「substrate layer」に関連した英語例文の一覧と使い方(690ページ目) - Weblio英語例文検索

An impurity, for example oxygen, is introduced into a silicon substrate or a silicon layer, and heat treatment is carried out so that an impurity deposition region is formed, and highly selective ratio anisotropic etching is carried out by using the deposition region as a micromask 14.例文帳に追加

シリコン基板或いはシリコン層中に不純物、例えば酸素を導入し、熱処理することにより不純物析出領域を形成し、この析出領域をマイクロマスク１４として高選択比異方性エッチングを行う。 - 特許庁

A thin liquid resistant film 10 made of a multi-layer film of organic resin films 10a and 10b is formed on each wall surface of a pressurized liquid chamber 6, an ink supply channel 7, and a common liquid chamber 8, or the wall contacting ink in a channel forming substrate 1.例文帳に追加

流路形成基板１のインクに接する面となる加圧液室６、インク供給路７、共通液室８を各壁面には有機樹脂膜１０ａ、１０ｂの複層膜からなる耐液性薄膜１０を成膜した。 - 特許庁

A coating material 6 is injection-molded on the surface of the frame-shaped substrate 1 made of an insulating material, while remaining the part to be the conductive circuit 2 and the part to be the shield layer 3 thereon, and after providing a catalyst, the coating material is removed.例文帳に追加

絶縁材からなる枠型の基体１の表面に導電性回路２となる部分及びシールド層３となる部分を残して被覆材６を射出成形し、触媒付与後に、この被覆材を溶出除去する。 - 特許庁

The "periodic structure layer 21" is constituted by two-dimensionally periodically arranging micropatterns consisting of a material of the refractive index different from the refractive index of the substrate 22 with a pitch of about the wavelength of light within the plane parallel to the first major face.例文帳に追加

「周期構造層２１」は、基板２２の屈折率とは異なる屈折率の材料からなる微細パターンを、第１主面に平行な面内において、光の波長程度のピッチで、２次元の周期的配置をして構成されている。 - 特許庁

An antistatic layer 19 containing a surfactant comprising an anionic activating agent or a mixture of the anionic activating agent and a nonionic activating agent is formed on the inner surface of a polarizing plate 14 opposing to a panel substrate 2.例文帳に追加

偏光板１４のパネル基板２に臨む内側表面に、陰イオン活性剤またはこの陰イオン活性剤と非イオン活性剤との混合系からなる界面活性剤を含有する帯電防止層１９が設けられている。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a high quality color filter substrate at low cost for a liquid display device composed of a plurality of patterned layers composed of a first layer of non-photosensitive resin and a photosensitive resin.例文帳に追加

本発明は、非感光性樹脂からなる第１の層と感光性樹脂からなる複数のパターン化層からなる液晶表示装置用カラーフィルタ基板を低コスト、かつ高品質に得ることができる製造方法を提供する。 - 特許庁

A first resin material layer 11 is formed on an element substrate 1 in a form in which a peripheral region 'b' with a terminal electrode 5 is disposed therein is arranged outside to surround a display region 'a' with an organic electroluminescent element 3 disposed therein.例文帳に追加

有機電界発光素子３が設けられた表示領域ａを囲み端子電極５が設けられた周辺領域ｂを外側に配置する形状で、素子基板１上に第１樹脂材料層１１を形成する。 - 特許庁

To provide a peeling liquid which is used for recycling a conductive substrate of a photoreceptor by efficiently removing the photosensitive layer on the organic photoreceptor and has high cleaning performance and long lifetime of the liquid and is easy to handle.例文帳に追加

有機感光体の感光層を効率よく除去し、感光体の導電性基板を再利用するために使用される剥離液であって、クリーニング性能が高く、液の寿命が長く、取り扱いが容易な剥離液を提供する。 - 特許庁

The liquid crystal display apparatus according to this invention relates to what is called an in-plane switching system by which a voltage is applied between a pixel electrode 6 and the common electrode 5 to apply an electric field almost parallel to a substrate surface to a liquid crystal layer.例文帳に追加

本発明にかかる液晶表示装置は、画素電極６及び共通電極５間に電圧を印加し基板面にほぼ平行な電界を液晶層に印加する、いわゆる横電界方式に関するものである。 - 特許庁

In the heat treatment, the Si layer 3 has been covered to avoid scattering B therefrom, and since the Si substrate surface is clean enough to avoid growth of a parasitic barrier, and accelerating of the transistor operations can be attained.例文帳に追加

熱処理の時にはボロンドーピング・多結晶シリコン層３は被覆され、そこからボロンが飛散せず、シリコン基板面が清浄ので、そこの所に寄生障壁が発生することはなく、トランジスタの高速動作化を達成することができる。 - 特許庁

An extension-proof layer comprising at least an inorganic pigment and a binder resin, and preventing a substrate sheet from extending when the hydraulic pressure transferring is performed, is formed on a sheet for hydraulic pressure transferring used in so-called hydraulic pressure transferring method.例文帳に追加

いわゆる水圧転写法において用いられる水圧転写用シートに、少なくとも無機顔料とバインダー樹脂とからなり、水圧転写時に前記支持体シートが伸展することを防止する伸展防止層を形成する。 - 特許庁

To obtain a semiconductor device with a pn junction diode incorporated thereinto so as to be capable of detecting the temperature of a transistor element provided in an SOI (silicon on insulator) layer surrounded by trench separation on an SOI substrate upon operation with excellent sensitivity and response.例文帳に追加

ＳＯＩ基板におけるトレンチ分離で囲まれた１つのＳＯＩ層に設けるトランジスタ素子の動作時温度を感度良くかつ応答性良く検出できるようにＰＮ接合ダイオードを組み込んだ半導体装置を得ること。 - 特許庁

To provide a method for fabricating a compound semiconductor device having such a structure as elements fabricated on a GaAs substrate are isolated by making a trench and the state of a wafer is sustained by a metal layer of PHS structure in which the wafer is prevented from being warped.例文帳に追加

ＧａＡｓ基板上に形成した素子を、溝を形成することによって分離し、且つＰＨＳ構造の金属層によってウェハ状態を保つ構造において、ウェハにそりが発生することの無い製造方法を提供する。 - 特許庁

This printed wiring board 2 is provided with a substrate 4 provided with a plurality of internal conductor layers 5a, 5b and an insulating layer 6 interposed between the conductor layers 5a, 5b, and at least one connection terminal 10 for electrically connecting a part between the internal conductor layers.例文帳に追加

プリント配線板2は、複数の内部導体層5a,5bと、これら導体層の間に介在された絶縁層6とを有する基板4と、内部導体層間を電気的に接続する少なくとも一つの接続端子10とを具備している。 - 特許庁

A protection film 7 is arranged on a substrate 2 for crystal growth for covering the light emission surface from which the light of a light emitting layer 3 is emitted before a process for forming the scribe groove ST for dividing each light emitting element 1 through the use of the laser.例文帳に追加

個々の発光素子１を分離するためのスクライブ溝ＳＴをレーザを用いて形成する工程の前に、結晶成長用基板２において発光層３の光が出射する出射面を覆う保護膜７を設ける。 - 特許庁

To provide a method for forming a base film for preventing impurities from diffusing from a glass substrate to an active layer of a TFT whereby the stability of characteristics such as Vth, S-value, etc., of the TFT and the productivity are ensured.例文帳に追加

TFTにおいてガラス基板から活性層への不純物拡散を防ぐために下地膜の作製方法を提供し、それによりTFTのVthやＳ値などの特性の安定性を確保すると共に生産性を確保することを目的とする。 - 特許庁

The R-plane sapphire substrate 2 is scribed to cause it to cleave, a lower electrode 8 is formed on the exposed part of the ZnO film 3, and the top face of the p-type GaN clad layer 6 is covered with an upper electrode 9 via the SiO2 film 7.例文帳に追加

この後、Ｒ面サファイア基板２をスクライブしてへき開させ、ＺｎＯ膜３の露出部分の上に下部電極８を形成し、ＳｉＯ_2膜７を介してｐ型ＧａＮクラッド層６の上面を上部電極９で覆う。 - 特許庁

To provide a pretreating agent for plating excellent in the capture of catalytic metal relating to the adhesive strength between a plated layer and a substrate in an electroless plating method in particular in a one-side plating method and to provide a plating method.例文帳に追加

本発明は、無電解めっき法、特に片面めっき法においてめっき層、被めっき層の密着強度に関与する触媒金属の捕捉に優れためっき前処理剤、およびめっき方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

In the semiconductor device, a double recess 25 is filled with: an insulating layer 22 formed on the side wall faces and bottom face thereof; and a columnar conductor 30 made of metal, one end of which is connected with the surface of a pattern 14 at the semiconductor substrate side.例文帳に追加

二段凹部２５は、その側壁面及び底面に形成された絶縁層２２と、パターン１４の半導体基板側面に一端部が接続された金属から成る柱状導体部３０とによって充填されている。 - 特許庁

To achieve a method of forming a pattern by which a reactive portion of a photosensitive resin is finely controlled upon forming a fine pattern on a substrate and the thickness of the photosensitive resin layer is easily controlled.例文帳に追加

基板上への微細パターン形成時に、感光性樹脂が反応する部位をより微小に制御するとともに、感光性樹脂層の厚み管理をより簡易化することを可能とするパターン形成方法の実現を目的とする。 - 特許庁

An artificial lattice film 5 which is formed by alternately laminating the transition metal layers 51 consisting essentially of any element of Pt, Pd and Au and the Co magnetic layers 52 consisting essentially of Co in a plurality of layers is formed on the non-magnetic substrate layer 4.例文帳に追加

非磁性下地層４上に、Ｐｔ，Ｐｄ，Ａｕのいずれかを主成分とする遷移金属層５１およびＣｏを主成分とするＣｏ磁性層５２がそれぞれ複数層交互に積層された人工格子膜５を成膜する。 - 特許庁

The reflective layer 7 reflects light traveling reversely to the light take-out direction A to the light take-out direction A and it is formed on the footprint 2a of the substrate 2 which is the surface on the side opposite to the light take-out direction A.例文帳に追加

反射層７は、光取出方向Ａとは反対方向へ進行する光を光取出方向Ａへと反射するためのものであり、光取出面Ａとは反対側の面である基板２の底面２ａに形成されている。 - 特許庁

A process for accumulating the insulating protective film on the semiconductor substrate is performed, and the surface of the insulating protective film is dry-etched, and the tip of the bump 5 is removed to form a second insulating protective film 6 coating the barrier metal layer.例文帳に追加

半導体基板上に絶縁性保護膜を堆積する工程と、前記絶縁性保護膜表面をドライエッチングして、バンプ５の先端部分を除いてバリアメタル層を被覆する第２の絶縁性保護膜６を形成する。 - 特許庁

Since Cu wiring layers 300A and 300B are provided on a Cu substrate 3 which consists of Cu with good heat dissipation through an insulating layer 301 and a reflector part 30 is formed by press working, it has good light reflectivity.例文帳に追加

放熱性の良好なＣｕからなるＣｕ基板３に絶縁層３０１を介してＣｕ配線層３００Ａ、３００Ｂを設け、プレス加工によってリフレクタ部３０を形成しているので、良好な光反射性を有する。 - 特許庁

To provide a high-speed nonvolatile semiconductor storage device where the rise of both of an interface property between a semiconductor substrate and an insulating layer and a ferroelectric property can be expected, and the dispersion of property is small, and the voltage is low.例文帳に追加

半導体基板と絶縁体層間の界面特性と強誘電特性の両方の向上が望め、特性のばらつきが小さく低電圧で高速不揮発性の半導体記憶装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

Preferably, the peel strength between the resin product and the cold formed product is 6-20 N/15mm width and the peel strength between the substrate and the sealant layer is ≥3 N/15mm width by 180° peeling test.例文帳に追加

樹脂成形品と冷間成形加工品との間の剥離強度が１８０°剥離試験において６〜２０Ｎ／１５ｍｍ幅であり、基材層とシーラント層との間の剥離強度が３Ｎ／１５ｍｍ幅以上であることが好ましい。 - 特許庁

To provide a semiconductor device capable of measuring electrical characteristics of TEG (Test Element Group) provided to a semiconductor substrate even when the surface of a measuring pad is damaged by etching a UBM (Under Bumping Metal) layer, and also a method of manufacturing the semiconductor device.例文帳に追加

測定用パッドの表面がＵＢＭ層エッチングによって損傷を受けても、半導体基板に設けられたＴＥＧの電気的特性の測定が可能な半導体装置及びその半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

A polarizing plate comprises a polymer film, a polarizing member, a polymer substrate, and an optical anisotropy layer made from liquid crystalline compounds and being obtained by laminating them in this order, and is characterized in that the thickness of polarizing member is in the range of between 10 to 25 μm.例文帳に追加

ポリマーフィルム、偏光子、ポリマー基材および液晶性化合物からなる光学異方性層がこの順に積層してなる偏光板において、偏光子の厚みが１０μｍ〜２５μｍであることを特徴とする偏光板。 - 特許庁

An n-type well 6 and a p-type well 7 are formed in the silicon layer 4 of the SOI substrate 1 and pluralities of p^+-type diffusion regions 9 (anodes) and n^+-type diffusion regions 10 (base electrodes) are alternately arranged on the surface of the n-type well 6.例文帳に追加

ＳＯＩ基板１のシリコン層４にＮウエル６及びＰウエル７を形成し、Ｎウエル６の表面に、夫々複数個のＰ^＋拡散領域９（アノード）及びＮ^＋拡散領域１０（ベース電極）を交互に配列する。 - 特許庁

An emitter film 15 is formed on the surface layer and on the side spacer so that a flat surface is formed on a bottom part of the hole, and then a surface of the substrate 10 is exposed by etching back the emitter film and removing the first gate film on the bottom part of the hole.例文帳に追加

孔の底部に平坦面が形成されるように表面層とサイドスペーサの上にエミッタ膜（１５）を形成し、さらにエミッタ膜をエッチバックして孔の底部の第１のゲート膜を除去して基板面を露出させる。 - 特許庁

In the liquid crystal device, a reflecting polarizing layer equipped with a plurality of first metal reflecting films which are formed in parallel with each other with a predetermined gap in between, is disposed on the outside surface of at least one substrate of the two substrates.例文帳に追加

液晶装置は、２枚の基板のうち、少なくとも一方の基板の外面上には、所定の間隙を有して互いに平行に形成された複数の第１の金属反射膜を備える反射偏光層が設けられている。 - 特許庁

To provide a printed-wiring board where the conductive pattern of each layer for composing the electric circuit of a multilayered printed-wiring board is formed on the same insulating substrate, and a method for manufacturing the multilayered printed-wiring board using the printed-wiring board.例文帳に追加

多層型プリント配線基板の電気回路を構成する各層の導電パターンが同一の絶縁基板上に形成されたプリント配線基板及びこれを用いた多層型プリント配線基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

To prevent the spread of a luminous flux spot for recording and reproducing to be focused on a recording layer by correcting in real time the effects of aberration resulting from the thickness error of an optical disk substrate in an optical disk device.例文帳に追加

光ディスク装置に関し、光ディスクの基板の厚み誤差に起因する収差の影響をリアルタイムに補償することにより、記録層に合焦する記録再生用光束のスポットの広がりを防止することを目的とする。 - 特許庁

This method according to the invention, which comprises a step of heat-treating the epitaxial wafer W, having an epitaxial layer EP formed by epitaxially growing silicon single crystals on the surface of a silicon substrate SUB, in a gas atmosphere, is characterized in that the gas atmosphere of the step includes nitride gas.例文帳に追加

シリコン基板ＳＵＢの表面にシリコン単結晶をエピタキシャル成長したエピタキシャル層ＥＰを有するエピタキシャルウェーハＷを雰囲気ガス中で熱処理する工程を有し、該工程の前記雰囲気ガスは、窒化ガスを含む。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a light-emitting device and a substrate for deposition capable of improving an EL layer pattern forming accuracy of each color in case of producing full-color flat panel display using red, green and blue luminescent colors.例文帳に追加

赤、緑、青の発光色を用いるフルカラーのフラットパネルディスプレイを作製する場合において、各色のＥＬ層のパターン形成の精度を向上させることが可能な発光装置の作製方法及び成膜用基板を提供する。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive composition for colored layer formation capable of forming pixels and a black matrix excellent in resistance to various solvents and excellent also in adhesion to a substrate even at a post-bake temperature of <200°C.例文帳に追加

２００℃未満のポストベーク温度においても、幅広い溶剤に対する耐性に優れ、しかも基板との密着性にも優れた画素及びブラックマトリックスを形成することができる着色層形成用感放射線性組成物の提供。 - 特許庁

To provide a method of forming a via hole, in which thermal resistance of a metal layer formed inside the via hole is reduced and in which the heat dissipating efficiency of an element formed on a compound semiconductor substrate is enhanced.例文帳に追加

バイアホール内に形成される金属層の熱抵抗を低減でき、化合物半導体基板上に形成された素子の放熱効率を向上できるバイアホール形成方法および化合物半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

Preferably, a plurality of the second grooves 48 having a larger groove depth than the thickness of the compound semiconductor layer to be epitaxially grown are further formed in parallel to each other on the surface of the film-forming substrate of the wafer in the direction crossing the first grooves.例文帳に追加

また、好適には、エピタキシャル成長させる化合物半導体層の膜厚より深い溝深さの複数本の第２の溝４８を、相互に平行に、かつ第１の溝に交差する方向でウエハの成膜基板面に形成する。 - 特許庁

The cover member 40 includes a double layer structure of a translucent glass substrate 41 and a silver film 42 which passes ultraviolet light and reflects visible light, and the silver film 42 is disposed so as to be inside of the chassis 210.例文帳に追加

カバー部材４０は、透光性を有するガラス基板４１と、紫外線を通過させ可視光を反射する銀薄膜４２との二層構造からなり、銀薄膜４２が筐体２１０の内部側となるように配置される。 - 特許庁

To provide an easy-to-fabricate light receiving element having a small dark current in which middle infrared light in the range of 1.65-3.0 μm can be received by forming a light receiving layer of good crystallinity with little defect on an InP substrate.例文帳に追加

ＩｎＰ基板の上に結晶性の良い欠陥の少ない受光層を形成することによって１．６５μｍ〜３．０μｍの中赤外光を受光できる製造容易で暗電流の小さい受光素子を与えること。 - 特許庁

Etching for forming a side wall 51 is performed by two steps of reactive ion etching (RIE) and wet etching, i.e. a silicon oxide film 5A is left on an LDD layer 4 on a silicon substrate 1 by the RIE and the silicon oxide film 5A is removed by the wet etching.例文帳に追加

サイドウォール５１形成時のエッチングをＲＩＥとウエットエッチングの二段階で行い、ＲＩＥでシリコン基板１のＬＤＤ層４上に酸化シリコン膜５Ａを残存させ、ウエットエッチングでこの酸化シリコン膜５Ａを除去する。 - 特許庁

An interval between the two gates 6 is made narrower; sidewalls 8 are connected between the gates 6; and an insulating film (NSG) 8 is interposed, so that a high concentration impurity layer (n+-type) is formed on a substrate (P-type well) 2 between the gates 6.例文帳に追加

２個のゲート６の間隔をより狭くし、かつ、そのゲート６間にサイドウォール８がつながって絶縁膜（ＮＳＧ）８を存在させ、ゲート６間の基板（Ｐウェル）２に高濃度不純物層（ｎ^+ ）が形成されないようにした。 - 特許庁

This electrophotographic photoreceptor includes a photosensitive layer containing at least an electronic transport agent, charge generator, and binder resin on a conductive substrate.例文帳に追加

導電性基体上に、少なくとも電子輸送剤、電荷発生剤およびバインダ樹脂を含有した感光層が設けられた電子写真感光体であって、前記電子輸送剤が、下記一般式（１）で表される化合物であることを特徴とする。 - 特許庁

In the method for manufacturing a printed board, a metal layer on the surface of a substrate is polished by 5 μm or more by means of a tubular or planar polishing material having a hardness of about 1,000 HV or above in a surface smoothing process preceding to circuit formation.例文帳に追加

回路形成前の整面工程において基板表面の金属層を，硬度が概ね1000HV以上の円筒状又は板状の研磨材により５μｍ以上研磨することを特徴とする配線板の製造方法。 - 特許庁

In the manufacturing device which enables alignment layer formed on a substrate to be subjected to an alignment treatment by a rotary rubbing method, a rubbing cloth used for the rotary rubbing method is provided with a part where the lengths of rubbing fibers are different from each other.例文帳に追加

基板上に形成された配向膜に回転ラビング法により配向処理を行うことを可能とした液晶表示パネルの製造装置であって、回転ラビング法に用いるラビング布が、毛の長さが異なる部分を備えた。 - 特許庁