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surface defectsの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 1484件
When grooves 8a are provided, the p-type group III nitride semiconductor 8 and the electrode come into ohmic contact on the side surface of a groove 8d with fewer defects, thus reducing contact resistance of the semiconductor and the electrode.例文帳に追加
溝8dを設けておくと、欠陥が少ない溝8dの側面においてp型III族窒化物半導体8と電極がオーミック接触し、半導体と電極の接触抵抗が低減する。 - 特許庁
To provide a method of smoothening the surface of a glass substrate having concave defects with the brief irradiation of laser beams and reducing burdens to a laser irradiation device to be used.例文帳に追加
レーザ光の短時間の照射で凹欠点を有するガラス基板表面を平滑化することができ、かつ、使用するレーザ照射装置への負担を軽減することができる新規の方法の提供。 - 特許庁
To obtain a laser beam machining device in which suppression of machining defects in laser machining such as deterioration of roughness of a cutting surface and gauging can be achieved and which can stably execute machining with high quality.例文帳に追加
切断面粗さの悪化、ガウジング等のレーザ加工における加工不良の抑制が達成でき、安定して高品質加工を行うことのできるレーザ加工装置を得ることを目的とする。 - 特許庁
To constitute a process for ceramising the base glass of glass ceramic such that the amount of energy required for this process can remarkably be reduced and the surface defects caused by contact with a levitation substrate can be prevented.例文帳に追加
セラミックガラスの材料ガラスの陶磁化プロセスを、そのために必要なエネルギ量を著しく削減することができ、かつ支持体プレートとの接触による表面欠陥を防止するように、構成する。 - 特許庁
Hereby, defects in a crystal surface are reduced to form an electrode having lower contact resistance with respect to a p-type GaN layer 5, and hence electrical characteristics of an electrode section is remarkably improved.例文帳に追加
これにより、結晶表面の欠陥が低減されp型GaN層5に対して接触抵抗の低い電極を形成でき、電極部の電気特性を著しく改善することができる。 - 特許庁
To provide an electrophotographic photoreceptor capable of obtaining an image over a long term, the image having a surface hardly scratched and prevented from lowering resistance, thereby preventing the occurrence of density unevenness and image defects.例文帳に追加
表面に傷が付きにくく、抵抗の低下が抑制されることにより、濃度ムラや画像欠陥の発生が抑制された画像が長期に渡り得られる電子写真感光体を提供する。 - 特許庁
To cast a cast-strip from the first charge, on which surface defects hardly occur in a steel sheet after rolling, when a charge of molten steel fed into a tundish as a unit is continuously casted.例文帳に追加
タンディシュに1チャージ分を単位として供給される溶鋼を連続鋳造する際、圧延後の板材に表面欠陥が発生し難い鋳片を、1チャージ目から鋳造できるようにする。 - 特許庁
To provide a heat resistive and abrasion resistive metallic rod for build-up welding, low in abrasion even in rubbing it while being subjected to a high surface-pressure at high temperature and also hard to generate defects in solidifying by thermal shrinkage.例文帳に追加
高温において高い面圧を受けながら擦動しても摩耗が少なく、かつ熱収縮による凝固時の欠陥が発生しにくい肉盛溶接用の耐熱・耐摩耗金属棒を提供する。 - 特許庁
Thus, the defects due to the reverse side transfer are reduced, since barriers are no more required as before to form vacuumed areas and the shapes of such barriers are not printed on the surface of the substrate 1.例文帳に追加
従って、従来の真空区画を形成するための土手が必要なく、土手の形状が基板1の表面に焼き付けられることがなくなるので、裏面転写による不良が少なくなる。 - 特許庁
Thus, when the rod 2 is inserted into the tube, it is not caused that the lower end part of the rod 2 is caught by an inlet of the tube to disturb the insertion of rod 2 or brought into contact with the inside surface of the tube to give defects.例文帳に追加
従って、ロッド2をチューブに挿入するときに、ロッド2の下端部がチューブの入り口に引っかかって挿入できなかったり、チューブ内面に接触して傷を付けたりすることが生じない。 - 特許庁
Defects of appearance, e.g. the deposition of glass on the surface of the wiring conductor, swelling, bubbling, and the like, are suppressed and good wire bonding performances or good mounting performances of a semiconductor element, a chip component, and the like, are attained.例文帳に追加
配線導体の表面へのガラスの析出や、膨れや発泡等の外観上の欠陥が抑えられ、良好なワイヤボンディング性や半導体素子・チップ部品等の実装性が得られる。 - 特許庁
To provide a measuring method capable of collating respective holes and an end surface dimension with a shop drawing by using a machining center for reducing defects in a processing part.例文帳に追加
中小企業では、NC工作機械マシニングセンタと同程度に高額な三次元測定機を導入することは難しく、加工現場での計測ができずに不良になるケ−スが多発している。 - 特許庁
To provide a positioning mechanism for a surface mounted connector to be mounted on a printed circuit board of electronic equipment, achieving sufficiently high positioning accuracy to prevent structural defects.例文帳に追加
本発明は、電子機器におけるプリント回路板での表面実装型コネクタの位置決め機構に関し、特に精度の高い位置決めとし、構造不良の発生を防止できるコネクタの位置決め機構とする。 - 特許庁
To provide an aqueous dispersion which is used for polishing chemical equipment, realizes high polishing speeds, can prevent surface defects such as dishing, erosion and scratch, at the time of over-polishing, and inhibits foaming.例文帳に追加
高い研磨速度を実現し、オーバーポリッシュ実施時のディッシング、エロージョンおよびスクラッチ等の表面欠陥を抑制でき、発泡が抑制された化学機械研磨用水系分散体を提供する。 - 特許庁
To provide abrasive tools containing high concentrations of hollow filler materials in a resin bond, suitable for polishing and backgrinding of hard materials, such as ceramic wafers and components requiring a controlled amount of surface defects.例文帳に追加
樹脂結合剤に高濃度の中空フィラー材料を含む研摩工具は、セラミックウェハおよび制御された量の表面欠陥を要する部品のような硬質材料の研磨および裏面研剤に適する。 - 特許庁
To provide a silicon wafer having a non-defective layer on whose surface oxygen of moderate concentration remains and from which void defects and fine oxygen precipitate and the like are dissipated, and further, which can exhibit a gettering capability.例文帳に追加
表面に適度の濃度の酸素が残存し、空孔欠陥や微小酸素析出物等が消失した無欠陥層を有し、しかもゲッタリング能力をも発揮し得るシリコンウェーハを提供する。 - 特許庁
To provide a bar steel hot rolling method by which the occurrence of surface flaws such as wrinkles and scale defects formed upon the hot rolling of a bar steel can be suppressed.例文帳に追加
条鋼材を熱間圧延する際に形成されるしわ疵やスケール疵という表面疵の発生を抑制することができる条鋼材の熱間圧延方法を提供することを課題とする。 - 特許庁
In the process, the wafer 1 is subjected to a thermal anneal so as to dissolve agglomerated vacancy defects present in a stratum extending from the front surface 3 toward the center 7 of the wafer 1.例文帳に追加
本発明の方法において、ウエハ1の前表面3から中心7に向かって広がる領域層に存在する凝集した空孔欠陥を溶解させるために熱アニーリング処理に供される。 - 特許庁
A second heat treatment of the wafer 10 in an inert gas atmosphere forms micro-defects 14 inside the wafer 10 as well as changes the wafer 10's surface layer into a defect-free layer 16.例文帳に追加
不活性ガス雰囲気中でウエハ10に第2の熱処理を施すことによりウエハ10の内部に微小欠陥14を形成すると共にウエハ10の表面層を無欠陥層16に変化させる。 - 特許庁
To achieve continuous casting for an Fe base alloy and an Ni base alloy having a low liquidus temperature of 1,330 to 1,420°C, while reducing occurrence of surface defects, improving a grinding yield, and reducing a production cost.例文帳に追加
液相線温度が1330〜1420℃と低いFe基合金およびNi基合金の連続鋳造を可能にすると共に、表面欠陥の発生が少なく、研削歩留まりが向上し、製造コスト低減をもたらす。 - 特許庁
To provide an image forming apparatus in which paper dust of paper can be thoroughly removed from a photoreceptor surface, occurrence of image defects during long-term use can be suppressed, and scratching, wear, etc., of the photoreceptor can be suppressed.例文帳に追加
用紙の紙粉を感光体表面から十分に除去でき、長期間使用時の画像欠陥を抑制でき、感光体におけるキズや磨耗等の発生を抑制できる画像形成装置の提供。 - 特許庁
To provide a defect detection method for easily detecting defects in an SOI substrate by performing etching while restraining deterioration in the surface roughness of a silicon film and uniformity in a film thickness within a plane.例文帳に追加
シリコン膜の表面粗さおよび面内の膜厚均一性の悪化を抑えながらエッチングすることで、SOI基板の欠陥を検出容易にする、欠陥検出方法を提供することを目的とする。 - 特許庁
By using the CMP slurry in the CMP and the formation of the metal wiring, defects formed on the surface of the metal film can be decreased, or protected, and reliable metal wiring can be formed.例文帳に追加
このCMPスラリーをCMP、または金属配線形成に使用することにより、金属薄膜の表面に生ずる欠陥を減らす、または防ぐことができ、信頼性の高い金属配線が形成できる。 - 特許庁
To provide a planarization method which suppresses defects on a surface of a polished film and can control a thickness of the polished film, and to provide a manufacturing method of a semiconductor device using such the planarization method.例文帳に追加
被研磨膜表面の欠陥を抑制するとともに、被研磨膜厚を制御可能な平坦化方法を提供し、かかる平坦化方法を用いた半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁
To obtain an excellent laminate applicable to various purposes by eliminating defects of a foamed polyethylene resin such as low abrasion resistance and low strength by effectively coating surface of the resin.例文帳に追加
発泡ポリエチレン樹脂の表面を効果的に被覆して、摩耗に弱い、強度が弱い、といった発泡ポリエチレン樹脂の欠点を解消して、各種用途に適用可能な優れた積層体を得る。 - 特許庁
To provide a wetting agent for semiconductor and a composition for polishing which can improve the wettability of the surface of a semiconductor substrate and can remarkably reduce fine defects such as the adhesion of particles.例文帳に追加
半導体基板表面の濡れ性を向上させ、パーティクルの付着等の微小な欠陥を著しく低減させることができる半導体用濡れ剤および研磨用組成物を提供する。 - 特許庁
This polyimide film is characterized in that the density of defects caused by a polymer modification product and an imide modification product on the film surface is 6.0×10^-3/m^2 or lower.例文帳に追加
フィルム表面上のポリマー変性状物とイミド変性状物起因による欠点の密度が、下記測定方法で測定した結果、6.0×10^-3個/m^2以下であることを特徴とするポリイミドフィルム。 - 特許庁
To provide a method for continuously casting steel, capable of reducing fine inclusions in the surface layer of the steel, which are caught into a solidified shell, to thereby manufacture a cast slab having few defects.例文帳に追加
介在物の凝固シェルへの捕捉による表層微小介在物を低減することができ、欠陥の少ない鋳片を製造することができる鋼の連続鋳造方法を提供すること。 - 特許庁
To effectively prevent the occurrence of scale defects, to reduce the surface roughness of a steel plate, and further to obtain excellent chemical convertibility and corrosion resistance even in the case of a high-tensile steel plate of ≥0.5 mass% Si content.例文帳に追加
Siを 0.5mass%以上含有する高張力鋼板であっても、スケール疵の発生を効果的に防止すると共に、鋼板の表面粗さを低減し、ひいては優れた化成処理および耐食性を得る。 - 特許庁
To provide an ultrasonic inspection method and an ultrasonic inspection device capable of evaluating a deterioration degree of a subject, and the integrity of a surface layer part of the subject, and detecting the direction of defects with high accuracy.例文帳に追加
被検体の劣化度評価と被検体表層部の健全性評価と欠陥の方向性を高精度に検出できる超音波検査方法及び超音波検査装置を提供する。 - 特許庁
To be able to check the presence or absence of soldering defects from the appearance in mounting a semiconductor device in which external terminals are arranged on the bottom surface of a package, and to improve the mounting reliability by the check.例文帳に追加
外部端子がパッケージ底面に配置されている半導体装置を実装する際に、半田不良の有無を外観上で確認できるようにし、それによって、実装信頼性を向上させる。 - 特許庁
After abrasion processing of ceramic part, when a metal foreign matter and defects such as pore, etc., on the surface are examined, a parent material constituting the background is distinguished from the foreign matter, the pore, etc., by color difference or brightness difference.例文帳に追加
セラミックス部品の研磨加工後表面の金属異物やポア等の欠陥を検査する際には、背景をなす母材と異物あるいはポア等とを色差あるいは明度差により識別する。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing a liquid crystal display device such that even when defects are caused in a glass substrate after a polarizing plate is laminated on the surface of a liquid crystal cell, the substrate can be repaired.例文帳に追加
液晶セルの表面に偏光板が貼られた後にガラス基板に欠損部が生じた場合でもその修復を行うことができる液晶表示装置の製造方法を提供する。 - 特許庁
Since the thermally depolymerizable or decomposable film is thermally depolymerized and removed by firing in the sintering process, the film is easily and completely removed and thereby a ceramic substrate having the surface free from defects can be obtained.例文帳に追加
熱解重合可能/分解可能なフィルムは、焼結工程中に熱解重合し、燃焼し去るため、容易に完全に除去され、これにより表面に欠陥のないセラミック基板が得られる。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing a gas sensor which prevents welding defects such as a blowhole from occurring even in the case that a weld zone is formed after pressing/fixing a protector in a main fitting having oil solution attached to its surface.例文帳に追加
表面に油剤が付着した主体金具にプロテクタを圧入固定し、その後溶接部を形成した場合にも、ブローホール等の溶接欠陥が生じないガスセンサの製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing a film free from defects such as streak without the corrosion of an extrusion die and the retention or adhesion of a resin on a runner surface, in the manufacture of the film by extruding a polyvinyl alcohol resin.例文帳に追加
ポリビニルアルコール樹脂の押出製膜において、押出ダイの腐食がなく、樹脂が流路面に滞留あるいは付着せず、スジ状の欠点等がないフィルムの製造法を提供することにある。 - 特許庁
To provide an abrasive composition for the CMP (chemical mechanical polishing) process which improves the problem of causing defects by damaging the surface of a material to be processed and leaving the abrasive and an abrasive residue on the surface of the processed material even after washing and to improve the filtering characteristics of the recovered composition.例文帳に追加
被加工物の表面に傷を生じたり、洗浄後も被加工物表面に研磨材や研磨屑が残存し、欠陥の原因となる問題の改良及び回収組成物の濾過性を改良するCMPプロセス用研磨組成物を提供する。 - 特許庁
To provide a pellet to whose surface a higher fatty acid amide is adhered, and which has the feeding property and gel generation-preventing effect of conventional higher fatty acid amide surface-adhered pellets, and prevents the generation of defects in a molded product even in a high speed molding condition.例文帳に追加
高級脂肪酸アミドが表面付着したペレットにおいて、従来の高級脂肪酸アミド表面付着ペレットが有するフィード性、ゲル発生防止効果を有しつつ、高速成形条件下においても成形物中の欠点の発生が防止される。 - 特許庁
To provide a cast slab with the solute element concentration of a cast slab surface layer part constant by adequately adjusting the solute element concentration of the cast slab surface layer part without generation of defects in the cast slab or degradation of the productivity attributable to reduction of the temperature of the molten steel inside a mold.例文帳に追加
鋳型内部の溶鋼温度の低下に起因した鋳片欠陥の発生や生産性の低下を招くことなしに、鋳片表層部における溶質元素の濃度を適切に調整して、鋳片表層部の溶質元素濃度が均一な鋳片を得る。 - 特許庁
To provide a surface reforming method for an aluminum casting material, which method can eliminate internal defects of the aluminum casting material or to provide a method for repairing a poor appearance of the aluminum casting material, which method can repair the poor appearance caused on the surface of the aluminum casting material.例文帳に追加
アルミニウム鋳物材の内部欠陥を消滅させることができ、又はアルミニウム鋳物材表面に生じている外部不良を補修することができるアルミニウム鋳物材の表面改質法及びアルミニウム鋳物材の外観不良補修法の提供。 - 特許庁
To provide a glass plate that makes it possible to obtain an excellent surface of an information recording medium by improving the flatness of its waving surface and can suppress defects on the completed information recording medium when making high density recording.例文帳に追加
うねり表面の平坦度を向上させて基板表面の状態を良好なものとし、情報記録媒体としたときの不具合の発生を抑制することができ、高密度記録化に対応することができる情報記録媒体用ガラス基板を提供する。 - 特許庁
A hard coat film includes a hard coat layer on at least one surface of a base film, in which a contact angle of water on a surface is 78° or more and 90° or less, a contact angle of n-dodecane is 22° or less, and the number of defects having a diameter of 30 μm or larger is 20 pieces/m^2 or less.例文帳に追加
基材フィルムの少なくとも片面に、表面の水の接触角が78度以上90度以下、n−ドデカンの接触角が22度以下であり、径が30μm以上の欠点の個数が20個/m^2以下であるハードコート層を有するハードコートフィルム。 - 特許庁
To provide a method of manufacturing a glass substrate for an information recording medium which has desired flatness and surface roughness and which has few micro defects on a main surface, and to provide the information recording medium using the glass substrate for information recording medium manufactured by the manufacturing method.例文帳に追加
所望の平坦度、表面粗さを備え、主表面の微小欠陥が少ない情報記録媒体用ガラス基板の製造方法及び該製造方法により製造した情報記録媒体用ガラス基板を用いた情報記録媒体を提供する。 - 特許庁
To provide a round rod inspection apparatus and a method of inspecting a round rod for easily detecting surface defects, such as a flaw and a smear in an outer peripheral surface of a round rod including an extremely thin pipe shape by a simple device consisting of only a laser light source and a light receiving sensor.例文帳に追加
レーザ光源と受光センサのみの簡易な装置で容易に極細のパイプ形状を含む丸棒の外周面の疵や汚れ等の表面欠陥を検出することができる丸棒検査装置及び丸棒検査方法を提供することにある。 - 特許庁
To provide a film which, when used as a liquid crystal component part such as a liquid crystal polarizing plate and a retardation plate or as a PDP component part, is less in scratches on the film surface and surface defects of oligomers and the like and shows good transparency, good optical performances and superior adhesion.例文帳に追加
液晶偏光板、位相差板等の液晶構成部材、PDP部材として用いた際に、フィルム表面キズやオリゴマー等の表面欠陥が少なく、透明性良好であり、光学的性能の良好で接着性に優れたフィルムを提供する。 - 特許庁
To provide an visual inspection device for accurately detecting the defects developed on each face, independently of the surface shape of each face, where the surface of an inspected body is formed out of a multitude of faces, and in particular, where each developed on a corner part formed out of two faces.例文帳に追加
被検査体の表面が多数の面で形成されている場合、各面の表面形状に関係なく、各面に発生した欠陥、特に、面と面とで形成される角部に発生した欠陥を正確に検出できる外観検査装置を提供する。 - 特許庁
To consistently manufacture a product steel strip of excellent quality and performance without raising degradation of the surface quality of the product steel strip or problems associated with the secondary working such as pressing by defect removal trace caused by removing surface defects of a hot-rolled steel strip.例文帳に追加
熱延鋼帯の表面欠陥除去で生じた欠陥除去痕により製品鋼帯の表面品質の低下やプレス成形などの2次加工に伴う問題を生じさせることなく、優れた品質及び性能を有する製品鋼帯を安定して製造する。 - 特許庁
To obtain an inter coating composition which can sufficiently covering surface defects of chipping primer including a dust part or an under coating film provide a coating film with high surface smoothness and can clearly reproduce color development of a top coating film.例文帳に追加
ダスト部を含むチッピングプライマーや下地塗膜の表面欠陥を十分に隠蔽することで、得られる塗膜に高い表面平滑性を付与でき、更にはその上に形成される上塗り塗膜の発色を鮮映に再現できる中塗り塗料組成物を提供すること。 - 特許庁
By interposing the liquid film 20 between the mold 12 and the rubber layer 16 upon the extraction of the roller 18 from the mold 12, the surface of the roller 18 is prevented from scraping against the inside of the mold 12, which gives the roller 18 free of defects on the rubber surface.例文帳に追加
金型12からローラ18を引き抜く際に、金型12とゴム層16との間に液膜20を形成することにより、ローラ18表面が金型12内面に擦れることがないので、ゴム表面に欠陥のないローラ18を容易に得ることができる。 - 特許庁
To obtain low-cost polishing slurry that has excellent effect with respect to defects and smoothness of the surface to be polished and to provide a method for producing a crystallized glass substrate for an information recording medium having high surface smoothness and a method for producing a high-performance information recording medium.例文帳に追加
低コストであり、且つ研磨される表面の欠陥及び平滑性に関して優れた研磨スラリー、表面平滑性の高い情報記録媒体用結晶化ガラス基板の製造方法、及び高性能の情報記録媒体の製造方法を提供する。 - 特許庁
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