「substrate layer」に関連した英語例文の一覧と使い方(762ページ目) - Weblio英語例文検索

A photoelectric conversion element 100 comprises a substrate 11 having a flat surface S, a plurality of semiconductor nanowires 2 which are arrayed on the flat surface S and extend in a tapered shape from the flat surface S, and a semiconductor layer 30 which fills gaps between the plurality of semiconductor nanowires 2 and has a carrier type different from that of the semiconductor nanowires 2.例文帳に追加

平坦面Ｓを有する基板１１と、平坦面Ｓ上に配列され、平坦面Ｓから先細り状に延びる複数の半導体ナノワイヤー２と、複数の半導体ナノワイヤー２同士の間隙を充填し、半導体ナノワイヤー２とは異なるキャリアタイプの半導体層３０と、を備える光電変換素子１００。 - 特許庁

In a module 10, dielectric layers 12A, 12B are provided above and below a substrate 11, an antenna 13 and a frequency converting section 14 for converting a signal transmitted from the outside to a high frequency or low frequency are provided on the dielectric layer 12A, and a signal is communicated to the outside by the antenna 13.例文帳に追加

モジュール１０は、基板１１の上下に誘電体層１２Ａ，１２Ｂを備えると共に誘電体層１２Ａ上にはアンテナ１３および外部から伝送された信号を高周波または低周波に変換する周波数変換部１４が設けられ、アンテナ１３によって外部へ信号が通信されている。 - 特許庁

The organic EL panel includes a light emitting portion holding at least an organic light emitting layer between a first electrode 2 and a second electrode 7 and a plurality of barrier ribs 4 formed to separate the second electrode 7 into a plurality, both of which are formed on a support substrate 1, and is formed with a protective film covering the light emitting portion.例文帳に追加

第一電極２と第二電極７の間に少なくとも有機発光層を挟持してなる発光部と第二電極７を複数に分離するように複数形成される隔壁４とを支持基板１上に形成し、前記発光部を覆う保護膜を形成してなる有機ＥＬパネルである。 - 特許庁

The wiring structure includes a substrate 1 which has a first region R1 with many structures formed with fine pitches and a second region R2 formed in a plane, and a metal layer 4 which is formed continuously to the second region R2 among the first region R1 and the second region R2 to form a wiring pattern.例文帳に追加

配線構造体は、微細ピッチで構造体が多数形成された第１の領域Ｒ１と、平面状に形成された第２の領域Ｒ２とを有する基体１と、第１の領域Ｒ１、および第２の領域Ｒ２のうち第２の領域Ｒ２に連続的に形成されて、配線パターンをなす金属層４とを備える。 - 特許庁

To provide an organic EL element causing little uneven illumination within a pixel due to an uneven film thickness of an organic luminescent medium layer near a barrier rib when a thin film is formed of an organic luminescent material on a substrate provided with the barrier rib by a wet deposition method, and a simple method of manufacturing the same.例文帳に追加

隔壁を設けた基板に対して有機発光材料を湿式成膜法で薄膜形成した場合に、隔壁近傍における有機発光媒体層の膜厚ムラに起因する画素内の発光ムラの発生の少ない有機ＥＬ素子と、それを簡便に製造し得る製造方法とを提供する。 - 特許庁

The photoelectric conversion element, made by lamination of a conductive thin film, a photoelectric conversion film of an organic layer, and a transparent conductive oxide film on a substrate in this order, has the photoelectric conversion film having a thickness of 150 nm or more and the transparent conductive oxide film having a thickness of 5 nm or more and 10 nm or less.例文帳に追加

基体上に導電性薄膜、有機層からなる光電変換膜、透明導電性酸化物薄膜の順に積層されてなる光電変換素子において、光電変換膜の膜厚が１５０ｎｍ以上であり、前記透明導電性酸化物薄膜の膜厚が５ｎｍ以上１０ｎｍ以下とした。 - 特許庁

To provide a liquid crystal device in which an insulating film having a continuous flat surface on the upper layer side of a pixel electrode, is formed throughout an element substrate, and an insulating film having a uniform film thickness is also formed on each pixel electrode, and also to provide a method for manufacturing the liquid crystal device, and a projection display device.例文帳に追加

素子基板全体にわたって、画素電極の上層側に連続した平坦面を備えた絶縁膜を形成することができるとともに、各画素電極上に均等な膜厚の絶縁膜を設けることができる液晶装置、液晶装置の製造方法、および投射型表示装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a laminate combining readability of the bar code and visibility of the contents, more specifically, a laminate requiring no aluminum foil or a white-colored layer in the substrate and having a transparent or translucent appearance of parts other than necessary parts, e.g. those for bar codes and a label, a packaging sheet, etc. utilizing it.例文帳に追加

バーコードの読み取り性と内容物の視認性を両立させた積層体、すなわち基材にアルミニウム箔や白着色層を必要とせず、バーコードやその他必要部分以外の外観が透明あるいは半透明な外観を呈する積層体、それを利用したラベル、包装用シート等を提供する。 - 特許庁

The light source device 100 includes a light emitting element 10 which emits first light L1, a substrate 20 which is irradiated with the first light L1 and has an irradiation region 21 with an irregular surface formed, and a fluorescent light emitting layer 30 formed in the irradiation region 21, excited by the first light L1, and emitting second light L2.例文帳に追加

光源装置１００は、第１の光Ｌ１を出射する発光素子１０と、第１の光Ｌ１により照射され、凹凸が形成された照射領域２１を有する基板２０と、照射領域２１に形成され、第１の光Ｌ１により励起されて第２の光Ｌ２を発する蛍光発光層３０と、を含む。 - 特許庁

A relay board 250 to which a gyro vibration piece 100 is joined is connected and fixed with a conductive adhesive 296 to a first protrusion terminal 234, a second protrusion terminal 235, a third protrusion terminal 236, a fourth protrusion terminal 237, and a fifth protrusion terminal 238 which are formed of a third layer substrate 231 of a package 202.例文帳に追加

ジャイロ振動片１００が接合された中継基板２５０は、導電性接着剤２９６により、パッケージ２０２の第３層基板２３１により形成された第１突部端子２３４、第２突部端子２３５、第３突部端子２３６、第４突部端子２３７、および第５突部端子２３８に接続・固定されている。 - 特許庁

The polymeric film which is substantially gelatin free has a polymeric film substrate and a coating layer containing a polymer having at least one or more repeating units having at least one or more pendant (-POXY) groups, wherein X and Y, which may be the same or different, are OH or OM wherein M is a cation.例文帳に追加

実質的にゼラチンを含まない重合フィルムは、重合フィルム基板と、少なくとも１以上のペンダント（−ＰＯＸＹ）基を有する少なくとも１以上の繰り返し単位を持つポリマーを含むコーティング層とを有し、ここで、同一若しくは異なるものであるＸおよびＹはＯＨ若しくはＯＭであり、Ｍはカチオンである。 - 特許庁

The ink jet recording element comprises a substrate, on which a porous image receiving layer consisting of (a) particles having the primary grain size of 7-40 nm whose diameter can be agglomerated to the maximum 300 nm and (b) cationic polymer grains, containing at least 20 mol% of cationic mordant portion insoluble to water, is provided.例文帳に追加

（ａ）最大３００ｎｍまで凝集してもよい直径が７〜４０ｎｍの一次粒径を有する粒子、（ｂ）少なくとも２０モル％のカチオン性媒染剤部分を含む水不溶性のカチオン性ポリマー粒子を含んで成る多孔性画像受容層を上に有する支持体を含んで成るインクジェット記録要素。 - 特許庁

In an opposing substrate 10 of a transflective reflective liquid crystal device 100, a transmissive display color filter 241 having a wide chromaticity is formed in a transmissive display region 100c and a reflection display color filter 242 having narrow chromaticity is formed in a reflection display region 100b among the bottom layer side of an opposing electrode 21.例文帳に追加

半透過反射型液晶装置１００の対向基板１０では、対向電極２１の下層側のうち、透過表示領域１００ｃには色度域の広い透過表示用カラーフィルタ２４１を形成し、反射表示領域１００ｂには色度域の狭い反射表示用カラーフィルタ２４２を形成する。 - 特許庁

The photomask blanks have, on a substrate, a photosensitive composition layer containing a sensitizing dye (A), a polymerization initiator (B), a multifunctional thiol compound (C) having 2 to 4 mercapto groups in a molecule, a polymerizable compound (D) having at least two ethylenically unsaturated bonds in a molecule, a binder polymer (E), and a light shielding material (F).例文帳に追加

基板上に、（Ａ）増感色素、（Ｂ）重合開始剤、（Ｃ）分子内に２個から４個のメルカプト基を有する多官能チオール化合物、（Ｄ）分子内に少なくとも２個以上のエチレン性不飽和結合を有する重合性化合物、（Ｅ）バインダーポリマー、および（Ｆ）遮光材料、を含む感光性組成物層を備えるフォトマスクブランクス。 - 特許庁

To provide an electrophoretic display device and a method for manufacturing the device for suppressing decrease in adhesive force and improving structural durability and display durability of the electrophoretic display device even when an upper face of a structural body is adhered to a counter electrode substrate via an adhesive layer.例文帳に追加

接着層を介して構造体の上面と対向電極基板とを接着する場合であっても、接着力の低下を抑制し、電気泳動表示装置の構造的耐久性や表示耐久性を向上した電気泳動表示装置及びその製造方法を提供することを目的の一とする。 - 特許庁

To provide a high-quality substrate for an organic EL device, along with a manufacturing method of an organic EL device as well as the EL organic device, by improving uniformity in liquid level in an application region when applying ink which forms an organic EL layer for suppressed variation in film thickness and reduced brightness difference among pixels.例文帳に追加

有機ＥＬ層を形成するインクの塗布に際し、塗布領域内での液面の均一性を向上させることで、膜厚のばらつきを抑え、画素間の輝度差を小さくすることにより、高い品質の有機ＥＬ装置用基板および有機ＥＬ装置の製造方法並びに有機ＥＬ装置を提供する。 - 特許庁

The semiconductor device 1 includes a porous layer 4, containing a compound obtained through hydrolysis or a condensation reaction between at least one kind of alkoxysilane selected from a group of monoalkoxysilane, dialkoxysilane and trialkoxysilane, and a tetraalkoxysilane, and having density of 0.7 g/cm^3 or less which is formed between the substrate 2 and the semiconductor element 3.例文帳に追加

半導体装置１を、基板２と半導体素子３との間にモノアルコキシシラン、ジアルコキシシラン、トリアルコキシシランからなる群より選ばれる少なくとも１種のアルコキシシランと、テトラアルコキシシランとの加水分解・縮合反応により得られる化合物からなり、０．７ｇ／ｃｍ^3以下の密度を有する多孔質層４を備えたものとする。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor device and a substrate processing apparatus capable of providing a titanium nitride film that is higher in quality than a titanium nitride film formed by the conventional CVD method at a higher film-forming rate, that is, with higher productivity than a titanium nitride film formed by an ALD (Atomic Layer Deposition) method.例文帳に追加

従来のＣＶＤ法で形成された窒化チタン膜と比較して良質な窒化チタン膜を、ＡＬＤ法で形成された窒化チタン膜と比較して速い成膜速度で、すなわち高い生産性で提供することが可能な半導体装置の製造方法及び基板処理装置を提供することにある。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing an organic EL display in which unevenness of a thickness at a boundary of coating regions is eliminated and display unevenness caused by the unevenness of the thickness is prevented even with ink coated in several batches for coating and forming an organic light emitting layer on a display substrate having a linear bank by ink jet.例文帳に追加

ライン状バンクを有するディスプレイ基板に、インクジェットで有機発光層を塗布形成する場合に、インクを複数回に分けて塗布しても、塗布領域の境界の膜厚の不均一を解消し、膜厚の不均一による表示むらのない有機ＥＬディスプレイの製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a resin composition suitable for production of biochips, with which a resin composition layer excellent in diffusion controllability of an acid generated by exposure can be formed and various kinds of polymers can be stably and accurately formed with high density on a substrate even when exposure amount is low, and to provide a method for producing biochips by using the composition.例文帳に追加

露光により発生した酸の拡散制御性に優れた樹脂組成物層を形成でき、露光量が少ない場合であっても基板上に多種類の高分子を高密度、かつ安定して正確に形成できるバイオチップの製造に適した樹脂組成物及びこれを用いたバイオチップの製造方法を提供する。 - 特許庁

To obtain a low temperature-fired ceramic sintered product which has high strength, high thermal conductivity and high Young's modulus, is dense, can be produced by firing at a low temperature of ≤1,000°C, and is useful as an insulating substrate having a wiring layer composed of low resistant conductors such as Cu, Ag, Au and Al on the surface or inside thereof.例文帳に追加

高強度で熱伝導率やヤング率も高く、且つ緻密であると同時に、１０００℃以下の低温での焼成によって製造することができ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ａｌ等の低抵抗導体から成る配線層を表面或いは内部に備えた絶縁基板として有用な低温焼成セラミック焼結体を得る。 - 特許庁

A valve element 5 formed in the groove 3 is formed of the same material as that of the first main substrate layer 1a, protrudes from a first side wall 3a of the groove 3, is formed at a fixed interval from a second side wall 3b opposing the first side wall 3a, and has a film thickness deformable by the pressure of fluid flowing in the flow passage when seen from above.例文帳に追加

溝３に形成された弁体５は、第１主基板層１ａと同じ材料からなり、溝３の第１側壁３ａから突出し、第１側壁３ａに対向する第２側壁３ｂとは間隔をもって形成され、流路内を流れる流体圧力で変形可能な上方から見た膜厚をもつ。 - 特許庁

The body part 11 comprises an attracting means 15 for attracting insects, a support means 18 for supporting an insect-trapping sheet 16 prepared by laminating an adhesive layer 16B to one side of a belt-like substrate sheet 16A in a state capable of being drawn out to a place close to the attracting means 15, and a winding means 19 for winding up the insect-trapping sheet 16.例文帳に追加

本体部１１は、虫を誘引する誘引手段１５と、帯状をなす基材シート１６Ａの一方の面に接着剤層１６Ｂが積層された捕虫シート１６を誘引手段１５の近傍に繰り出し可能に支持する支持手段１８と、捕虫シート１６を巻き取る巻取手段１９とを含む。 - 特許庁

A tempered glass substrate having a compression stress layer on the surface thereof, has a glass composition comprising, by mass%, 40 to 71% SiO_2, 3 to 21% Al_2O_3, 0 to 3.5% Li_2O, 7 to 20% Na_2O, and 0 to 15% K_2O and is cut after tempering treatment.例文帳に追加

本発明の強化ガラス基板は、表面に圧縮応力層を有する強化ガラス基板であって、ガラス組成として、質量％でＳｉＯ_２ ４０〜７１％、Ａｌ_２Ｏ_３ ３〜２１％、Ｌｉ_２Ｏ ０〜３．５％、Ｎａ_２Ｏ ７〜２０％、Ｋ_２Ｏ ０〜１５％を含有すると共に、強化処理後に切断されてなることを特徴とする。 - 特許庁

In the thermal recording medium constituted by forming on a substrate a thermal recording layer containing at least a leuco dye, a developer and a binding agent resin, the binding agent resin contains a polyvinyl acetal and a urethane modified copolymer polyester having a polymerization degree of 850 or above.例文帳に追加

支持体上に、少なくともロイコ染料と顕色剤と結着剤樹脂を含有する感熱記録層を形成してなる感熱記録媒体において、該結着樹脂に、重合度８５０以上のポリビニルアセタールとウレタン変性共重合ポリエステルとを含有させたことを特徴とする感熱記録記録媒体。 - 特許庁

In a second aspect, the method comprises: (a) applying an organic composition on a substrate; (b) applying a photoresist composition layer above the organic composition, wherein the organic composition comprises a material that produces an alkali-soluble group upon thermal and/or radiation treatment.例文帳に追加

第二の態様においては、（ａ）基体上に有機組成物を適用する工程、（ｂ）有機組成物上にフォトレジスト組成物層を適用する工程であって、その有機組成物が、熱処理および／または放射線処理の際にアルカリ溶解性基を生じさせる材料を含む工程を含む方法が提供される。 - 特許庁

Further, a P-type impurity region electrode contact and N-type impurity region electrode contact larger than the trenches are provided, electrodes are provided from both the thin film silicon layer and the substrate for the P-type impurity region and the N-type impurity region so that a large current can flow to the diode of the SOI device.例文帳に追加

さらにトレンチよりも大きいＰ型不純物領域電極コンタクトおよびＮ型不純物領域電極コンタクトを設けて、Ｐ型不純物領域、Ｎ型不純物領域とも薄膜シリコン層、半導体基板の両方から電極をとるようにし、ＳＯＩデバイスでありながらダイオードに大電流を流せるようにする。 - 特許庁

In each of a pair of discharge electrodes 12, 12 formed on the top surface of an insulating substrate 11, an Al base electrode member 23 constituting a tip part is connected to an Ag base electrode member 21 constituting a base end part through an RuO_2 base resistor layer 22 containing Ag and Pd.例文帳に追加

絶縁性基板１１の上面に形成された一対の放電電極１２，１２のそれぞれについて、先端側部分を構成するＡｌ系電極部材２３を、Ａｇ及びＰｄを含むＲｕＯ_2系抵抗体層２２を介して、基端側部分を構成するＡｇ系電極部材２１に接続する。 - 特許庁

The thin film transistor 100 includes a substrate 11, a gate electrode 112, a gate insulating film 113, a semiconductor layer (channel region) 114 formed of the microcrystal silicon, first ohmic contact layers 116 and 117, second ohmic contact layers 118 and 119, a drain electrode 120, and a source electrode 121.例文帳に追加

薄膜トランジスタ１００は、基板１１と、ゲート電極１１２と、ゲート絶縁膜１１３と、微結晶シリコンから形成された半導体層（チャンネル領域）１１４と、第１のオーミックコンタクト層１１６，１１７と、第２のオーミックコンタクト層１１８，１１９と、ドレイン電極１２０と、ソース電極１２１と、を備える。 - 特許庁

A carbon layer (22) is offset to depart from a gate electrode (15), relative to the tip of a source/drain extension region (18) of a field effect transistor formed in a semiconductor substrate (11); and is positioned to enclose a source/drain impurity diffusion region, in sectional profile.例文帳に追加

半導体基板（１１）に形成される電界効果型トランジスタのソース・ドレインエクステンション領域（１８）の先端に対してゲート電極（１５）から離れる方向にオフセットし、かつ、断面プロファイルでソース・ドレイン不純物拡散領域を取り囲んで位置する炭素層（２２）を有することを特徴とする半導体装置。 - 特許庁

A black matrix provided with plural opening parts and having conductivity is provided in one surface of a transparent substrate, and a barrier made of the inorganic conductive material is provided at the predetermined position near each opening part on the black matrix, and a phosphor layer is provided in the opening parts so as to form a front plate for a field emission type display device.例文帳に追加

透明基板の一方の面に、複数の開口部を備え導電性を有するブラックマトリックスを設け、このブラックマトリックス上の各開口部の近傍所定位置に無機導電性材料からなる障壁を設け、上記開口部に蛍光体層を設けて、電界放出型表示装置用の前面板とする。 - 特許庁

The optical information recording method for recording information in an optical recording medium having a recording layer on a substrate at a linear speed of 15m/s or more is characterized in that surface wobbling acceleration is 2m/s^2 or less when the optical information recording medium is measured at a linear speed of 3.5m/s.例文帳に追加

基板上に記録層を有する光情報記録媒体に、線速度が１５ｍ／ｓ以上で情報を記録する光情報記録方法であって、前記光情報記録媒体を線速度３．５ｍ／ｓで測定したときの面振れ加速度が２ｍ／ｓ^2以下であることを特徴とする光情報記録方法である。 - 特許庁

After a polishing process ends, a top surface of the glass substrate is observed using an optical microscope after a pit defect which has an easy-to-observe size is obtained through 5 μm etching using an acid etching solution including hydrogen fluoride, nitric acid, etc., and then isotropic etching of a processing deformed layer (a flaw etc.) remaining at a chamfer part.例文帳に追加

研磨工程終了後、ガラス基板の表面を、フッ酸や硝酸等を含む酸性のエッチング溶液を用いて５μｍエッチングし、面取り部に残留する加工変質層（キズなど）を等方的にエッチングして観察しやすい大きさのピット欠陥にした後、光学顕微鏡を用いて観察する。 - 特許庁

To provide an optical pickup provided with a spherical aberration compensation optical system in which the quantity of the compensation of spherical aberration caused by the substrate thickness error of a disk medium can be set over two steps of large and small steps, in a optical pickup for recording and reproducing a multi-layer disk medium in which density is high, using high NA objective lens.例文帳に追加

高NAの対物レンズを用い、高密度かつ2層以上の多層ディスク媒体を記録再生する光ピックアップにおいて、ディスク媒体の基板厚誤差により発生する球面収差の補正量を大小の2段階にわたって設定可能な球面収差補正光学系を備えた光ピックアップを提供する - 特許庁

To provide a thermosetting resin composition suitable for forming a flexible coating film excellent in adhesiveness with a substrate, folding resistance, low warpage property, soldering heat resistance, electroless gold plating resistance, electric insulation property or the like, and to provide a flexible printed wiring board or the like having a protective film or an insulation layer comprising a cured product of the above composition formed therein.例文帳に追加

基材との密着性、耐折性、低反り性、はんだ耐熱性、無電解金めっき耐性、電気絶縁性等に優れた可撓性の被膜形成に適した熱硬化性樹脂組成物、及びその硬化物からなる保護膜や絶縁層を形成したフレキシブルプリント配線板等を提供する。 - 特許庁

The masking tape 1 is provided by overlapping the lower surface edge 114 of the substrate material 11 with the upper surface edge 123, and positioning the lower surface edge 124 of the adhesive agent layer 12 at more inside than that of the upper surface edge 123 relative to the width direction at the both sides in width direction of an optional cross section which is vertical in longitudinal direction.例文帳に追加

マスキングテープ１では、長手方向に垂直な任意の断面の幅方向の両側において、基材１１の下面エッジ１１４が粘着剤層１２の上面エッジ１２３と重なり、粘着剤層１２の下面エッジ１２４が上面エッジ１２３よりも幅方向に関して内側に位置する。 - 特許庁

To provide an optical sheet pasting material for improvement of light-extraction efficiency for an EL element, with improved light-extraction efficiency as well as lowered visibility of defects of an optical sheet surface, and with easy-to-peel-off performance, that is, a rework property between a pasting layer and a translucent substrate after pasting.例文帳に追加

光取り出し効率を向上させるとともに光学シート表面の傷の視認性を下げるとともに貼合後に貼合層と透光性基板との間にて剥がしやすい性能、即ちリワーク性を有するＥＬ素子用の光取り出し効率向上のための光学シート貼合用材料を提供する。 - 特許庁

A substrate for recording medium has a track pattern constituted of plural concentric circle-, spiral-or stripe-shaped recessed and projecting parts for dividing tracks thereon and the recessed and projecting parts are manufactured by applying a liquid compound including a precursor for forming a SiO2 layer thereon and converting the liquid compound into SiO2.例文帳に追加

基板上に同心円状、スパイラル状もしくは縞状に多数のトラック分割用の凹凸部から構成されるトラックパターンを有し、前記凹凸部がＳｉＯ_2層を作るための前駆体を含む液状化合物を塗布し、前記液状化合物を転化してＳｉＯ_2となすことにより作製された記録媒体用基板。 - 特許庁

To provide a structure having a release layer comprising an electron beam curable silicone resin, which can sufficiently put the merit of electron beam curing low in energy necessary for curing to a practical use, can reduce the damage to a substrate and requires no large-sized electron beam irradiation device, and a manufacturing method therefor.例文帳に追加

硬化に必要なエネルギーが小さいという電子線硬化のメリットを十分に生かすことができ、下地へのダメージを低減することができ、大型の電子線照射装置が不要な、電子線硬化型シリコーン樹脂からなる剥離層を有する構造体およびその製造方法を提供すること。 - 特許庁

A thin film transistor substrate having the semiconductor layer 33 of the thin film transistor and source-drain electrodes 28, 29, wherein the source-drain electrodes 28, 29 are composed of nitrogen containing layers that contain nitrogen, or oxygen/nitrogen containing layers 28a, 29a, and thin films 28b, 29b of pure Cu or Cu alloys.例文帳に追加

薄膜トランジスタの半導体層３３と、ソース−ドレイン電極２８，２９とを有する薄膜トランジスタ基板において、ソース−ドレイン電極２８，２９は、窒素を含有する窒素含有層、または窒素及び酸素を含有する酸素窒素含有層２８ａ、２９ａと、純Ｃｕ又はＣｕ合金の薄膜２８ｂ、２９ｂとからなっている。 - 特許庁

A charge generating agent having no absorption peak in the maximum intensity wavelength of flash light emitted by the flash fixing means but having a main absorption peak within a wavelength region where the intensity of the flash light is 1/2 or less of the maximum intensity is incorporated in a photoreceptive layer formed on a supporting substrate.例文帳に追加

支持基体上に形成された感光層に、フラッシュ定着手段が発するフラッシュ光の最大強度波長に吸収ピークを有しておらず、かつ前記フラッシュ光の強度が最大強度の１/2倍以下となる波長域内に主たる吸収ピークを有する電荷発生剤を含有させた。 - 特許庁

The nucleation layer can be deposited by using a first process gas which contains tungsten hexafluoride, silane, molecular hydrogen and argon and has a flow ratio of molecular hydrogen to argon of about 1.5:1 and also a partial pressure of tungsten hexafluoride of 0.5 Torr or below and allowing the first process gas to flow into the substrate processing chamber.例文帳に追加

核生成層は、六フッ化タングステン、シラン、分子水素およびアルゴンを含みアルゴンに対する分子水素の流量比が約１．５：１であり、また六フッ化タングステンの分圧が０．５トルに等しいかまったはそれ以下である第１の処理ガスを、前記基板処理チャンバ中へ流すことによって堆積される。 - 特許庁

A semi-conductor wafer in which a plurality of pads are formed on its surface and a plurality of structural bodies exposed to a pad forming surface side are formed, and a sheet on which a plurality of protective caps to protect the structural bodies are separately fixed while the pads are exposed on one surface of a support substrate via a heat-peelable layer are prepared.例文帳に追加

表面にパッドが複数形成され、パッド形成面側に露出する構造体が複数形成された半導体ウェハと、熱剥離層を介して、支持基板の一面上にパッドを露出させつつ構造体を保護するための保護キャップが互いに離間して複数固定されたシートを準備する。 - 特許庁

In this method for manufacturing a semiconductor substrate, a silicon wafer 36 added with impurities at a high concentration is housed in a chamber 22, and while a hydrogen gas 28 is supplied into the chamber 22, the surface of the silicon wafer 36 is scanned with a line laser light to eliminate impurities thereon, thereby forming a shallow low-concentration layer on the surface of the silicon wafer 36.例文帳に追加

不純物が高濃度に添加されたシリコンウェハ（３６）をチャンバー（２２）内に収容し、該チャンバー（２２）内に水素ガス（２８）を供給しながら、シリコンウェハ（３６）の表面をライン状のレーザ光で走査して、該表面に存在する不純物を脱離し、シリコンウェハ（３６）の表面に浅い低濃度層を形成する。 - 特許庁

In the manufacturing method of the semiconductor device 1, a first removing process is started in a gate electrode layer 4A on a semiconductor substrate 2, then, the terminal of the first removing process is detected, and the time of a second removing process of a next stage different in a processing condition from the first removing process is determined based on the terminal time.例文帳に追加

半導体装置１の製造方法において、半導体基板２上のゲート電極層４Ａにおいて第１の除去処理を開始し、この第１の除去処理の終点を検出し、この終点時間に基づき、第１の除去処理に対して処理条件が異なる次段の第２の除去処理の時間を決定する。 - 特許庁