許庁

To provide a sputtering target capable of reducing the production of particles and obtaining a thinned translucent light shielding film, and to provide a method for manufacturing a mask blank.例文帳に追加

パーティクルの発生を低減し、かつ膜厚を薄くした半透明遮光膜が得られるスパッタリングターゲット、及びマスクブランクの製造方法を提供する。 - 特許庁

To obtain a target in which particles generated at the time of forming a film by sputtering are reduced and suitable for the formation of a dielectric protective film of an optical disk.例文帳に追加

スパッタリングによって膜を形成する際に発生するパーティクルを減少させ、また光ディスクの誘電体保護膜の作成に好適なターゲットを得る。 - 特許庁

To provide a structure of a target which is capable of achieving the uniformity of a film thickness distribution in the progressing direction of a rotating substrate with a carousel-type sputtering system.例文帳に追加

カルーセル型スパッタ装置において、回転する基板の進行方向に対する膜厚分布の均一化を達成できるターゲットの構造を提供する。 - 特許庁

To suppress the generation of particles caused by the state of the tissue and its working surface (more particularly its sputtering surface, etc.), in a metal silicide target.例文帳に追加

金属シリサイドターゲットにおいて、ターゲット内部の組織や状態、さらには加工面（特にスパッタ面）の状態などに起因するパーティクルの発生を抑制する。 - 特許庁