「surface defects」に関連した英語例文の一覧と使い方(30ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide glass having a refractive index and a thermal expansion coefficient which are close to those of quartz glass and also having superior anti-devitrification property being good enough to avoid the development of defects such as devitrification on a glass surface even when it is molded by using wire molding or reheating molding, specifically, an optical glass for use in an optical communication device and particularly optical glass for use in a stub.例文帳に追加

屈折率、熱膨張係数が、それぞれ石英ガラスのそれに近く、さらに線引き成形や再加熱成形しても、失透等の欠陥がガラス表面に発現しない程度の良好な耐失透性を兼ね備えたガラス、具体的には、光通信用デバイスに使用される光学ガラス、特にスタブに使用する光学ガラスを提供すること。 - 特許庁

To provide a photosensitive black-colored resin composition capable of forming a black matrix as a barrier that prevents color mixing caused by intrusion of inks in different colors between adjoining color pixel layers and prevent pixel defects such as local voids, without applying a special surface treatment such as plasma treatment.例文帳に追加

プラズマ処理のような特殊な表面処理を施すことなく、隣接する色画素層間における異色インクの混入により発生する混色を防止することができ、局部的な白抜けなどの画素欠陥が発生するのを防止することができる隔壁となるブラックマトリクスを形成することが可能な感光性黒色樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To form a rust-preventing synthetic resin coating film which covers the surface of the compression-molded main body of a resin-bonded rare-earth magnet formed by compression-molding a thermosetting synthetic resin, containing rare-earth alloy powder as thin as possible without causing defects such as bubbles, pinholes, etc.例文帳に追加

希土類合金粉末と熱硬化性合成樹脂を圧縮成形した樹脂結合型希土類磁石において、圧縮成型した磁石本体の表面を覆う合成樹脂からなる防錆被膜を、気泡やピンホールなどの欠陥を生ぜさせることなく、可及的に薄く形成することが出来るような樹脂結合型希土類磁石を得ること。 - 特許庁

To provide an aqueous dispersion for chemical mechanical polishing, and a chemical mechanical polishing method using the same which reduce a polishing speed for a low-permittivity insulation film, achieve both high polishing speed and high planarization characteristics for an interlayer insulation film (a cap layer) such as a TEOS film, and suppress generation of surface defects such as dishing, erosion, scratch, and fang.例文帳に追加

低誘電率絶縁膜に対する研磨速度を低減すると共に、ＴＥＯＳ膜等の層間絶縁膜（キャップ層）に対する高研磨速度と高平坦化特性を両立させ、かつ、ディッシング、エロージョン、スクラッチないしファング等の表面欠陥の発生を抑制できる化学機械研磨用水系分散体、およびそれを用いた化学機械研磨方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method in which a single crystal can be produced with high yield using a crystal pulling process capable of manipulating the single crystal cost-efficiently in a simple form, and the single crystal can be processed by a suitable surface treatment for forming a semiconductor wafer with less defects so that the semiconductor wafer has a particularly high final flatness not limited by fluctuation of impurity concentration.例文帳に追加

単結晶を、コスト効率よく、簡単な形式で操作することができる結晶引上げプロセスを用いて、高い歩止まりで製造し、該単結晶を、欠陥の少ない半導体ウェハを形成するために適当な表面処理により処理することができ、該半導体ウェハが、不純物濃度の変動により制限されない特に高い最終フラットネスを有している方法を提供する。 - 特許庁

To highly strengthen the product of a metallic strip more than conventional products even in the case that the total draft in finish rolling is made equal and also to prevent the impossibility of continuation of transportation by the collision of the tip and the surface defects such as dents on a product without using a leveler which is not necessary to highly strengthen by making the movement of a leveler to be performed easily and rapidly.例文帳に追加

仕上圧延での全圧下率を同じとした場合でも従来以上に金属ストリップ製品を高強度化することができると共に、レベラの移動を簡便かつ迅速に行うことができるようにして、先端突掛かりによる搬送継続不能や高強度化する必要のないレベラ不使用製品の押し込み疵などの表面欠陥を防止する。 - 特許庁

The ultrasonic measuring device scans the surface of a specimen 15 with an ultrasonic probe 16, transmits ultrasonic waves U1 from the ultrasonic probe to the specimen, receives reflection echoes U2 returning from the specimen, and processes reception waveform data generated from the reflection echoes by an arithmetic processing means (waveform arithmetic processing program 37), so that the internal defects 51 of the specimen are inspected.例文帳に追加

超音波計測装置は、超音波探触子１６で被検体１５の表面を走査し、超音波探触子から被検体に向けて超音波Ｕ１を送出しかつ被検体から戻る反射エコーＵ２を受信し、反射エコーから生成される受信波形データを演算処理手段（波形演算処理プログラム３７）で処理し、被検体の内部欠陥５１を検査する。 - 特許庁

To provide an aqueous dispersion for chemical mechanical polishing, and a chemical mechanical polishing method using the same which reduce a polishing speed for a low-permittivity insulation film, achieve both high polishing speed and high planarization characteristics for an interlayer insulation film (a cap layer) such as a barrier metal film and TEOS film, and suppress generation of surface defects such as dishing, erosion, scratch, and fang.例文帳に追加

低誘電率絶縁膜に対する研磨速度を低減すると共に、バリアメタル膜およびＴＥＯＳ膜等の層間絶縁膜（キャップ層）に対する高研磨速度と高平坦化特性を両立させ、かつ、ディッシング、エロージョン、スクラッチないしファング等の表面欠陥の発生を抑制できる化学機械研磨用水系分散体、およびそれを用いた化学機械研磨方法を提供する。 - 特許庁

It is possible to prevent the rear face sublimation of the seed crystal and the suppressing of the generation of macro defects that elongate in the growing crystal, by adhering a first silicon carbide substrate on the surface of the seed crystal supporting part of a covering body via an adhesive, adhering a second silicon carbide substrate as the seed crystal on the first silicon carbide substrate via an adhesive, and growing silicon carbide single crystal.例文帳に追加

蓋体の種結晶支持部の表面に接着剤を介して第１の炭化珪素基板を接着し、この第１の炭化珪素基板上に接着剤を介して、種結晶として第２の炭化珪素基板を接着し、炭化珪素単結晶を成長させることにより、種結晶の裏面昇華を防ぎ、成長結晶中に伸長するマクロ欠陥を抑制することができる。 - 特許庁

To provide surface processing nickel powder having characteristics suited as an internal electrode material for suppressing cutoff of an internal electrode by lamination of the internal electrode and structural defects such as crack and delamination in a manufacturing process of a laminated ceramic electronic component, to provide conductive coating using the same and to provide a high-quality laminated ceramic electronic component thereby.例文帳に追加

積層セラミック電子部品の製造工程において、内部電極の薄層化による内部電極切れや、クラックやデラミネーション等の構造欠陥を抑制するために、内部電極材料として適した特性をもつ表面処理ニッケル粉末を提供すること、およびそれを用いた導電性塗料、さらにはこれにより高品質な積層セラミック電子部品を提供することを目的とする。 - 特許庁

The flat panel display wiring and electrode using the TFT transistor that scarcely generates thermal defects and is excellent in the surface state including the copper alloy thin film having a composition containing calcium of 0.001 to 0.5 atom% and silver of 0.002 to 1.0 atom% and the remaining portion including copper and unavoidable impurities and the sputtering target for forming them are provided.例文帳に追加

Ｃａ：０．００１〜０．５原子％を含有し、さらにＡｇ：０．００２〜１．０原子％を含有し、残部がＣｕおよび不可避不純物からなる組成を有する銅合金薄膜からなる熱欠陥発生が少なくかつ表面状態の良好なＴＦＴトランジスターを用いたフラットパネルディスプレイ用配線および電極、並びにこれらを形成するためのスパッタリングターゲット。 - 特許庁

To provide an electrophotographic photoreceptor that is superior in mechanical durability and oxidation resistance of the surface thereof, capable of suppressing occurrence of image defects attributed to adhesion of discharge products without using a drum heater or the like, that is superior also in sensitivity and capable of easily maintaining these properties at the high level over time, and to provide a process cartridge and an image forming apparatus that uses the electrophotographic photoreceptor.例文帳に追加

表面の機械的耐久性や耐酸化性に優れ、ドラムヒータなどを使用しなくとも放電生成物の付着に起因する画像欠陥も抑制できると共に、感度にも優れ、さらに、これらの特性を経時的に高いレベルで維持することが容易な電子写真用感光体及びこれを用いたプロセスカートリッジ、並びに画像形成装置を提供することである。 - 特許庁

To detect defects, such as surface cracks, generated in a large steel structure, such as a bridge and each kind of cargo handling equipment, remotely, easily, and reliably by a simple apparatus configuration without assembling a scaffold for defect detection work, without requiring any heating means of the steel structure, and without requiring any means for applying a load to the steel structure, such as a shaking apparatus.例文帳に追加

橋梁や各種荷役機械などの大型鋼構造物に生じた表面亀裂などの欠陥を、欠陥検出作業用の足場を組むことなく、鋼構造物の加熱手段を必要とせず、しかも、加振装置などの鋼構造物への荷重負荷の付与手段を必要とせずに、簡単な装置構成によって、離れた場所から容易かつ確実に検出することができる。 - 特許庁

To provide a method for molding an optical element preventing defects such as a mesh-like appearance, blowhole, a sink due to a shrink difference between an orientation part and a non-orientation part from occurring on the surface of a molded article obtained, in a manufacturing method for obtaining a high precision reflective optical element, etc., by using a thermoplastic resin, and the optical element formed by the method.例文帳に追加

熱可塑性樹脂にて高精度の反射型光学部品等をを得るための製造方法に係り、特に得られた成形品の表面に網目状表面外観不良、気泡の発生及び配向部と未配向部の収縮差による表面ヒケなどの外観不良の発生を防止した成形方法及びその方法で成形された光学部品を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide an aqueous dispersion for chemical mechanical polishing and a chemical mechanical polishing method using the same which reduce a polishing speed for a low-permittivity insulation film, achieve both high polishing speed and high planarization characteristics for an interlayer insulation film (a cap layer) such as a barrier metal film and TEOS film, and suppress occurrence of surface defects such as dishing, erosion, scratch and fang.例文帳に追加

低誘電率絶縁膜に対する研磨速度を低減すると共に、バリアメタル膜およびＴＥＯＳ膜等の層間絶縁膜（キャップ層）に対する高研磨速度と高平坦化特性を両立させ、かつ、ディッシング、エロージョン、スクラッチないしファング等の表面欠陥の発生を抑制できる化学機械研磨用水系分散体、およびそれを用いた化学機械研磨方法を提供する。 - 特許庁

To satisfy magnetic characteristics, film thickness, adhesion, uniformity, smoothness, etc. required for a soft magnetic backing layer of a vertical magnetic recording medium to be a hard disk by forming a soft magnetic plating film by an electroless plating method after applying etching processing to a glass substrate by using an etching solution capable of uniformly applying suitable roughness to the surface of the glass substrate without generating defects.例文帳に追加

表面に適度な粗さを均一に欠陥なく付与することが可能なエッチング液を用いてガラス基板にエッチング処理を施した後に無電解めっき法により軟磁性めっき膜を形成することにより、ハードディスクとしての垂直磁気記録媒体の軟磁性裏打ち層に要求される磁気特性、膜厚、密着性、均一性、平滑性などを満足させる。 - 特許庁

The semiconductor includes a first semiconductor crystal layer 11 and a second semiconductor crystal layer 16, wherein the second semiconductor crystal layer 16 is formed covering a part of one surface side of the first semiconductor crystal layer 11, which is constituted so that surface density of crystal defects at a part 11A which is covered with the second semiconductor crystal layer 16 is higher than that at a part 11B which is not covered with the second semiconductor crystal layer 16.例文帳に追加

本発明の半導体は、 第一の半導体結晶層１１と、第二の半導体結晶層１６とを含み、 前記第二の半導体結晶層１６は、前記第一の半導体結晶層１１の片面側の一部を覆うように形成されており、 前記第一の半導体結晶層１１は、前記第二の半導体結晶層１６で覆われている部分１１Ａが、前記第二の半導体結晶層１６で覆われていない部分１１Ｂよりも結晶欠陥の面密度が高いことを特徴とする。 - 特許庁

The interface system, which can be a stand alone item, provides a tool for use by a surgeon or the like which allows a surgeon to input his expertise in the development of a clinical ablation profile that is well suited for the eye characteristics, review and also simulate a wide variety of potential surgical alternatives for a wide variety of corneal defects including irregular eye shapes and corneal surface irregularities.例文帳に追加

自立型のものとすることができるインタフェース装置は、眼の形の不整形や角膜表面の凹凸等を含めた広範囲の角膜欠陥に対する広範囲な潜在的外科的代替処置を調べて、シミュレートもできるようにする角膜の眼の諸特性に良く適合する臨床除去プロフィ−ルの開発に外科医等が自己の専門知識を入力できるようにする、外科医等が使用する手段を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing toner that prevents fog of an image and contamination in equipment due to toner subjected to smoothing processing, has sufficient hydrophobic properties without losing smoothness of toner surface without causing degradation of charging, keeps high efficiency of transfer in a high-speed full color image forming method, eliminates image defects in transfer and outputs an image of preferable reproducibility in the long term, and to provide a full color image forming method and a process cartridge.例文帳に追加

平滑化処理したトナーの画像のカブリ、機内汚染を防止するものであり、トナー表面の平滑性を損なうことなく充分な疎水性を有し、帯電の低下が発生せず、高速のフルカラー画像形成方法においても、転写効率が高く、転写時に画像欠陥をなくし長期的に再現性のよい画像を出力するトナーの製造方法、及びフルカラー画像形成方法、プロセスカートリッジを提供する。 - 特許庁

To provide mold powder for continuous casting of steel which solves the conventional defects and problems, and particularly to provide mold powder for continuous casting of steel which causes no generation of flaws and cracks in the surface of a slab, causes no operation troubles such as breakout and the malfunction of the prediction warning of breakout, improves the productivity of steel and remarkably reduce production cost of steel in the continuous casting of steel.例文帳に追加

本発明の目的は、前記の欠点、課題を解消する鋼の連続鋳造用モールドパウダーを提供することにあり、特に、鋼を連続鋳造する際に、鋳片表面キズや割れの発生がなく、ブレークアウトまたはブレークアウト予知警報の誤動作などの操業トラブルもなく、鋼の生産性を向上させ、製造コストを大幅に低減できうる鋼の連続鋳造用モールドパウダーを提供することにある。 - 特許庁

To provide an aluminum-ceramic joined substrate capable of suppressing generation of minute joining defects (voids) at an interface between a metal member and a ceramic substrate when joining the metal member formed of aluminum or aluminum alloy to the ceramic substrate in a melt joining method and capable of easily removing a step caused at a surface of a metal plate when the metal member is the metal plate, and also to provide a manufacturing method for the same.例文帳に追加

溶湯接合法によってアルミニウムまたはアルミニウム合金からなる金属部材をセラミックス基板に接合する際に、金属部材とセラミックス基板との界面に微小な接合欠陥（ボイド）が生じるのを抑制することができるとともに、金属部材が金属板の場合に金属板の表面に生じる段差を容易に除去することができる、アルミニウム−セラミックス接合基板およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

The titanium oxide film having a multilayer structure, in which an upper layer film containing the rutile type titanium oxide less in the crystal defects is formed on an under layer film, can be obtained by sputtering a target containing titanium in a plasma containing oxygen while controlling the substrate temperature and the sputtering pressure on the surface of the substrate, on which the under layer film composed of crystal oriented rutile type titanium oxide is formed.例文帳に追加

結晶配向したルチル型酸化チタンからなる下層膜が形成された基板表面に、基板温度及びスパッタリング圧を制御した状態で、酸素を含むプラズマ中でチタンを含むターゲットをスパッタリングすることによって、前記下層膜の表面に結晶欠陥少ないルチル型酸化チタンが含まれた上層膜を形成した複層構造を有する酸化チタン膜を得ることができる。 - 特許庁

To provide a developer for an image forming apparatus which suppresses production of a discharge product on a photoreceptor surface, prevents image defects so as to supply stable images over a prolonged period of time, and can prevent even contamination of a charging roller, with respect to a developer for developing a latent image formed on an amorphous silicon photoreceptor by charging with a charging roller and exposure.例文帳に追加

帯電ローラで帯電させて露光することにより、アモルファスシリコン感光体上に形成された潜像を現像する現像剤において、感光体表面への放電生成物の生成を抑止し、画像不具合を防いで長期にわたって安定した画像を供給すると共に、帯電ローラの汚染をも防止することのできる画像形成装置用現像剤を提供することが課題である。 - 特許庁

The large crystalline SiC substrate which is reduced in crystal defects and distortion and is low in the manufacturing cost is manufactured by the hot hydrostatic press treatment of a SiC material formed in a cylinder or a column form, or by forming a carbonaceous coating on the outer surface of a crystalline SiC material before the hot hydrostatic press treatment process for the purpose of reducing open pores of the crystalline SiC material.例文帳に追加

円柱、立柱形状に形成したＳｉＣ材料を熱間静水圧加圧処理することにより、あるいは結晶ＳｉＣ材料の開気孔を低減することを目的として熱間静水圧加圧処理工程の事前にＳｉＣ材料の外表面に炭素質の被膜を形成することにより結晶欠陥、ひずみが少なく、製造コストが安価な大形状の結晶性ＳｉＣ基板を製造する。 - 特許庁

A defect detector includes: an illumination light source unit for illuminating an interior of the transparent plate; an imaging camera unit having a plurality of imaging cameras provided on at least one of opposite upper and lower surface of the transparent plate, imaging the transparent plate, and linearly disposed; and a detector for detecting the defects in the transparent plate by using light reception signals output from the imaging cameras.例文帳に追加

欠陥検出装置は、透明板状体の内部を照明する照明光源ユニットと、透明板状体の対向する上面及び下面の少なくとも一方の面の側に設けられ、透明板状体を撮影する、直列状に配列した複数の撮影カメラを有する撮影カメラユニットと、撮影カメラから出力された受光信号を用いて透明板状体の欠陥を検出する検出器と、を有する。 - 特許庁

To provide a polyacetal resin composition capable of drastically improving the extrusion moldability in the melt mixing or melt kneading of a polyacetal resin and a thermoplastic resin other than polyacetal resin and/or a thermoplastic elastomer without causing remarkable lowering of mechanical properties and giving a molded article having excellent appearance free from visual defects such as warpage, sink mark and surface delamination and provide a method for producing the composition.例文帳に追加

ポリアセタール樹脂とポリアセタール樹脂以外の熱可塑性樹脂及び／又は熱可塑性エラストマーとを溶融混合又は溶融混練させる際に、機械物性の著しい低下をもたらすことなく、その押出加工性を劇的に改善させるとともに、反り、ひけ、表面剥離等の外観不良がなく、優れた外観の成形品を得ることのできるポリアセタール樹脂組成物及びその製造方法の提供。 - 特許庁

And in the liquid crystal display device, the uniformity of the coating of an organic protective film 48 can be sufficiently secured by applying the protective film having ≤1.5 μm thickness and defects of discontinuity and dyeing between a transistor and a pixel electrode 50 can be minimized by uniformly etching surface to form a contact hole 42 for connecting a source electrode 46 of a TFT with the pixel electrode 50.例文帳に追加

また、ここにいう液晶表示素子において有機保護膜の厚さを１．５μｍ以下に塗布することで有機保護膜４８のコーティングの均一性を充分に確保することができ、画素電極５０とＴＦＴのソース電極４６を接続させるためのコンタクトホール４２のエッチングを均一にしてトランジスタと画素電極５０の間の断線不良及び染色不良を最小化することができる。 - 特許庁

To provide a honing method for a cylindrical substrate in which the outer surface of a wet-honed cylindrical substrate after washing is free from a polishing agent (abrasive particles), and to provide a method for manufacturing an electrophotographic photoreceptor using such a cylindrical substrate as a conductive substrate and free of occurrence of image defects such as voids, black spots, and density unevenness in an image when used in an electrophotographic apparatus.例文帳に追加

湿式ホーニング処理を行った円筒状基体の洗浄後において、円筒状基体の外面に研磨剤（砥粒）がない円筒状基体のホーニング処理方法を提供し、また、そのような円筒状基体を導電性基材として用いた電子写真感光体を電子写真装置に使用した際に、画像に白抜け、黒点及び濃度ムラ等の画像欠陥の発生がない電子写真感光体の製造方法を提供することである。 - 特許庁

This EL phosphor containing at least ZnS-based phosphor particles and a covering layer formed on their surfaces is provided by containing the particles having 0.1-15 μm main particle size and <35% coefficient of the variation of particle size distribution and containing ≥30% particles containing ≥10 pieces of laminated layer defects of ≤5 nm surface spacing in the whole particles.例文帳に追加

少なくともＺｎＳ系蛍光体粒子とその表面に形成した被覆層とを含むＥＬ蛍光体であって、該粒子が、中心粒子サイズが０．１〜１５μｍであり、粒子サイズ分布の変動係数が３５％未満であり、且つ、５ｎｍ以下の面間隔の積層欠陥を１０枚以上含有する粒子を粒子全体の３０％以上含有するＥＬ蛍光体で、被膜層は、酸化物、窒化物、フッ化物、リン酸塩、有機化合物等である。 - 特許庁