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surface defectsの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 1484件
To provide a welding method where, upon the friction stir welding of metallic members having different melting points each other, a sound welded part free from defects at the inside and in the vicinity of the surface can be securely obtained, and to provide a welding tool used therefor.例文帳に追加
融点が互いに異なる金属部材同士を摩擦攪拌接合するに際し、内部や表面付近に欠陥のない健全な接合部を確実に得られる接合方法およびこれに用いる接合ツールを提供する。 - 特許庁
To prevent an increase in pattern defects even when repeatedly using a work stamper to be used for transferring a pattern onto a resist formed on a recording surface of a magnetic recording medium by an imprinting method, thereby reducing the manufacturing cost of the magnetic recording medium.例文帳に追加
磁気記録媒体の記録面に形成されるレジストにインプリント法によりパターン転写する際に使用されるワーク用スタンパを繰り返し使用してもパターン欠陥の増加を抑制し、磁気記録媒体の製造コストを低減すること。 - 特許庁
To provide an immersion nozzle capable of effectively reducing the generation rate of surface defects in the center part of a cast slab, which are caused by MHD countercurrents, and of which the structure is simple and the maintenance is easy, and to provide a continuous casting method using the immersion nozzle.例文帳に追加
MHD対向流による鋳片のセンター部の表面欠陥発生率を効果的に減少させることができ、しかも構造が簡単でメンテナンスも容易な浸漬ノズル及びこれを用いた連続鋳造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a method for stably producing, by a spray coating method, a porous siliceous film having a good porous structure, free of problems on the appearance, such as film defects and film surface roughness, and showing excellent functionalities, such as a low refractive index and excellent durability.例文帳に追加
スプレーコート法により、良好な多孔質構造を有し、膜欠陥や膜表面荒れといった外観上の問題がなく、低屈折率性等の機能性、耐久性に優れたシリカ系多孔質膜を安定に製造する。 - 特許庁
To provide a method capable of manufacturing an epitaxial wafer that can reduce the generation of defects (pits) on the surface of an epitaxial layer while suppressing the manufacturing cost by omitting an oxide film forming process, an oxide film removing process, or the like.例文帳に追加
酸化膜形成工程、酸化膜除去工程などを省略して製造コストを抑制しつつ、エピタキシャル層表面への欠陥(ピット)発生を低減したエピタキシャルウェーハを製造することができる方法を提供する。 - 特許庁
To provide washing water which has sufficient detergency, prevents damage to glass and the occurrence of latent defects, and, even when glass washed therewith is press-shaped, prevents a poor surface precision and the occurrence of cracks; and a washing method using it.例文帳に追加
充分な洗浄力を有し、ガラスへのダメージや潜傷の発生を防止し、洗浄水を用いて洗浄したガラスをプレス成形しても、面精度不良やカン、ワレの発生を防止できる洗浄水の提供及びその使用。 - 特許庁
To provide a method for decontaminating the component of a nuclear facility or a surface having an oxide layer of a system which is able to overcome the defects in conventional apparatuses and methods, to function effectively, and in particular, which can be carried out in a single step.例文帳に追加
従来の装置及び方法の上記欠点を克服して、有効に機能し、特に1工程で実施することができる、原子力施設の部品又は系の酸化物層を有する表面を汚染除去する方法を提供する。 - 特許庁
To drill holes in a circumferential part of a work hole to reduce a horizontal stress to be applied to a workpiece mounted on the work hole, without installing an elastic body on the inner circumferential surface of the work hole, thereby reducing defects.例文帳に追加
ワークホールの内周面に弾性体を設けることなく、ワークホールの周囲の部位に穴加工することで、ワークホール内に装填の被加工物に加えられる水平方向の応力を穏やかにして、不良の発生を抑える。 - 特許庁
To provide a method for easily producing an oxidation-resistant carbon material having a coating film on the surface, which hardly causes cracks or defects even when the film thickness increases, and hardly exfoliates; thereby oxidation resistance of the graphite substrate is sufficiently improved.例文帳に追加
膜厚が厚くなっても亀裂や欠陥を生じ難く剥離し難い被膜を表面に有し、黒鉛基材の耐酸化性が十分に向上された耐酸化性炭素材料を簡便に製造する方法を提供する。 - 特許庁
To provide a mold wash for metal molds which insures casting in a manner as not to give rise to casting defects, such as a casting surface defect, chill and misrun, at the time of casting cast iron castings and cast steel castings by a low-pressure casting method.例文帳に追加
低圧鋳造法によって鋳鉄鋳物や鋳鋼鋳物を鋳造するにあたり、鋳物に鋳肌不良、チル及び湯廻り不良などの鋳物欠陥が発生しないようにすることの可能な金型用塗型剤を提供する。 - 特許庁
To provide a rolling method by which the surface defects of products such as seizing are reduced in the rolling of a metallic sheet such as an aluminum sheet performed by using the roll to which hard chromium plating is applied, and to provide a rolling roll therefor.例文帳に追加
硬質クロムめっきを施したロールを用いて行なうアルミニウムなどの金属板の圧延において、焼付きなどの製品表面欠陥を低減する圧延方法およびそれに用いる圧延用ロールを提供することである。 - 特許庁
To provide a shadow mask in which defects due to dust generated by the peeling of a thin film accumulated on the surface in the process of vacuum deposition, sputtering or the like are prevented, and which can be stably used over a long period.例文帳に追加
真空蒸着やスパッタリングなどの過程においてシャドーマスクの表面に累積した薄膜の剥離によって生じる粉塵による欠陥を防止して、長期間安定して用いることができるシャドーマスクを提供する。 - 特許庁
To stabilize the physical properties of powder over the whole period of continuous casting operation, thereby to prevent operational troubles such as break out and moreover to produce a B-containing steel slab free from surface defects.例文帳に追加
鋳造操業の全期間を通じて、パウダーの物性値を連続鋳造操業の全期間にわたり安定させて、ブレークアウトなどの操業上のトラブルを防止するとともに、表面欠陥のないB含有鋼鋳片を製造する。 - 特許庁
To provide a method and an apparatus for processing a substrate, in which defects and contamination are prevented, while enhancing the yield and characteristics by removing dust adhering to the surface of a substrate and the cost can be reduced by increasing the number of times of utilizing a ply-sheet.例文帳に追加
基板の表面に付着したダストを除去して欠陥やコンタミを防止し、歩留りや特性を向上させ、合紙の利用回数を増やしてコストを低減できる基板処理方法およ基板処理装置を提供する。 - 特許庁
By further optimizing the distribution of the draft in the width direction, the distribution in the width direction of the stress in the rolling direction in the outer layer of the slab is equalized and the generation of the surface defects is reduced over the whole region in the width direction of the slab.例文帳に追加
幅方向における圧下率の分布をより適正化することにより、スラブ表層における圧延方向応力の幅方向分布が均一化され、スラブの幅方向全域にわたって表面疵の発生を削減できる。 - 特許庁
As a result, the flow rate of the coating liquid extruded from the entire part in the transverse direction (corresponding to the transverse direction of the coating application) of the slots 30 to the sliding surface 28 may be made uniform and therefore the good coating application layer free of the coating application defects may be obtained.例文帳に追加
これにより、スロット30の幅方向(塗布幅方向に相当)全体からスライド面28に押し出す塗布液の流量を均一にすることができるので、塗布欠陥のない良好な塗布層を得ることができる。 - 特許庁
To provide a semiconductor substrate of a structure, wherein a high- quality GaN compound semiconductor film can be crystal-grown even on any part of the substrate and the substrate has the surface, in which generation of crystal defects is reduced, of the GaN compound semiconductor film.例文帳に追加
基板のどの部分においても高品質なGaN系化合物半導体を結晶成長することが可能な、結晶欠陥の低減されたGaN系化合物半導体表面を有する半導体基板を提供する。 - 特許庁
A coloring layer 5 and a surface protective layer 6 are formed by the aggregate of fine area divisions such as that of dots or the like on a card base material 2, onto the under side of which a magnetic recording layer 3 and onto the top side of which a rewritable layer 4 are laminated so as to settle defects.例文帳に追加
下面に磁気記録層3、上面にリライタブル層4が積層されたカード基材2上に、着色層5および表面保護層6を網点状等、微小な面積の区域の集合で形成し、課題を解決した。 - 特許庁
To consistently manufacture a hot-dip metal-coated steel strip of high quality by adequately suppressing occurrence of defects on a coated surface by the splash irrespective of the steel strip passing speed when controlling the coating deposit by using a gas wiping nozzle.例文帳に追加
ガスワイピングノズルを用いてめっき付着量の制御を行う際に、鋼帯の通板速度に関わりなくスプラッシュによるめっき表面欠陥の発生を適切に抑え、高品質の溶融金属めっき鋼帯を安定して製造する。 - 特許庁
To provide a stress-free epitaxially-coated semiconductor wafer that has an excellent edge roll-off value and excellent local flatness while simultaneously avoiding the undesirable crystal defects, back-surface halo, autodoping, and nanotopography action.例文帳に追加
良好なエッジロールオフ値および良好な局所的平坦度を有すると同時に、望ましくない結晶欠陥、背面のハロ、オートドーピングおよびナノトポグラフィ作用を回避した、応力フリーのエピタキシャルコーディング半導体ウェハを提供すること。 - 特許庁
To provide a nitrile rubber composition used for forming a rubber layer of a rubber-metal laminated plate, and allowing a reduction in occurrence of streak defects on the rubber layer surface applied onto a metal plate and vulcanization unevennesses etc., after vulcanization of rubber.例文帳に追加
ゴム金属積層板のゴム層形成に用いられるニトリルゴム組成物であって、金属板上に塗布されたゴム層表面のスジ不良およびゴム加硫後の加硫ムラなどの発生を低減せしめることを可能とするものを提供する。 - 特許庁
To provide continuous casting powder suitably used for the continuous casting of a boron-containing stainless steel; and to provide a continuous casting method for producing a boron-containing stainless steel slab free from surface defects using the powder.例文帳に追加
ボロン含有ステンレス鋼の連続鋳造に用いて好適な連続鋳造パウダーを提供すること、およびそのパウダーを用いて、表面欠陥のないボロン含有ステンレス鋼スラブを製造する連続鋳造方法を提案すること。 - 特許庁
To detect servo information in spite of the presence of minute defects in a servo information recognition method and a disk device in which the servo information is recorded on a data surface at fixed intervals.例文帳に追加
データ面に一定の間隔でサーボ情報が記録されたサーボ情報認識方法及びディスク装置に関し、サーボ情報を微小欠陥によらず検出できるサーボ情報認識方法及びディスク装置を提供することを目的とする。 - 特許庁
By performing oxidation processing for the surface of an interlayer insulating film made of a metallic oxide thin film deposited by a sputtering method, a CVD method or the like, defects caused by an oxygen loss are reduced to prevent insulating failures.例文帳に追加
スパッタリング法、CVD法などによって堆積させた金属酸化物薄膜からなる層間絶縁膜の表面を酸化処理することにより、酸素欠損に起因する欠陥を低減し、絶縁不良を防止することができる。 - 特許庁
A thin strip produced by the same alloy is free from surface defects and can correspond to various precise and fine working, thus can be applied to various electrical and electronic parts including a lead frame for a semiconductor device.例文帳に追加
本発明の合金より生成された薄条は表面欠陥がなく、各種の精密・微細な加工に対応できることから、半導体装置用リードフレームをはじめ、各種の電気電子用部品に応用することができる。 - 特許庁
MOS capacitors are formed on the surface of a semiconductor silicon wafer and the quality of the semiconductor silicon wafer is evaluated, on the basis of the accidental defects (β mode destruction) rate of Weibull plots obtained by performing a TDDB measurement of the MOS capacitors.例文帳に追加
半導体シリコンウェーハの表面にMOSキャパシタを形成し、該MOSキャパシタのTDDB測定を行うことにより得られるワイブルプロットの偶発不良(βモード破壊)率により、前記半導体シリコンウェーハの品質を評価する。 - 特許庁
To provide an extremely low carbon steel plate, an extremely low carbon steel cast slab, and a method for manufacturing the same in which surface defects can be reliably prevented by minutely depositing oxides during the solidification without generating any inclusions in molten steel.例文帳に追加
溶鋼中に殆ど介在物を生成させることなく、凝固時に酸化物を微細に析出させることにより、確実に表面疵を防止できる極低炭素鋼板、極低炭素鋳片とその製造方法を提示すること。 - 特許庁
To avoid depositing a foreign substrate during carrying or etching of a semiconductor substrate by evaluating the shape, the kinds and sizes of crystal defects or foreign substances clearly existing on or near the surface of the semiconductor substrate taken out from a reaction furnace.例文帳に追加
CVD膜表面及び表面近傍の結晶欠陥又は異物の検出を容易にするような処理を施し、その形状及び密度等を評価することができる半導体基板の評価方法を提供すること。 - 特許庁
In the semiconductor device and its manufacturing method, defects such as penetration dislocation existing in a crystal layer due to selection growth are set to be element isolation surfaces, thus manufacturing the semiconductor device where a flat element separation surface is formed easily.例文帳に追加
本発明では、選択成長によって結晶層中に内在する貫通転位などの欠陥を素子分離面とすることによって容易に、且つ平坦な素子分離面を形成された半導体素子とその製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide an artificial leather having a good soft touch in and dry surface touch and a excellent color-developing properties with dissolving essential defects of a polyamide-based artificial leather and an aromatic polyester- based artificial leather.例文帳に追加
ポリアミド系人工皮革と芳香族ポリエステル系人工皮革の本質的な欠点を解消し、風合の柔軟性および表面タッチのドライ感が良好で、かつ高発色性をも兼ね備えた人工皮革を提供すること。 - 特許庁
To prevent plating defects in a semiconductor wafer W resulted from the slightly remaining air as shown in Fig. 6 (c), because a placing part 2A of supporting body 2 is so thick that the remaining air in a treated surface of the semiconductor wafer W can not be extracted.例文帳に追加
保持体2の載置部2Aが分厚く、半導体ウエハWの被処理面に滞留した空気が完全には抜けず、図6の(c)で示すように僅かではあるが残ってしまい、半導体ウエハWのメッキ不良を招く。 - 特許庁
To obtain a manufacturing method for an insulated container which follows its shape in spite of deformation on a welding surface and makes it difficult to produce sealing defects in the manufacturing method for an insulated container forming in a vacuum-sealed state by welding a plurality of metal plates.例文帳に追加
複数の金属板を溶接して真空封止し形成する断熱容器の製造方法において、溶接面に変形があっても、その形状に追従できて封止欠陥の生じ難い、断熱容器の製造方法を得る。 - 特許庁
To accurately inspect a defect such as a hole opening defect penetrating to an internal space, a peeling defect occurring in a surface layer or a deep part, etc., in a method and an apparatus for inspecting shape defects of a plate material having the internal space.例文帳に追加
内部空間を有する板材の形状欠陥検査方法及び装置において、内部空間にまで貫通する孔開き不良や、表層及び深部において発生する剥離不良などの高精度の欠陥検査を可能とする。 - 特許庁
To provide an image forming apparatus and a process cartridge in which image defects due to toner fusion onto a photoreceptor surface do not occur and good characteristics are ensured, even when a sheet member which suppresses scattering and sweeping of a developer is disposed.例文帳に追加
現像剤の飛散やはき寄せを抑制するシート部材を配置しても、感光体表面へのトナー融着に起因する画像欠陥が発生せず良好な特性を有する画像形成装置及びプロセスカートリッジを提供すること。 - 特許庁
To provide a defect-inspecting method using image processing, independent of the surface state of an inspected object, and automatically and accurately detecting and inspecting the existence of defects, such as cracks.例文帳に追加
画像処理による欠陥検査方法であり、被検査体の表面状態に依存することなく、クラック等の欠陥の有無の検出が自動的に精度よく検査できる欠陥検査方法を提供することを目的とするものである。 - 特許庁
To provide a method and an apparatus for applying a coating solution, which can prevent occurrence of defects when a coating solution is applied to the surface of a flexible base sheet by using a die coater, and a method for producing a coated product.例文帳に追加
可撓性を有する基材シートの表面にダイコータを用いて塗布液を塗布する場合に、欠陥が生じるのを防止することができる塗布液の塗布方法及び塗布装置、並びに、塗布物の製造方法を提供する。 - 特許庁
To suppress the generation of defects on the surface of the metallic sheet of a product by being scratched by peeling the press-contacted matter of the metallic sheet caused by seizure during batch annealing or the loosing of a coil by simple equipment and method.例文帳に追加
金属板が、バッチ焼鈍中に焼き付いて圧着したものを剥がしたり、巻き緩みによって擦り疵になったりすることで、製品金属板の表面に欠陥が発生するのを、簡単な設備と方法により抑制する。 - 特許庁
To provide a heat treatment method for a silicon wafer which can suppress deterioration of surface roughness even when rapid thermal process (RTP) is performed under high temperature at which annihilation force of void defects is high, and can also suppress occurrence of a concave-shaped pit.例文帳に追加
ボイド欠陥の消滅力が高い高温下でRTPを行っても、表面粗さの悪化を抑制することができ、更に、凹形状のピットの発生も抑制することができるシリコンウェーハの熱処理方法を提供する。 - 特許庁
To provide a novel painted plywood for concrete form capable of overcoming surface defects such as a knot and eccentricity of hardness originated in a conifer member, having a high degree of smoothness, having effect for preventing a crack caused by drying, and being usable in place of a broadleaf tree member.例文帳に追加
針葉樹材由来の節目、硬度の偏りなどの表面欠陥を克服し、高度な平滑性を有し、且つ、干割れ防止効果を有する、広葉樹材に代わる新規のコンクリート型枠用塗装合板を提供する。 - 特許庁
To provide an electrophotographic photoreceptor which lessens the deterioration of a surface layer and has excellent release properties and durability, a high-quality electrophotographic device which has decrease electrostatic charging defects and defective images and takes advantage of the benefit of the absence of a cleaner and a process cartridge.例文帳に追加
表面層の劣化が少なく離型性及び耐久性に優れた電子写真感光体、帯電不良や不良画像がなくクリーナレスのメリットを生かした高品質な電子写真装置及びプロセスカートリッジを提供する。 - 特許庁
To provide an optical film with which bright and dark stripes due to surface defects cannot be checked and which has die lines fewer than those of conventional ones for obtaining display device equipped with a light source of high luminance having no light leakage and a method for manufacturing the same.例文帳に追加
表面欠陥に起因する明暗のスジが確認されず、光漏れのない輝度の高い光源を備えた表示装置を得るための、従来のものよりダイラインが少ない光学用フィルムおよびその製造方法を提供する。 - 特許庁
An unstretched film Fa having point defects with a surface protruding height of 0.5 to 8 ηm in 0.01 points/cm^2 to 10 points/cm^2 is longitudinally stretched to 1.01 to 2.5 times by an aspect ratio larger than 2 and not larger than 50 in a longitudinal stretching part 30.例文帳に追加
表面突起高さが0.5〜8μmである点欠陥が0.01個/cm^2〜10個/cm^2である未延伸フイルムFaを、縦延伸部30において、2を超え、50以下の縦横比で1.01〜2.5倍に縦延伸する。 - 特許庁
To provide a fixed abrasive grain polishing tool which reduces such defects generated on a polished surface as a hole-shaped transcription, and a scratch (a flaw) for various kinds of objects to be polished, hardly causes environmental damage, and puts an only light load on cost.例文帳に追加
被研磨面に発生する穴形状の転写やスクラッチ(キズ)などの欠陥の低減を、各種の研磨対象物に対して達成することができ、且つ環境問題やコスト負荷の小さい固定砥粒研磨工具を提供する。 - 特許庁
To provide a light source device wherein screen illumination and color unevenness defects are prevented by preventing peeling-off of a reflecting membrane generated by a load accompanied, when a feeder line junction is mounted on a concave reflecting mirror inner surface.例文帳に追加
凹面反射ミラー内表面に給電線接合部を取り付ける際に加わる荷重により発生する反射膜の剥離を防止することによって、スクリーン照度、色ムラ不良を防止した光源装置を提供すること。 - 特許庁
To provide a novel abrasive material for the abrasion of glass, quartz bases, ceramic bases, semiconductor bases, bases for memory hard disks, semiconductor devices, etc., which exerts a high abrasion rate and evenness and generates little surface defects such as scratches, etc.例文帳に追加
ガラス、水晶基板、セラミック基板、半導体基板、メモリーハードディスク用基板、半導体デバイス等の研磨において、高い研磨速度と高い平坦性を発揮し、かつスクラッチ等の表面欠陥の発生しにくい新規な研磨材を提供する。 - 特許庁
To nondestructively inspect whether defects such as a decrease in thickness, cracks, cracking, and a deficit are developed or not without any contact for a steel structure being exposed to the earth's surface and a steel material and a steel material weld zone being buried underground.例文帳に追加
地表に露出している鋼構造物と地中に埋設されている鋼材及び鋼材溶接部について、減肉、ひび割れ、き裂、欠損という欠陥を生じているか否かが非接触、非破壊的に検査できることを目的とする。 - 特許庁
To solve such a problem that defects such as undercuts are easily produced at a welding toe formed using an end tab, where a corner edge part right-angled to both the tip part of the bottom of a column base metal and the end-stop part of the beveling side surface of a beam base metal is formed.例文帳に追加
エンドタブを用いて形成される溶接止端部には、柱母材底面先端部および梁母材開先側面止端部の双方に直角な隅角部が形成されており、アンダカット等の欠陥が生じやすい。 - 特許庁
To eliminate the defects of damaging easily a plate-shaped body in the case of the direct storage into a case with channels and generating the contact of the paper with the hole of the surface in the case of using an interleaving paper at the time of storage, carriage and handling of the thin, fragile plate-shaped body.例文帳に追加
薄くてもろい板状体を保管・輸送・ハンドリングする際に、溝付きのケースへの直接の収納では板状体が損傷しやすく、合紙を使用すると面全体に触れる必要がある欠点を解消する。 - 特許庁
To avoid electrical defects such as short circuit, etc., of electrodes to each other, formed on the surface of a vibration piece with respect to a tuning fork type crystal vibration piece and a tuning fork type oscillator which are provided with groove parts in leg parts with local electrodes formed inside.例文帳に追加
脚部に溝部を備えその内部に溝内電極が形成された音叉型水晶振動片及び音叉型振動子に対し、振動片の表面に形成される電極同士の短絡等の電気的な不良を回避する。 - 特許庁
When a molding material is mounted in molding such a molding, a closed space is formed between the transfer surface of a molding die and a molding material and is apt to cause the molded optical element to have appearance defects such as air bubbles.例文帳に追加
ここで、かかる光学素子の成形に際しては、成形素材の載置時に成形型の転写面と成形素材との間に密閉空間が形成され、成形後の光学素子にエア溜りなどの外観不良が生じ易くなる。 - 特許庁
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