「surface defects」に関連した英語例文の一覧と使い方(20ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a method for manufacturing a polymer film with a visibility angle magnification effect which is free from rupture and surface defects during tenter stretching and also a trimming failure, and shows imparted appropriate retardation characteristics, and also to provide a phase differential film.例文帳に追加

テンター延伸時の破断や表面欠点がなく、耳切り不良もなく、適度なレタデーション特性が付与された視野角拡大効果を有するポリマーフィルムの製造方法及び位相差フィルムを提供すること。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a silicon epitaxial wafer with fewer surface defects, excellent layer thickness uniformity of a silicon single-crystal epitaxial layer, and excellent haze level even at a small inclination angle from {110} plane.例文帳に追加

｛１１０｝面からの傾斜角度が小さくてもヘイズレベルが良好で、かつシリコン単結晶エピタキシャル層の層厚均一性も良好であり、更に表面欠陥の少ないシリコンエピタキシャルウェーハの製造方法を提供する。 - 特許庁

With this method for forming a semiconductor layer, a structural defect suppressing substance which suppresses structure defects in the semiconductor layer is supplied to then top surface of a substance layer, where the semiconductor layer is formed.例文帳に追加

半導体層を形成する半導体層の形成方法において、半導体層中の構造欠陥を抑制する構造欠陥抑制物質を、当該半導体層が形成される物質層の表面に供給する。 - 特許庁

To provide a method of rapidly growing a SiC single crystal epitaxial thin film which is free from the contamination of unusual polytypes and has little or no surface defects and a lower density of residual impurities.例文帳に追加

異形ポリタイプの混入がなく、また、表面欠陥が少ないか又は全くなく、さらには残留不純物密度のより少ないＳｉＣ単結晶エピタキシャル薄膜を高速で成長させる方法を提供する。 - 特許庁

To provide a semi-conducting polyimide belt to make an intermediate transfer belt which can maintain the toner sticking to its surface even in a low humidity environment and is hardly producing white defects in the secondary transfer image or toner dust.例文帳に追加

低湿度下においてもベルト表面に付着したトナーの保持性が良好で、二次転写像の白抜けやトナーのチリ等を生じ難い中間転写ベルトを実現できる半導電性ポリイミドベルトを提供する。 - 特許庁

Since the dry etching surface of the p-type group III nitride semiconductor 8 is rendered n-type by defects caused by etching, ohmic contact cannot be attained when an electrode is formed on a flat plane subjected to dry etching.例文帳に追加

ｐ型III族窒化物半導体８のドライエッチング面は、エッチングによって生じた欠陥によってｎ型化しているために、平坦平面にドライエッチングしておいて電極を形成するとオーミック接触しない。 - 特許庁

Then, this distortion can be formed, based on the structure on the boundary face or end parts of the circuit elements A and B, or based on the defects formed on the surface of the semiconductor substrate or the semiconductor material layer.例文帳に追加

そして、この歪みは、例えば、回路素子Ａ、Ｂの界面や端部におけるその構造に基づき、或いは半導体基板又は半導体材料層の表面に形成した欠陥に基づき形成することができる。 - 特許庁

The formed boule is of microelectronics device quality, such as having a transverse dimension greater than 1 cm, a length greater than 1 mm, and a top surface defect density of less than 10^7 defects per 1 cm^2.例文帳に追加

形成されるブールは、マイクロエレクトロニクス・デバイス品質を含み、例えば、１ｃｍより大きい断面寸法、１ｍｍを超える長さ、および１ｃｍ^2あたり１０^7未満欠陥の上面欠陥密度を有する。 - 特許庁

To provide an aqueous suspension agrochemical formulation which solves the defects of conventional aqueous suspension agrochemical formulations, is excellent in dispersibility in water or in spreadability on the surface of water, is safe, and can profitably be applied.例文帳に追加

従来の水性懸濁農薬製剤のもつ欠点を解消し、水中分散性あるいは水面拡展性にすぐれ、且つ安全で経済的施用を可能にする水性懸濁農薬製剤を提供すること。 - 特許庁

To provide a GaN single crystal substrate capable of flattening the surface of an epitaxial layer and reducing crystal defects in the epitaxial layer, to provide a nitride compound semiconductor epitaxial substrate and to provide its manufacturing method.例文帳に追加

エピタキシャル層表面の平坦化及び当該エピタキシャル層内の結晶欠陥の低減が可能なＧａＮ単結晶基板、窒化物系化合物半導体エピタキシャル基板およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for producing a porous polytetrafluoroethylene (PTFE) film composite having few surface defects by improving the heating method in the step of laminating a PTFE porous film and an air-permeable carrier.例文帳に追加

ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）多孔質膜と通気性支持材との積層工程における加熱方法を改善することにより、表面に欠陥の少ないＰＴＦＥ多孔質膜複合材の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an extruder capable of forming an extrusion member in a variety of width on a roller surface, so that the extrusion members could have various widths throughout an extrusion process, while overcoming defects of the conventional extruder.例文帳に追加

従来から知られている押出装置の欠点を克服しつつ、押し出し工程で被押し出し部材を様々な幅を有するようにローラの表面上に形成することができる押出装置を提供する。 - 特許庁

To provide an image processing device, image processing method and a computer program enabling highly accurate detection of surface irregularity and existence of defects in vicinity of a contour line, as well as enabling secure determination on non-defective items.例文帳に追加

表面の凹凸、輪郭線近傍の欠陥等の存在を高い精度で検出することができ、良品判定を確実に行うことができる画像処理装置、画像処理方法、及びコンピュータプログラムを提供する。 - 特許庁

Thus the occurrence of recessed portions on the phase-change material layer pattern or formation of a surface oxide film is suppressed to be able to considerably reduce the occurrence of defects in the phase-change memory device.例文帳に追加

これによって、相変化物質層パターンの上部に窪みが発生するか、あるいは表面酸化膜が形成されることを抑制して相変化メモリー装置の不良発生を著しく減少させることができる。 - 特許庁

To provide a glass lubricant for making tubes by hot extrusion, which improves the stripping resistance of glass, reduces the rough surface of hot extruded tube by pickling and the pickling cost, and also suppresses defects such as forced marks and seizure.例文帳に追加

ガラスの剥離性を改善し、熱間押出管の酸洗肌荒れや酸洗コスト低減するとともに、押込み疵や焼付き等の欠陥を抑制する熱間押出製管用ガラス潤滑剤を提供する。 - 特許庁

To obtain the propagation rate with little scattering while there are few defects or the like in the crystal in a manufacture method of a board for a piezoelectric device, the board for the piezoelectric device, and a surface acoustic wave device using this.例文帳に追加

圧電デバイス用基板の製造方法と圧電デバイス用基板、及びこれを用いた弾性表面波デバイスにおいて、結晶中の欠陥等が少ないとともに、バラツキの少ない伝搬速度が得られること。 - 特許庁

To provide a process for continuous galvanizing of a metal strip capable of attaining an extremely low defect density for satisfying the request of a customer demanding a surface free from visual defects, and to provide an apparatus therefor.例文帳に追加

外観欠陥のない表面を求める顧客の要求を満足させるだけの、きわめて低い欠陥密度を達成することのできる、金属ストリップの連続亜鉛めっきプロセスおよび装置を提供する。 - 特許庁

To provide an electro-optic device capable of preventing the occurrence of defects, such as hillock resulting from heat stress, on the surface of a pixel electrode, and to provide a projection type display device using the electro-optic device.例文帳に追加

熱応力に起因するヒロック等の欠陥が画素電極の表面に発生することを防止することができる電気光学装置、および該電気光学装置を用いた投射型表示装置提供する。 - 特許庁

The appearance inspection is applied to the downward surface 1a where the transfer pattern of the transfer mold 1 is formed and determines whether there are defective parts on the transfer mold 1 so as to prevent the defects of the wiring pattern prior to transferring to the substrate.例文帳に追加

配線パターンの欠陥を防止するため、基板への転写に先立ち、転写用型１に欠損部があるかどうか、転写用型１の転写パターンの形成面１ａを下向きにして外観検査を行う。 - 特許庁

The coating method involves applying a powder coating to a metal material having surface defects and baking and hardening the pint and the powder coating to be used here has a minimum melt viscosity in a range of 1.0 to 2.0 Pa s.例文帳に追加

表面欠陥を有する金属材料に粉体塗料を塗布し、焼付硬化を行なう塗装方法であって、ここで使用する粉体塗料の溶融最低粘度が、１．０〜２．０Ｐａ・ｓの範囲である。 - 特許庁

The ultrasound inspection method for noisy materials and the related probe are disclosed to inspect defects in a cast material that uses a polycarbonate delay (14) layer having a first surface configured to be disposed on a surface of the cast material and an acoustic crystal element (12) disposed on a second surface of the polycarbonate delay layer.例文帳に追加

鋳造材料の欠陥を検査するために、鋳造材料の表面上に配置されるように構成された第１の表面を有するポリカーボネートディレイ（１４）層と、該ポリカーボネートディレイ層の第２の表面上に配置された音響水晶素子（１２）とを用いた、雑音のある材料の超音波検査方法及び関連するプローブが開示される。 - 特許庁

To provide the automatic inspection apparatus of a mold capable of simultaneously detecting the presence of recessed and protruded defects on the surface of a metal mold for anti-glaring treatment having a chromium plating surface and capable of detecting a defect with high inspection precision even with respect to a plurality of kinds of molds having different surface uneven shapes.例文帳に追加

クロムめっき表面を有する防眩処理用金属金型の表面における凹み状欠陥および凸状欠陥の有無を同時に検出でき、異なる表面凹凸形状を有する複数種類の金型に対しても高い検査精度で欠陥の検出を行なうことができる金型の自動検査装置を提供する。 - 特許庁

The inspecting apparatus, which inspects possible defects on the surface of the wafer from the image of the wafer 1 detected by the CCD camera 30, has a rotary driver 32 able to eliminate the moire, by variably adjusting the rotary position relation within an image surface between the image receiving surface of the CCD camera 30 and the image of the wafer formed thereon.例文帳に追加

この検査装置においては、ＣＣＤカメラ３０により検出されたウエハ１の像からウエハの表面の欠陥の有無が検査されるのであるが、ＣＣＤカメラ３０の受像面とここに形成されるウエハの像との像面内における回転位置関係を可変調整してモアレを消去可能な回転駆動装置３２を有する。 - 特許庁

To provide a polishing liquid composition which can make a polishing speed faster without generating surface defects on a polished body surface, a polishing method using the polishing liquid composition, and an oxide single- crystal substrate which has superior surface quality for a precise polishing process for the oxide single-crystal substrate of lithium tantalate or lithium niobate.例文帳に追加

タンタル酸リチウムあるいはニオブ酸リチウム等の酸化物単結晶基板の精密研磨加工において、被研磨物表面に表面欠陥を生じさせること無く、研磨速度を向上し得る研磨液組成物及び該研磨液組成物を用いた研磨方法、表面品質に優れた酸化物単結晶基板を提供すること。 - 特許庁

To provide a method for reforming the surface quality of a copper wire or a copper alloy wire for manufacturing an ultrafine wire with a diameter of 20 μm or less, which does not form surface defects such as a scratch, a crack and a stamp of a copper powder on the surface of a wire, and does not cause the breaking of the wire when drawing the wire into the ultrafine wire.例文帳に追加

極細線製造用の銅線或いは銅合金線であって、線材表面に傷、ひび割れ、銅粉のスタンプ等の表面欠陥がなく、極細線の伸線加工時に断線等が生じることがない、２０μｍ以下の極細線を製造するための銅線或いは銅合金線の表面性状改質方法を提供することにある。 - 特許庁

The surface defect evaluation device evaluates surface defects of a measurement object, on the basis of measurement point data and reference point data, after aligning the measurement point and the reference point, on the basis of the sequential convergence processing for the sequential convergence of the distance between the measurement point of the measurement object and the reference point, corresponding to a reference surface shape of the measurement object.例文帳に追加

測定対象物の測定点と測定対象物の基準表面形状に対応する基準点との間の距離を逐次収束させる逐次収束処理に基づいて前記測定点と前記基準点とを位置合わせした後の測定点データと基準点データとに基づいて測定対象物の表面欠陥を評価する。 - 特許庁

Surface tension adjusting layers 13 are formed in the pinhole parts 31, 41 and peripheral parts and the pinhole defects are corrected by removing the surface tension adjusting layers only within the pinhole parts and discharging a coloring material corresponding to a light shielding layer 11 or a colored layer 12 from an ink jet head and thereafter the surface tension adjusting layers in the peripheral parts of the pinholes are removed.例文帳に追加

ピンホール部３１、４１及び周辺部に表面張力調整層１３を形成し、ピンホール部内のみ表面張力調整層を除去し、遮光層１１若しくは着色層１２に対応する着色材料をインクジェットヘッドから吐出してピンホール欠陥を修正した後、ピンホール周辺部の表面張力調整層を除去する。 - 特許庁

In the surface defect inspecting apparatus 1 which emits light to a web (a), receives transmitted light or reflecting light of the light and also inspects a surface of the web (a) by an output signal from a light-receiving part, the processing means for detecting and processing positions and generation times of surface defects generated to the web (a) are formed by independent modules.例文帳に追加

ウェブａに光を投光し、この透過光や反射光を受光するとともに、この受光部からの出力信号によって、ウェブａの表面の検査を行う表面欠陥検査装置１において、ウェブａに生じた表面欠陥の位置や発生時刻を検知して処理するための処理手段をそれぞれ独立したモジュールで形成しておく。 - 特許庁

To provide a surface treatment method by which surface coating treatment of titanium oxide particles used in the middle layer of an electrophotographic photoreceptor is uniformly attained one by one and to provide a good electrophotographic photoreceptor using titanium oxide particles surface-coated by the method and not causing image defects.例文帳に追加

本発明の目的は電子写真感光体の中間層に用いる酸化チタン粒子の表面被覆処理が個々の粒子で均一に達成される表面処理方法を提供するものであり、又該表面被覆された酸化チタン粒子を用いた画像欠陥を発生させない、良好な電子写真感光体を提供することである。 - 特許庁

The manufacturing method for an epitaxial wafer comprises: RIE elimination step of eliminating defects that are detected by the RIE method and measurable in an area up to at least 0.5 μm depth from the surface of the silicon substrate, by applying rapid heat treatment to the silicon substrate; and a step of forming the silicon epitaxial layer on the surface of the silicon substrate where defects having been detected by the RIE method are eliminated.例文帳に追加

前記シリコン基板に急速熱処理を施すことによって、少なくとも前記シリコン基板の表面から０．５μｍの深さまでの領域に存在するＲＩＥ法により検出される欠陥を消滅させるＲＩＥ欠陥消滅工程と、前記ＲＩＥ法により検出される欠陥を消滅させたシリコン基板の表面上に前記シリコンエピタキシャル層を形成する工程とを具備するエピタキシャルウェーハの製造方法。 - 特許庁

To fully cope with the lifetime prolongation of an image forming apparatus and processing cartridge, accompanying speedup (process speed up), by preventing the occurrence of image defects caused by exfoliation discharge, between an image carrier surface and a rear end of a transfer material.例文帳に追加

像担持体表面と転写材後端部の剥離放電によって引き起こされる画像不良を防止して、高速化（プロセススピードｕｐ）に伴う、画像形成装置やプロセスカートリッジの長寿命化に十分対応させる。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a hot-rolled steel plate having excellent surface quality by which scaly defects caused by steel-making and hot-rolling can be reduced without needing the operation restriction of a heating furnace or the enhancement of a descaling capacity.例文帳に追加

加熱炉の操業規制やデスケーリング能力の向上を必要とすることなく、製鋼起因および熱延起因のスケール性欠陥を低減することができる表面品質が良好な熱延鋼板の製造方法を提案する。 - 特許庁

A vinylidene chloride copolymer latex to which a minute amount of an aqueous polysodium acrylate solution has been added in advance is excellent in applicability to a plastic film and does not cause a problem with defects in external appearance of a coating film, such as cracks on the coating film surface, even when applied thick.例文帳に追加

ポリアクリル酸ナトリウムの水溶液を微量添加した塩化ビニリデン系共重合体ラテックスは、プラスチックフィルムへの塗工性に優れ、高塗布量域でも塗面クラックなどの塗膜外観不良問題を発生させない。 - 特許庁

To provide a highly reliable defect inspection device detecting defects without omission by forming, in a clear contrast image, an image of a rugged defect with small curvature changes formed on a transparent body sheet-like material surface.例文帳に追加

透明体シート状物表面に発生した曲率変化の小さな凹凸状欠陥を、最も鮮明な明暗像になる状態で結像させることにより、欠陥を漏れなく検出し、信頼性の高い欠陥検査装置を提供する。 - 特許庁

To provide a clad welding method capable of preventing occurrence of fusion defects while suppressing the dilution of weld metal with a comparatively simple process and covering the surface of a base material with the weld metal over a wide range.例文帳に追加

比較的簡易な手法にて、溶接金属の希釈を抑制しつつ、融合不良の発生を防止して、当該溶接金属で母材の表面を広範囲に亘って覆うことができるクラッド溶接方法を提供することにある。 - 特許庁

To provide an ultrasonic flaw detection method of a steel bar hardly influenced by foreign substances and air bubbles attached to a surface of the steel bar, and accurately and inexpensively implementing ultrasonic flaw detection of defects that exist in the inside of the steel bar.例文帳に追加

棒鋼の表面に付着した異物や気泡の影響を大きく受けることなく棒鋼の内部に存在する欠陥を精度よく且つ低コストで超音波探傷することのできる棒鋼の超音波探傷方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method and an apparatus for manufacturing a sheet-like foam which enable manufacture of a sheet-like foam having uniform quality, more specifically reduced surface defects with uniformity of the thickness and the foaming magnification, immediately after the start of operation of the apparatus.例文帳に追加

均一な品質の製品、特に厚みや発泡倍率が均一で表面欠点の少ないシート状発泡体を装置スタート直後から製造することができるシート状発泡体の製造方法およびその装置を提供する。 - 特許庁

To manufacture a coil having a defect marking which can reliably and easily discriminate harmful defects irrespective of presence/absence the adhesion of the rust preventive on a surface of a steel plate without generating any flaws in the steel plate by the defect marking.例文帳に追加

欠陥マーキングによって鋼板に疵を発生することなく、鋼板表面に防錆油等の油付着の有無にかかわらず有害欠陥を確実かつ容易に識別可能とする欠陥マーキングしたコイルを製造する。 - 特許庁

To enable easy and sure removal of defects which are unavoidably generated on a surface or the interior of a plating material to form a copper wiring, by embedding a copper in a fine recess of a semiconductor device through, for example, electrolytically plating.例文帳に追加

例えば電解めっきで半導体装置の微細凹み内へ銅を埋込んで銅配線を形成するにあたって、不可避的にめっき材料の表面や内部に生じる欠陥を容易かつ確実に消去できるようにする。 - 特許庁

To make a plating deposition speed for wiring uniform on the entire surface of a wafer, and at the same time to prevent voids and defects from occurring inside the wiring in a semiconductor device-manufacturing process for manufacturing copper wiring by the electric plating method.例文帳に追加

銅配線を電気めっき法により製造する半導体装置製造プロセスにおいて、配線のためのめっき成膜速度をウエハ全面にて均一にし、かつ配線の内部にボイドや欠陥が発生するのを防止する。 - 特許庁

To obtain an electrophotographic photoreceptor which prevents the crystallization of an electric charge transferring agent on the surface of an overcoat layer, prevents the occurrence of image defects due to the crystallization of the electric charge transferring agent and improves a printed image.例文帳に追加

オーバコート層表面における電荷輸送剤の結晶化を防止し、電荷輸送剤の結晶化に基づく画像欠陥を防止して、印刷画像を良好なものとすることができる電子写真感光体を提供する。 - 特許庁

The optical film is an optical film comprising a cycloolefin resin and having a film thickness of 30 μm or smaller, wherein 5/m^2 or smaller spot defects of a diameter of 30 μm or larger exist on its surface.例文帳に追加

環状オレフィン系樹脂からなる膜厚３０μｍ以下の光学フィルムであって、フィルム表面における直径３０μｍ以上の点状欠陥が、５個／ｍ^２以下であることを特徴とする、光学フィルムを提供する。 - 特許庁

To provide a glass having a large thermal expansion coefficient at a low temperature, capable of easily obtaining a clean surface without defects such as scratches by cleaning with an acidic cleaning solution and the like, and capable of easily manufacturing on a large scale at a low price.例文帳に追加

低温での熱膨張係数が大きく、酸性洗浄液などによる洗浄によって、傷などの欠点のない清浄な表面を容易に得ることができ、かつ安価で容易に大量に製造できるガラスを提供する。 - 特許庁

To solve problems of image defects and deterioration of vacuum accompanying scrape of a surface of an interlayer insulating membrane arranged between a screen image signal wiring and a scanning signal wiring, and provide a long life image display device superior in display characteristics.例文帳に追加

映像信号配線と走査信号配線間に配置される層間絶縁膜の表面の削れに伴う画質不良、真空度劣化を解決し、表示特性の優れた長寿命の画像表示装置を提供する。 - 特許庁

In the thermal treatment of SOI base substance in a reducing atmosphere whose temperature is lower than the melting point of single-crystal silicon, in order to prevent generation of HF defects, at least the surface of a retainer for retaining the SOI base substance is made of silicon.例文帳に追加

単結晶シリコンの融点より低い温度の還元性雰囲気中でＳＯＩ基体の熱処理において、ＨＦ欠陥を防止するために前記ＳＯＩ基体を保持する保持具の少なくとも表面を珪素にする。 - 特許庁